JP2012114435A - 位置決めシステム、リソグラフィ装置及び位置制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置の上部コンポーネントと下部コンポーネントとの間の相対位置を制御する位置決めシステムであって、各コンポーネントの位置が一組の直交座標によって画定され、測定座標の設定値位置に対して、前記コンポーネントのうち1つのコンポーネントの瞬間的位置の誤差を求めるように構成された測定デバイスと、前記求めた誤差に基づいて、制御座標でその他のコンポーネントの動作を制御するように構成されたコントローラとを備え、前記測定座標が前記制御座標とは異なる位置決めシステム。
【選択図】図6
Description
1.露光中のレベリング行為による基板テーブルの振動
2.レチクルマスキングブレードの動作によって引き起こされる振動
3.エアシャワーの存在によって引き起こされる共振効果
4.投影システムと基板との間の水流によって引き起こされる液浸力
5.支持構造の運動によって引き起こされる基板テーブルの振動、及びその逆の振動
6.基板テーブルに対するエアシャワーの流れの影響。これらの効果は比較的小さいが、生産されるデバイスの解像度に対する要求が常に増大しているので、ますます重要になり、現在では、0.15μm以下のオーダのクリティカルディメンションを有する大面積ICの存続可能な実現にとって相当な障害を形成している。
測定座標の設定値位置に対して、コンポーネントのうち1つのコンポーネントの瞬間的位置の誤差を求めるように構成された測定デバイスと、
求めた誤差に基づいて、制御座標でその他のコンポーネントの動作を制御するように構成されたコントローラと、
を備え、
測定座標が制御座標とは異なる位置決めシステムが提供される。
設定値位置に対して、コンポーネントのうち1つのコンポーネントの瞬間的位置の補償した誤差を求めるように構成された補償測定デバイスを備え、補償誤差が、下部コンポーネントと上部コンポーネントのうち前記1つのコンポーネントの動作の少なくとも1つの周波数成分により、実際の誤差から誤差成分を除外し、さらに、
前記設定値位置に対して、コンポーネントのうち前記1つのコンポーネントの瞬間的位置の非補償誤差を求めるように構成された非補償測定デバイスを備え、非補償誤差が、下部コンポーネント及び上部コンポーネントのうち前記1つのコンポーネントの動作の前記少なくとも1つの周波数成分による前記誤差成分を含む位置決めシステムが提供される。
パターニングデバイスを支持するように構築された支持構造と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
支持構造と基板テーブルとの間の相対位置を制御する位置決めシステムと、
を備え、支持構造及び基板テーブルが、実質的に平行なx−y面を画定し、位置決めシステムが、
z方向で、設定位置に対する基板テーブルの瞬間的位置の誤差を求めるように構成された測定デバイスと、
求めた誤差に基づいて、支持構造の動作を制御するように構成されたコントローラと、
を備えるリソグラフィ装置が提供される。
測定座標の設定値位置に対して、コンポーネントのうち1つのコンポーネントの瞬間的位置の誤差を求めるステップと、
求めた誤差に基づいて制御座標で他方のコンポーネントの動作を制御するステップとを含み、
測定座標が制御座標とは異なる方法が提供される。
設定値位置に対して、コンポーネントのうち1つのコンポーネントの瞬間的位置の補償誤差を求めるステップであって、補償誤差が、実際の誤差から、下部コンポーネント及び上部コンポーネントのうち前記1つのコンポーネントの動作の少なくとも1つの周波数成分による誤差成分を除去するステップと、
前記設定値位置に対して、コンポーネントのうち前記1つのコンポーネントの瞬間的位置の非補償誤差を求めるステップであって、非補償誤差が、下部コンポーネント及び上部コンポーネントのうち前記1つのコンポーネントの動作の前記少なくとも1つの周波数成分による前記誤差成分を含むステップと、
を含む方法が提供される。
[0029] − 放射ビームB(例えばUV放射、DUV放射又はEUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
[0030] − パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
[0031] − 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
[0032] − パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを備える。
Claims (15)
- リソグラフィ装置の上部コンポーネントと下部コンポーネントとの間の相対位置を制御する位置決めシステムであって、各コンポーネントの位置が一組の直交座標によって画定され、
測定座標の設定値位置に対して、前記コンポーネントのうち1つのコンポーネントの瞬間的位置の誤差を求めるように構成された測定デバイスと、
前記求めた誤差に基づいて、制御座標でその他のコンポーネントの動作を制御するように構成されたコントローラと、
を備え、
