JP5495623B2 - 基板の加工方法、液体吐出ヘッド用基板の製造方法および液体吐出ヘッドの製造方法 - Google Patents
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Description
(B)基板に形成された犠牲層を被覆するように耐エッチング性を有するエッチングストップ層を形成する工程
(C)犠牲層に対応した開口部を有するエッチングマスク層を前記基板の前記一面と対向する側の前記面に形成する工程
(D)前記開口部より犠牲層が露出するまで基板を結晶軸異方性エッチングにてエッチングする工程
(E)エッチングにより露出した部分より犠牲層をエッチングして除去する工程
(F)エッチングストップ層の一部を除去しスルーホールを形成する工程。
(第1の実施形態)
以下では、本発明の一例の基板の加工方法の一例としての液体吐出ヘッド用基板の製造方法を説明する。図1(a)〜(d)は、本実施例に係る基板に穴を形成する方法を示すステップ図である。
(第2の実施形態)
次に、第1実施形態に係る基板の製造方法を利用した、液体吐出ヘッドの製造方法について詳細に説明する。液体吐出ヘッドとしては、液体であるインクを吐出して記録を行うインクジェットヘッドや、医療分野において液状薬剤を霧状として肺吸入させる際に使用される吸入装置などで液体を微小な液滴として噴霧吐出するヘッドなどが挙げられる。
(第3の実施形態)
図6(a)は、図4に示した液体吐出ヘッドの放熱部材4の部分を示した拡大断面図である。放熱部材4はキノコ形状に形成されており、流路形成部材3に覆われた傘の部分が係止部となって、流放熱部材4が流路形成部材3から外れることを妨げている。したがって、供給口8から流路6に流れ込む液体から放熱部材4に加わる力などによって、放熱部材4が流路形成部材3から外れることを防止できる。
最後に、流路形成部材3を完全に硬化させることにより液体吐出ヘッド2が得られる。流路形成部材3の硬化は、200℃で1時間加熱することにより行った。
102 エッチングストップ層
103 吐出エネルギー発生素子
106 犠牲層
107 配線層
108 レーザーストップ層
109 先導穴
110 ノズル材
112 穴
Claims (14)
- 一方の面側にレーザー光の透過を抑制することが可能な材料からなる層が設けられた基板を用意することと、
前記基板の前記一方の面の裏面から前記一方の面に向って、レーザー光により前記基板に加工を行い、前記レーザー光を前記層に到達させることにより前記基板に孔を形成することと、
前記裏面から前記孔を通じて前記基板に対してエッチング液でウェットエッチングを行うことと、を有し、
前記レーザー光の透過を抑制することが可能な材料からなる層上に前記エッチング液に対して耐性を有する材料からなる層が設けられており、前記ウェットエッチングにおいて前記エッチング液を前記エッチング液に対して耐性を有する材料からなる層に到達させることを特徴とする基板の加工方法。 - 前記レーザー光によるアブレーション加工により前記基板に前記孔を形成する、請求項1に記載の基板の加工方法。
- 前記レーザー光がYAGレーザーの基本波である、請求項1または2に記載の基板の加工方法。
- 前記材料は金、銀または銅のいずれかである、請求項1から3のいずれか1項に記載の基板の加工方法。
- 前記基板は配線層を有する、請求項1から4のいずれか1項に記載の基板の加工方法。
- 前記レーザー光の透過を抑制することが可能な材料からなる層と前記配線層とは同種の金属で形成されている、請求項5に記載の基板の加工方法。
- 前記レーザー光の透過を抑制することが可能な材料からなる層と前記配線層とは同じ工程で製造される、請求項5または6に記載の基板の加工方法。
- 前記レーザー光の透過を抑制することが可能な材料からなる層の厚さが0.5μm以上5.0μm以下である、請求項1から7のいずれか1項に記載の基板の加工方法。
- 液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を一方の面に備えた基板と、前記基板の前記一方の面と前記一方の面の裏面とを連通するように前記基板に設けられ、エネルギー発生素子に液体を供給するための供給口と、を有する液体吐出ヘッド用基板の製造方法であって、
一方の面側にレーザー光の透過を抑制することが可能な材料からなる層が設けられた基板を用意することと、
前記基板の前記一方の面の裏面から前記一方の面に向い前記基板にレーザー光により加工を行い、前記レーザー光を前記層に到達させることにより前記基板に孔を形成することと、
前記裏面から前記孔を通じて前記基板に対してエッチング液でウェットエッチングを行うことにより前記供給口を形成することと、を有し、
前記レーザー光の透過を抑制することが可能な材料からなる層上に前記エッチング液に対して耐性を有する材料からなる層が設けられており、前記ウェットエッチングにおいて前記エッチング液を前記エッチング液に対して耐性を有する材料からなる層に到達させることを特徴とする液体吐出ヘッド用基板の製造方法。 - 前記層が設けられた前記基板を用意することは、
前記基板上に前記材料からなる層を設けることと、
前記層の一部を利用して前記エネルギー発生素子に電気的に接続される配線層を形成することと、を含み、前記レーザー光の透過を抑制することが可能な材料からなる層と前記配線層とは同じ工程で製造される、請求項9に記載の液体吐出ヘッド用基板の製造方法。 - 液体を吐出口から吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を一方の面に備えた基板と、前記吐出口と連通する流路を形成するための流路形成部材と、前記基板の前記一方の面と前記一方の面の裏面とを連通し、前記流路に液体を供給するための供給口と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
一方の面側にレーザー光の透過を抑制することが可能な材料からなる層が設けられた基板を用意することと、
前記層上に、前記層が露出しないように前記流路形成部材となる部材を設けることと、
前記基板の前記一方の面の裏面から前記一方の面に向って、レーザー光により前記基板に加工を行い、レーザー光を前記層に到達させることにより前記基板に孔を形成することと、
前記裏面から前記孔を通じて前記基板に対してウェットエッチングを行うことにより前記供給口を形成することと、を有し、
前記供給口を形成した後に、前記層の一部が前記供給口と対向するように前記層を露出する液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記基板は前記エネルギー発生素子に電気的に接続される配線層を有する、請求項11に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記レーザー光の透過を抑制することが可能な材料からなる層と前記配線層とは同種の金属で形成されている、請求項12に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記レーザー光の透過を抑制することが可能な材料からなる層と前記配線層とは同じ工程で製造される、請求項12または13に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
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