JP2012092261A - トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
例えば、シロキサンポリマーと、ジルコニアまたはチタニアなどを分散させた微粒子分散材料とを混合してなるハイブリッド材料を用いて屈折率を高める手法(特許文献1)が報告されている。
さらに、シロキサンポリマーの一部に高屈折率な縮合環状骨格を導入する手法(特許文献2)なども報告されている。
これまで炭素および窒素からなる耐熱性有機材料としては、芳香族ポリイミドや芳香族ポリアミドが主として用いられているが、これらの材料は直鎖構造を有しているため耐熱温度はそれほど高くない。
また、耐熱性を有する含窒素高分子材料としてトリアジン系縮合材料も報告されている(特許文献4)。
求められる具体的な特性としては、1)耐熱性、2)透明性、3)高屈折率、4)耐光性、5)高溶解性、6)低体積収縮率がある。
この知見を基に本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、トリアジン環および芳香環を有する繰り返し単位を含む所定の線状重合体が、非常に高屈折率を示し、電子デバイスを作製する際の膜形成用組成物として好適であることを見出し、本発明を完成した。
1. 下記式(1)で表される繰り返し単位構造を含むことを特徴とするトリアジン環含有重合体、
2. 前記Ar2が、式(2)、(12)および(13)で示される群から選ばれる少なくとも1種である1のトリアジン環含有重合体、
3. 前記Ar1が、式(15)で示される1または2のトリアジン環含有重合体、
4. 1〜3のいずれかのトリアジン環含有重合体を含む膜形成用組成物、
5. 1〜3のいずれかのトリアジン環含有重合体を含む膜、
6. 基材と、この基材上に形成された請求項5記載の膜とを備える電子デバイス
を提供する。
本発明の重合体骨格とすることで、2級アミンをポリマーのスペーサーとして用いる場合においても高耐熱性、高透明性を維持でき、これまで、耐熱性および透明性が損なわれると考えられていたモノマーユニットを用いた場合でも、ポリマー骨格を本発明のポリマーに変更するのみで物性をコントロールできる可能性がある。
そして、金属酸化物を含まず、ポリマー単独で高屈折率を発現できることから、エッチングやアッシングなどのドライプロセスを経る場合でも、エッチレートが一定となり、均一な膜厚の被膜を得ることができ、デバイスを作製する際のプロセスマージンが拡大する。
また、本発明のトリアジン環含有重合体は、合成時の出発原料であるモノマーの種類を変更することで、これが有する諸物性をコントロールできる。
さらに、本発明のトリアジン環含有重合体は、高耐熱性絶縁材料として使用できる。
以上のような特性を有する本発明のトリアジン環含有重合体を用いて作製した膜は、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレイ、光半導体(LED)素子、固体撮像素子、有機薄膜太陽電池、色素増感太陽電池、有機薄膜トランジスタ(TFT)などの電子デバイスを作製する際の一部材として好適に利用できる。
特に高屈折率が求められている固体撮像素子の部材である、フォトダイオード上の埋め込み膜および平坦化膜、カラーフィルター前後の平坦化膜、マイクロレンズ、マイクロレンズ上の平坦化膜およびコンフォーマル膜として好適に利用できる。
本発明に係るトリアジン環含有重合体は下記式(1)で表される繰り返し単位構造を含むものである。
本発明において、アルキル基の炭素数としては特に限定されるものではないが、1〜20が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数1〜10がより好ましく、1〜3がより一層好ましい。また、その構造は、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。
アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペントキシ基、1−メチル−n−ブトキシ基、2−メチル−n−ブトキシ基、3−メチル−n−ブトキシ基、1,1−ジメチル−n−プロポキシ基、1,2−ジメチル−n−プロポキシ基、2,2−ジメチル−n−プロポキシ基、1−エチル−n−プロポキシ基、n−ヘキシルオキシ基、1−メチル−n−ペンチルオキシ基、2−メチル−n−ペンチルオキシ基、3−メチル−n−ペンチルオキシ基、4−メチル−n−ペンチルオキシ基、1,1−ジメチル−n−ブトキシ基、1,2−ジメチル−n−ブトキシ基、1,3−ジメチル−n−ブトキシ基、2,2−ジメチル−n−ブトキシ基、2,3−ジメチル−n−ブトキシ基、3,3−ジメチル−n−ブトキシ基、1−エチル−n−ブトキシ基、2−エチル−n−ブトキシ基、1,1,2−トリメチル−n−プロポキシ基、1,2,2−トリメチル−n−プロポキシ基、1−エチル−1−メチル−n−プロポキシ基、1−エチル−2−メチル−n−プロポキシ基等が挙げられる。
アリール基の具体例としては、フェニル基、o−クロルフェニル基、m−クロルフェニル基、p−クロルフェニル基、o−フルオロフェニル基、p−フルオロフェニル基、o−メトキシフェニル基、p−メトキシフェニル基、p−ニトロフェニル基、p−シアノフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、o−ビフェニリル基、m−ビフェニリル基、p−ビフェニリル基、1−アントリル基、2−アントリル基、9−アントリル基、1−フェナントリル基、2−フェナントリル基、3−フェナントリル基、4−フェナントリル基、9−フェナントリル基等が挙げられる。
その具体例としては、ベンジル基、p−メチルフェニルメチル基、m−メチルフェニルメチル基、o−エチルフェニルメチル基、m−エチルフェニルメチル基、p−エチルフェニルメチル基、2−プロピルフェニルメチル基、4−イソプロピルフェニルメチル基、4−イソブチルフェニルメチル基、α−ナフチルメチル基等が挙げられる。
これらアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基としては上記と同様のものが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
これらハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基としては上記と同様のものが挙げられる。