前記測定座標が前記制御座標とは異なる位置決めシステム。 - 前記コンポーネントが、実質的に平行なx−y面を画定し、
前記測定座標及び前記制御座標が、それぞれ、x、y及びz方向のうちの1つである、請求項1に記載の位置決めシステム。 - 前記コンポーネントが実質的に平行なx−y面を画定し、前記測定方向が前記z方向である、請求項1に記載の位置決めシステム。
- 前記コンポーネントが、実質的に平行なx−y面を画定し、
前記測定座標及び/又は前記制御座標が、前記x、y及びz軸のうち1つを中心とする前記コンポーネントの傾斜を示す座標である、請求項1に記載の位置決めシステム。 - 前記測定デバイスが、前記直交座標の組の各座標の前記誤差を求めるように構成され、
前記コントローラが、前記他の座標のうち少なくとも1つで求めた前記誤差に基づいて、前記他のコンポーネントの前記動作を各座標で制御するように構成される、請求項1から4のいずれか1項に記載の位置決めシステム。 - 前記座標が、3次元デカルト座標系を有する6次元座標系を含み、前記コンポーネントが実質的に平行なx−y面を画定し、3つの座標がデカルト軸のそれぞれを中心とする前記コンポーネントの傾斜を示す、請求項1から4のいずれか1項に記載の位置決めシステム。
- リソグラフィ装置の上部コンポーネントと下部コンポーネントとの間の相対位置を制御する位置決めシステムであって、
設定値位置に対して、前記コンポーネントのうち1つのコンポーネントの前記瞬間的位置の補償した誤差を求めるように構成された補償測定デバイスを備え、前記補償誤差が、前記下部コンポーネントと上部コンポーネントのうち前記1つのコンポーネントの動作の少なくとも1つの周波数成分により、前記実際の誤差から誤差成分を除外し、さらに、
前記設定値位置に対して、前記コンポーネントのうち前記1つのコンポーネントの前記瞬間的位置の非補償誤差を求めるように構成された非補償測定デバイスを備え、前記非補償誤差が、前記下部コンポーネント及び上部コンポーネントのうち前記1つのコンポーネントの動作の前記少なくとも1つの周波数成分による前記誤差成分を含む位置決めシステム。 - 前記補償誤差及び前記非補償誤差のうち少なくとも1つに基づいて前記下部コンポーネントの動作を制御するように構成された下部コンポーネントコントローラと、
前記補償誤差及び前記非補償誤差のうち他方に基づいて前記上部コンポーネントの動作を制御するように構成された上部コンポーネントコントローラと、
をさらに備える、請求項6又は7に記載の位置決めシステム。 - 前記下部コンポーネントコントローラが、前記補償誤差に基づいて前記下部コンポーネントの動作を制御するように構成され、
前記上部コンポーネントコントローラが、前記非補償誤差に基づいて前記上部コンポーネントの動作を制御するように構成される、請求項6から8のいずれか1項に記載の位置決めシステム。 - 前記少なくとも1つの周波数成分が、前記コンポーネントのうち前記1つのコンポーネントのねじりモードに対応する、請求項6から9のいずれか1項に記載の位置決めシステム。
- 前記コンポーネントが、実質的に平行なx−y面を画定し、
前記測定デバイスが、前記z方向で前記誤差を求めるように構成される、請求項6から10のいずれか1項に記載の位置決めシステム。 - パターニングデバイスを支持するように構築された支持構造と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
請求項1から11のいずれか1項に記載の前記位置決めシステムと、
を備え、
前記上部コンポーネントが前記支持構造であり、前記下部コンポーネントが前記基板テーブルであるリソグラフィ装置。 - 前記位置決めシステムが、前記z方向で設定値位置に対して、前記基板テーブルの前記瞬間的位置の誤差を求めるように構成された測定デバイスを備える、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置の上部コンポーネントと下部コンポーネントとの間の相対位置を制御する方法であって、各コンポーネントの位置が一組の直交座標によって画定され、
測定座標の設定値位置に対して、前記コンポーネントのうち1つのコンポーネントの前記瞬間的位置の誤差を求めるステップと、
前記求めた誤差に基づいて制御座標で他方のコンポーネントの動作を制御するステップとを含み、
前記測定座標が前記制御座標とは異なる方法。 - リソグラフィ装置の上部コンポーネントと下部コンポーネントとの間の相対位置を制御する方法であって、
設定値位置に対して、前記コンポーネントのうち1つのコンポーネントの前記瞬間的位置の補償誤差を求めるステップであって、前記補償誤差が、実際の誤差から、前記下部コンポーネント及び上部コンポーネントのうち前記1つのコンポーネントの動作の少なくとも1つの周波数成分による誤差成分を除去するステップと、
前記設定値位置に対して、前記コンポーネントのうち前記1つのコンポーネントの前記瞬間的位置の非補償誤差を求めるステップであって、前記非補償誤差が、前記下部コンポーネント及び上部コンポーネントのうち前記1つのコンポーネントの動作の前記少なくとも1つの周波数成分による前記誤差成分を含むステップと、
を含む方法。
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