JP2012142542A - リソグラフィーシステム、及びそれを用いた物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィーシステム20において、制御手段23は、リソグラフィー装置22のうち、第1の除振対象物26Aを含む第1のリソグラフィー装置22Aを除く少なくとも1台の第2のリソグラフィー装置22B、22Cが有する第2の移動体27B、27Cへの駆動指示情報34a、34bと、第2の移動体27B、27Cの移動動作に起因して第1の除振対象物26Aに生じる振動に関する制御指標32a、32bに基づいて第1のリソグラフィー装置22Aに含まれる第1の除振手段25Aを制御する。
【選択図】図2
Description
まず、以下で説明する本発明の実施形態に係るリソグラフィーシステムに適用するインプリント装置について説明する。図1は、インプリント装置の構成を示す概略図である。本実施形態におけるインプリント装置は、半導体デバイスの製造工程に使用される被処理基板であるウエハ上(基板上)に対してモールドのパターンを転写する加工装置であり、インプリント技術の中でも光硬化法を採用した装置である。なお、図1において、モールドに対する光(紫外線)の照射軸に平行にZ軸を取り、該Z軸に垂直な平面内で後述のモールドベースに対してウエハが移動する方向にX軸を取り、該X軸に直交する方向にY軸を取って説明する。このインプリント装置1は、照明系ユニット2と、モールド3と、モールド保持装置4と、ウエハ5と、ウエハステージ6と、塗布装置7と、モールド搬送装置8とを備える。
なお、本実施形態のリソグラフィーシステムとしてクラスタを構成するリソグラフィー装置は、上記インプリント装置1に限らず、荷電粒子線露光装置であってもよい。この荷電粒子線露光装置は、電子ビームやイオンビームを光源として用いた露光装置である。この場合、露光方法としては、電子ビーム自体をウエハに対して走査させることでパターンを描写する方法と、原版(レチクル又はマスク)により電子ビームを所望の形状に整形して、原版パターンをウエハ上に転写する方法とがある。特に、スループットが要求される場合には、複数の電子ビームを使用するマルチビーム方式が採用される。
次に、本発明の第1実施形態に係る、リソグラフィー装置を複数台配置したクラスタ構成によるリソグラフィーシステムについて説明する。なお、本実施形態における「クラスタ構成」とは、同様のリソグラフィー装置を複数台同一固定台(床面)内に集合させて、搬送ロボット等の外部装置を共有することでフットプリントや生産性を確保するための構成を示す。以下、このリソグラフィーシステムのクラスタを構成するリソグラフィー装置として、上記インプリント装置を適用するものとする。図2は、本実施形態に係るリソグラフィーシステム20を示す構成図であり、特に、図2(a)は、各インプリント装置22の構成を含む概略図である。このリソグラフィーシステム20は、同一の固定台(床面)21上に配置される3台のインプリント装置22(22A〜22C)と、各インプリント装置22A〜22Cを集中管理する制御部23とを備える。なお、リソグラフィーシステム20におけるインプリント装置22の設置台数は、少なくとも2台以上であれば、特に限定しない。
次に、本発明の第2実施形態に係るリソグラフィーシステムについて説明する。第1実施形態では、制御部23は、クラスタを構成するインプリント装置22の全てに関して伝達関数32を導出し、駆動機構29の駆動力を全ての伝達関数32を用いて算出する。これに対して、本実施形態のリソグラフィーシステムの特徴は、制御部が、駆動機構29の駆動力の算出の際に、インプリント装置の配置に係る装置情報に基づいて、伝達関数32を適宜選択して用いる点にある。図4は、本実施形態に係るリソグラフィーシステムに関し、固定台の上面(Z方向)から見た概略図である。なお、各インプリント装置の構成要素において、図2及び図3に示す第1実施形態に係るインプリント装置22と同様のものには同一の符号を付し、説明を省略する。この図4の各図に示す各リソグラフィーシステム40、50、60、80は、それぞれ同一の固定台41上に配置される12台のインプリント装置42(装置A〜L)と、各インプリント装置42を集中管理する制御部43とを備える。以下、この場合の伝達関数の選択方法について、4つの方法を上げる。
次に、本発明の第3実施形態に係るリソグラフィーシステムについて説明する。第1実施形態では、制御部23は、移動体27B、27Cの駆動信号34a、34bを適宜参照し、伝達関数32a、32bに反映させる。これに対して、本実施形態のリソグラフィーシステムの特徴は、制御部は、各移動体27の駆動信号(駆動情報)を予め保存しておく点にある。図5は、本実施形態のリソグラフィーシステム70に関する図であり、特に、図5(a)は、リソグラフィーシステム70の構成を含む制御部71の制御の流れを示すブロック図である。なお、各インプリント装置の構成要素において、図2及び図3に示す第1実施形態に係るインプリント装置22と同様のものには同一の符号を付し、説明を省略する。このリソグラフィーシステム70は、固定台72上に設置される3台のインプリント装置73(装置A〜C)と、それぞれのインプリント装置73に回線74により接続される制御部71とを備える。更に、リソグラフィーシステム70は、固定台72上に設置される少なくとも1台(本実施形態では、8台)の計測器75を備える。ここで、あるインプリント装置73(例えば、図中の装置A)に含まれる除振対象物26aに伝わる振動を予測すると仮定する。この場合、制御部71は、各計測器75の計測データを、他のインプリント装置(装置B、C)に含まれる移動体27B、27Cの移動開始時間のトリガとして使用する。即ち、制御部71は、この計測データに基づいて、移動体27B、27Cの移動開始時間(駆動指示情報)を推定する。そして、制御部71は、推定した移動開始時間を、予め保存された各移動体27の駆動信号76a、76bに適用することにより、伝達関数77a、77bを導出し、演算器78にてインプリント装置73(装置A)に含まれる駆動機構29Aの駆動力を算出する。具体的には、図5(a)に示す各位置に配置される計測器75a、75b、75cの各計測データ(出力データ)が、図5(b)に示す時間に対する出力値で表されるグラフのような傾向を示すと仮定する。例えば、時刻t1において、計測器75a、75bの出力値が、急激に大きくなり、一方、計測器75cの出力値に変化がないような場合には、制御部71は、装置Bに含まれる移動体27Bが移動を開始したと予測する。同様の理由で、制御部71は、時刻t2においては、装置Cに含まれる移動体27Cが移動を開始したと予測する。このように、本実施形態のリソグラフィーシステム70によれば、第1実施形態と同様の効果を奏する。特に、本実施形態では、制御部71と、クラスタを構成する各インプリント装置73に含まれる移動体27の全てとで回線接続を行う必要がないので、リソグラフィーシステム70の配線に係る構成を簡略化させることができる。