炭素数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。
これらハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基としては上記と同様のものが挙げられる。
R102〜R106としては、好ましくは水素原子である。
なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GPCという)分析による標準ポリスチレン換算で得られる平均分子量である。
本発明のトリアジン環含有重合体は、アリールアミノ基を有するジハロゲン化トリアジン化合物と、ジアミノアリール化合物とを反応させて得ることができる。
例えば、下記スキーム1に示されるように、繰り返し構造(16’)を有する線状重合体は、フェニルアミノ基を有するジハロゲン化トリアジン(18)およびm−フェニレンジアミン化合物(19)を適当な有機溶媒中で反応させて得ることができる。
これらの式(18)および式(19)で表される化合物は、例えば、Aldrich社製または東京化成工業(株)製の市販品として入手することができ、また有機合成化学の定法に従って容易に製造することができる。
この方法を用いることで、本発明の重合体を、安価に、しかも簡便かつ安全に製造することができる。この製造方法は、一般的なポリマーを合成する際の反応時間よりも著しく短いことから、近年の環境への配慮に適合した製造方法であり、CO2排出量を低減できる。また、製造スケールを大幅に増加させても安定製造することが可能であり、工業化レベルでの安定供給体制を損なわない。
中でもN,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、およびそれらの混合系が好ましく、特に、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドンが好適である。
各成分の配合順序は任意である。
また、配合の際には、滴下等によって徐々に加えても、全量一括して加えてもよい。
この塩基の具体例としては、炭酸カリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムエトキシド、酢酸ナトリウム、トリエチルアミン、炭酸リチウム、水酸化リチウム、酸化リチウム、酢酸カリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、水酸化バリウム、リン酸三リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、フッ化セシウム、酸化アルミニウム、アンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルピペリジン、2,2,6,6−テトラメチル−N−メチルピペリジン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、N−メチルモルホリン等が挙げられる。
塩基の添加量は、トリアジン化合物(18)1当量に対して1〜100当量が好ましく、1〜10当量がより好ましい。なお、これらの塩基は水溶液にして用いてもよい。
得られる重合体には、原料成分が残存していないことが好ましいが、本発明の効果を損なわなければ一部の原料が残存していてもよい。
反応終了後、生成物は再沈法等によって容易に精製できる。
これらの組成物は、膜形成用組成物として用いることができ、各種の溶剤に溶かした膜形成用組成物(ポリマーワニスともいう)として好適に使用できる。
重合体を溶解するのに用いる溶剤は、重合時に用いた溶媒と同じものでも別のものでもよい。この溶剤は、重合体との相溶性を損なわなければ特に限定されず、1種でも複数種でも任意に選択して用いることができる。
界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類;ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類;ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類;ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類;ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、商品名エフトップEF301、EF303、EF352(三菱マテリアル電子化成(株)製(旧(株)ジェムコ製)、商品名メガファックF171、F173、R−08、R−30、F−553、F−554(DIC(株)製)、フロラードFC430、FC431(住友スリーエム(株)製)、商品名アサヒガードAG710,サーフロンS−382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106(旭硝子(株)製)等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業(株)製)、BYK−302、BYK−307、BYK−322、BYK−323、BYK−330、BYK−333、BYK−370、BYK−375、BYK−378(ビックケミー・ジャパン(株)製)等が挙げられる。
そのような化合物としては、メチロール基、メトキシメチル基などの架橋形成置換基を有するメラミン系化合物、置換尿素系化合物、エポキシ基またはオキセタン基などの架橋形成置換基を含有する化合物、ブロック化イソシアナートを含有する化合物、酸無水物を有する化合物、(メタ)アクリル基を有する化合物、フェノプラスト化合物等が挙げられるが、耐熱性や保存安定性の観点からエポキシ基、ブロックイソシアネート基、(メタ)アクリル基を含有する化合物が好ましい。
また、ブロックイソシアネート基は、尿素結合で架橋し、カルボニル基を有するため屈折率が低下しないという点からも好ましい。
なお、これらの化合物は、ポリマーの末端処理に用いる場合は少なくとも1個の架橋形成置換基を有していればよく、ポリマー同士の架橋処理に用いる場合は少なくとも2個の架橋形成置換基を有する必要がある。
