JP2016117155A5 - - Google Patents

Description

本発明の基板の加工方法は、エッチングによって基板にトレンチを形成するトレンチ形成工程と、前記トレンチの内部に第１の保護層を形成する第１の保護層形成工程と、前記第１の保護層における、前記トレンチをさらに掘り進める位置を覆う部分について除去する第１の保護層除去工程とを複数サイクル順次繰り返し、前記トレンチ形成工程から前記第１の保護層除去工程までの１サイクルが複数サイクル繰り返し行われる第１のサイクルと、前記第１のサイクルに続いて第１のサイクルの後に行われる前記トレンチ形成工程から前記第１の保護層除去工程までの１サイクルが複数サイクル繰り返し行われる第２のサイクルと、の間に、前記第１のサイクルで形成したトレンチの内部に第２の保護層を形成する第２の保護層形成工程と、前記第２の保護層における、前記トレンチをさらに掘り進める位置を覆う部分を除去する第２の保護層除去工程とを備え、エッチングによって前記基板にトレンチを形成するトレンチ形成工程は、前記第１サイクルと前記第２サイクルとの間には行われないことを特徴とする。

Claims (12)

1. エッチングによって基板にトレンチを形成するトレンチ形成工程と、
   前記トレンチの内部に第１の保護層を形成する第１の保護層形成工程と、
   前記第１の保護層における、前記トレンチをさらに掘り進める位置を覆う部分について除去する第１の保護層除去工程と
   を複数サイクル順次繰り返し、
   前記トレンチ形成工程から前記第１の保護層除去工程までの１サイクルが複数サイクル繰り返し行われる第１のサイクルと、前記第１のサイクルに続いて第１のサイクルの後に行われる前記トレンチ形成工程から前記第１の保護層除去工程までの１サイクルが複数サイクル繰り返し行われる第２のサイクルと、の間に、前記第１のサイクルで形成したトレンチの内部に第２の保護層を形成する第２の保護層形成工程と、前記第２の保護層における、前記トレンチをさらに掘り進める位置を覆う部分を除去する第２の保護層除去工程とを備え、
   エッチングによって前記基板にトレンチを形成するトレンチ形成工程は、前記第１のサイクルと前記第２のサイクルとの間には行われないことを特徴とする基板の加工方法。
2. 前記第２のサイクルの前記トレンチ形成工程から前記第１の保護層除去工程までの繰り返しのサイクル数をｎとすると、前記第２の保護層形成工程で形成される前記第２の保護層の厚さは、前記第１の保護層形成工程で形成される前記第１の保護層の厚さの（（１／２）ｎ〜（３／２）ｎ）倍である請求項１に記載の基板の加工方法。
3. 前記基板はシリコンによって形成され、
   前記トレンチ形成工程では、Ｆ系ラジカルが、前記基板に向けて照射されることによってエッチングが行われ、
   前記第１の保護層形成工程では、ＣＦ系のガスが、前記基板における前記トレンチに向けて照射されることで前記トレンチの内部に保護層が形成され、
   前記第１の保護層除去工程では、前記トレンチに向けてＳＦ₆が照射されることで前記第１の保護層が除去される請求項１または２に記載の基板の加工方法。
4. 前記第２の保護層形成工程では、ＣＦ系のガスが、前記基板における前記トレンチに向けて照射されることで前記トレンチの内部に保護層が形成され、
   前記第２の保護層除去工程では、前記第２の保護層に酸素を含むガスを当てることで前記第２の保護層が除去される請求項３に記載の基板の加工方法。
5. 深さが２００μｍ以上、アスペクト比が３以上のトレンチが形成される請求項３または４に記載の基板の加工方法。
6. 前記第２の保護層は、前記第２のサイクルのサイクル数に応じて形成される請求項１乃至５のいずれか１項に記載の基板の加工方法。
7. 前記第１のサイクルは、前記第１の保護層除去工程とともに終了し、
   前記第１のサイクルにおける最後の第１の保護層除去工程の後に、エッチングによって前記基板にトレンチを形成するトレンチ形成工程を行わずに、前記第２の保護層形成工程が行われる請求項１乃至６のいずれか１項に記載の基板の加工方法。
8. 前記第２の保護層形成工程および前記第２の保護層除去工程を第１のサイクルと第２のサイクルとの間で繰り返す請求項１乃至７のいずれか１項に記載の基板の加工方法。
9. 前記第２のサイクルは、エッチングにより前記基板上にトレンチを形成するトレンチ形成工程とともに始まり、
   前記第２のサイクルの最初のトレンチ形成工程の前に、エッチングによって前記基板にトレンチを形成するトレンチ形成工程を行わずに、前記第２の保護層除去工程が行われる請求項１乃至８のいずれか１項に記載の基板の加工方法。
10. 吐出口の形成される吐出口形成部材と、前記吐出口形成部材に貼り付けられる基板とを備え、
    前記吐出口形成部材と前記基板との間に液室が形成され、前記液室に面する位置に素子の配置された液体吐出ヘッドを製造する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
    エッチングによって前記基板にトレンチを形成するトレンチ形成工程と、
    前記トレンチの内部に第１の保護層を形成する第１の保護層形成工程と、
    前記第１の保護層における、前記トレンチをさらに掘り進める位置を覆う部分について除去する第１の保護層除去工程と
    を複数サイクル順次繰り返し、
    前記トレンチ形成工程から前記第１の保護層除去工程までの１サイクルが複数サイクル繰り返し行われる第１のサイクルと、前記第１のサイクルに続いて第１のサイクルの後に行われる前記トレンチ形成工程から前記第１の保護層除去工程までの１サイクルが複数サイクル繰り返し行われる第２のサイクルと、の間に、前記第１のサイクルで形成したトレンチの内部に第２の保護層を形成する第２の保護層形成工程と、
    前記第２の保護層における、前記トレンチをさらに掘り進める位置を覆う部分を除去する第２の保護層除去工程と
    を備え、
    エッチングによって前記基板にトレンチを形成するトレンチ形成工程は、前記第１のサイクルと前記第２のサイクルとの間には行われないことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
11. 前記トレンチは、前記基板における前記液室を画成した側とは逆側の裏面から前記液室に連通するように形成される請求項１０に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
12. 前記基板は、複数の部材が積層されて形成され、
    前記複数の部材のそれぞれに前記トレンチが形成され、
    前記複数の部材に形成された前記トレンチがそれぞれ連通する請求項１１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。