物品としてのデバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)の製造方法は、前述のリソグラフィーシステムを構成するインプリント装置を用いて基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板)にパターンを形成する工程を含む。更に、該製造方法は、パターンが形成された基板をエッチングする工程を含みうる。なお、パターンドメディア(記録媒体)や光学素子等の他の物品を製造する場合には、該製造方法は、エッチングの代わりに、パターンが形成された基板を加工する他の処理を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
22 リソグラフィー装置
23 制御部
25 除振装置
26 除振対象物
27 移動体
32 伝達関数
34 駆動指示情報
Claims (14)
- 除振対象物と、駆動指示情報に基づいて移動する移動体と、前記除振対象物に伝わる振動を抑制するための振動抑制力を発生させる除振手段と、を含み、同一の固定台に設置される少なくとも2台のリソグラフィー装置と、該リソグラフィー装置を管理する制御手段と、を備えるリソグラフィーシステムであって、
前記制御手段は、前記リソグラフィー装置のうち、第1の前記除振対象物を含む第1のリソグラフィー装置を除く、少なくとも1台の第2のリソグラフィー装置が有する第2の前記移動体への前記駆動指示情報と、前記第2の移動体の移動動作に起因して前記第1の除振対象物に生じる振動に関する制御指標に基づいて、前記第1のリソグラフィー装置に含まれる第1の前記除振手段を制御することを特徴とするリソグラフィーシステム。 - 前記除振手段は、弾性を有する支持機構と、駆動機構とを含み、
前記制御指標は、前記駆動指示情報を参照し、前記振動抑制力となる前記駆動機構への駆動力を演算するための伝達関数であることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィーシステム。 - 前記除振対象物に設置され、該除振対象物に生じる振動に関する値を計測する計測手段を有し、
前記伝達関数は、前記駆動指示情報と、前記計測手段による出力値とに基づいて導出されることを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィーシステム。 - 前記除振対象物に設置され、該除振対象物に生じる振動に関する値を計測する計測手段を有し、
前記伝達関数は、予め、前記駆動指示情報と、前記計測手段による出力値とに基づいてシミュレーションにより導出されることを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィーシステム。 - 前記制御手段は、更に、前記リソグラフィー装置の配置に係る装置情報に基づいて前記除振手段を制御することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のリソグラフィーシステム。
- 前記制御手段は、前記計測手段による出力値が、予め設定した許容値を超えるかどうかを判断し、前記判断の結果に基づいて、前記駆動指示情報を参照する前記第2の移動体を抽出し、前記第1の除振手段を制御することを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィーシステム。
- 前記制御手段は、前記第1のリソグラフィー装置に隣接する少なくとも1台のリソグラフィー装置が有する前記移動体を、前記駆動指示情報を参照する前記第2の移動体と設定し、前記第1の除振手段を制御することを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィーシステム。
- 前記制御手段は、前記第1のリソグラフィー装置が配置される前記固定台の梁と同一の梁上に配置され、かつ前記梁の長手方向に平行な直線と前記移動体の最大加振の方向に平行な直線がなす鋭角が60度以内であるリソグラフィー装置が有する前記移動体を、前記駆動指示情報を参照する前記第2の移動体と設定し、前記第1の除振手段を制御することを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィーシステム。
- 前記固定台に配置される、少なくとも1つの計測手段を有し、
前記制御手段は、前記固定台に配置された前記計測手段による出力値を、前記第2の移動体の移動開始時間のトリガとして使用して前記駆動指示情報を推定し、予め保存された前記制御指標に適用することで前記第1の除振手段を制御することを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィーシステム。 - 前記計測手段は、加速度計、速度計、又は変位計のいずれかであることを特徴とする請求項4、5又は9のいずれか1項に記載のリソグラフィーシステム。
- 前記振動抑制力は、低周波振動であることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィーシステム。
- 前記リソグラフィー装置は、基板上の未硬化樹脂と、型とを互いに押し付けて、前記基板上に樹脂のパターンを形成するインプリント装置であることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィーシステム。
- 前記リソグラフィー装置は、原版に形成されたパターンを基板に露光する荷電粒子線露光装置であることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィーシステム。
- リソグラフィーシステムを用いた物品の製造方法であって、
前記リソグラフィーシステムは、請求項11に記載のリソグラフィーシステムであり、
インプリント装置を用いて基板上に樹脂のパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を加工する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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