架橋剤の具体例としては、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,2−エポキシ−4−(エポキシエチル)シクロヘキサン、グリセロールトリグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、2,6−ジグリシジルフェニルグリシジルエーテル、1,1,3−トリス[p−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]プロパン、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジルエステル、4,4’−メチレンビス(N,N−ジグリシジルアニリン)、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、ビスフェノール−A−ジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル等が挙げられる。
また、酸無水物化合物の具体例としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、オクチル無水コハク酸、ドデセニル無水コハク酸等の分子内に1個の酸無水物基を有するもの;1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸無水物、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸二無水物、ビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4,6,8−テトラカルボン酸二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物等の分子内に2個の酸無水物基を有するもの等が挙げられる。
(メタ)アクリル基を有する化合物としては、例えば、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジメタクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、エトキシ化グリセリントリメタクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリグリセリンモノエチレンオキサイドポリアクリレート、ポリグリセリンポリエチレングリコールポリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート等が挙げられる。
一分子中2個以上のイソシアネート基を有する化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートのポリイソシアネートや、これらの二量体、三量体、および、これらとジオール類、トリオール類、ジアミン類、またはトリアミン類との反応物などが挙げられる。
ブロック剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、2−エトキシヘキサノール、2−N,N−ジメチルアミノエタノール、2−エトキシエタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類;フェノール、o−ニトロフェノール、p−クロロフェノール、o−、m−またはp−クレゾール等のフェノール類;ε−カプロラクタム等のラクタム類、アセトンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、メチルイソブチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム等のオキシム類;ピラゾール、3,5−ジメチルピラゾール、3−メチルピラゾール等のピラゾール類;ドデカンチオール、ベンゼンチオール等のチオール類などが挙げられる。
メラミン系化合物としては、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン CYMEL(登録商標)303、テトラブトキシメチルグリコールウリル 同1170、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン 同1123(以上、日本サイテックインダストリーズ(株)製)等のサイメルシリーズ、メチル化メラミン樹脂であるニカラック(登録商標)MW−30HM、同MW−390、同MW−100LM、同MX−750LM、メチル化尿素樹脂である同MX−270、同MX−280、同MX−290(以上、(株)三和ケミカル製)等のニカラックシリーズ等が挙げられる。
オキセタン化合物としては、オキセタニル基を一分子中2個以上有し、そして熱硬化時の高温に曝されると、本発明のトリアジン環含有重合体との間で付加反応により架橋反応が進行するものである。
オキセタン基を有する化合物としては、例えば、オキセタン基を含有するOXT−221、OX−SQ−H、OX−SC(以上、東亜合成(株)製)等が挙げられる。
フェノプラスト化合物としては、例えば、2,6−ジヒドロキシメチル−4−メチルフェノール、2,4−ジヒドロキシメチル−6−メチルフェノール、ビス(2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−5−メチルフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−5−メチルフェニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチルフェニル)プロパン、ビス(3−ホルミル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−2,5−ジメチルフェニル)ホルミルメタン、α,α−ビス(4−ヒドロキシ−2,5−ジメチルフェニル)−4−ホルミルトルエン等が挙げられる。
フェノプラスト化合物は、市販品としても入手が可能であり、その具体例としては、26DMPC、46DMOC、DM−BIPC−F、DM−BIOC−F、TM−BIP−A、BISA−F、BI25X−DF、BI25X−TPA(以上、旭有機材工業(株)製)等が挙げられる。
架橋剤を用いることで、架橋剤とトリアジン環含有重合体が有する反応性の末端置換基とが反応し、膜密度の向上、耐熱性の向上、熱緩和能力の向上などの効果を発現できる場合がある。
なお、上記その他の成分は、本発明の組成物を調製する際の任意の工程で添加することができる。
組成物の塗布方法は任意であり、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の方法を採用できる。
焼成温度は、溶媒を蒸発させる目的では特に限定されず、例えば40〜400℃で行うことができる。これらの場合、より高い均一製膜性を発現させたり、基材上で反応を進行させたりする目的で2段階以上の温度変化をつけてもよい。
焼成方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレートやオーブンを用いて、大気、窒素等の不活性ガス、真空中等の適切な雰囲気下で蒸発させればよい。
焼成温度および焼成時間は、目的とする電子デバイスのプロセス工程に適合した条件を選択すればよく、得られる膜の物性値が電子デバイスの要求特性に適合するような焼成条件を選択すればよい。
樹脂の具体例としては、特に限定されるものではない。熱可塑性樹脂としては、例えば、PE(ポリエチレン)、PP(ポリプロピレン)、EVA(エチレン−酢酸ビニル共重合体)、EEA(エチレン−アクリル酸エチル共重合体)等のポリオレフィン系樹脂;PS(ポリスチレン)、HIPS(ハイインパクトポリスチレン)、AS(アクリロニトリル−スチレン共重合体)、ABS(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体)、MS(メタクリル酸メチル−スチレン共重合体)等のポリスチレン系樹脂;ポリカーボネート樹脂;塩化ビニル樹脂;ポリアミド樹脂;ポリイミド樹脂;PMMA(ポリメチルメタクリレート)等の(メタ)アクリル樹脂;PET(ポリエチレンテレフタレート)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、PLA(ポリ乳酸)、ポリ−3−ヒドロキシ酪酸、ポリカプロラクトン、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンサクシネート/アジペート等のポリエステル樹脂;ポリフェニレンエーテル樹脂;変性ポリフェニレンエーテル樹脂;ポリアセタール樹脂;ポリスルホン樹脂;ポリフェニレンサルファイド樹脂;ポリビニルアルコール樹脂;ポリグルコール酸;変性でんぷん;酢酸セルロース、三酢酸セルロース;キチン、キトサン;リグニンなどが挙げられ、熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。
これらの樹脂は、単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよく、その使用量は、上記トリアジン環含有重合体100質量部に対して、1〜10,000質量部が好ましく、より好ましくは1〜1,000質量部である。
(メタ)アクリレート化合物の例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカニルジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシプロピル(メタ)アクリレート、トリス−2−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、トリス−2−ヒドロキシエチルイソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、グリセリンメタクリレートアクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、(メタ)アクリル酸アリル、(メタ)アクリル酸ビニル、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類等が挙げられる。
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新UV硬化技術(159頁、発行人:高薄一弘、発行所:(株)技術情報協会、1991年発行)に記載されている。
市販の光ラジカル重合開始剤としては、例えば、チバ・ジャパン(株)製 商品名: イルガキュア 184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24−61、ダロキュア 1116、1173、BASF社製 商品名:ルシリン TPO、UCB社製 商品名:ユベクリル P36、フラテツリ・ランベルティ社製 商品名:エザキュアー KIP150、KIP65LT、KIP100F、KT37、KT55、KTO46、KIP75/B等が挙げられる。
重合に用いる溶剤は、上記膜形成用組成物で例示した溶剤と同様のものが挙げられる。
[1H−NMR]
装置:Varian NMR System 400NB(400MHz)
JEOL−ECA700(700MHz)
測定溶媒:DMSO−d6
基準物質:テトラメチルシラン(TMS)(δ0.0ppm)
[GPC]
装置:東ソー(株)製 HLC−8200 GPC
カラム:Shodex KF−804L+KF−805L
カラム温度:40℃
溶媒:テトラヒドロフラン(以下、THF)
検出器:UV(254nm)
検量線:標準ポリスチレン
[エリプソメーター]
装置:ジェー・エー・ウーラム・ジャパン製 多入射角分光エリプソメーターVASE
[示差熱天秤(TG−DTA)]
装置:(株)リガク製 TG−8120
昇温速度:10℃/分
測定温度:25℃−750℃
実施例1で得られた高分子化合物[1]を10質量%となるようにシクロヘキサノン/イオン交換水(96/4(質量部/質量部))に溶解させ、ガラス基板上にスピンコーターを用いてスピンコートし、150℃のホットプレートで2分間の仮焼成を行い、次いで、大気下、250℃のホットプレートで5分間の本焼成を行い、被膜を得た。得られた被膜の屈折率および膜厚を測定したところ、550nmにおける屈折率は1.7507、633nmにおける屈折率は1.7330、膜厚は260nmであった。
実施例2で得られた高分子化合物[2]を5質量%となるようにN−メチルピロリドン/ブチルセルロース(98/2(質量部/質量部))に溶解させ、ガラス基板上にスピンコーターを用いてスピンコートし、150℃のホットプレートで2分間の仮焼成を行い、次いで、大気下、250℃のホットプレートで5分間の本焼成を行い、被膜を得た。得られた被膜の屈折率および膜厚を測定したところ、550nmにおける屈折率は1.8532、633nmにおける屈折率は1.8233、膜厚は46nmであった。
Claims (6)
- 下記式(1)で表される繰り返し単位構造を含むことを特徴とするトリアジン環含有重合体。
- 前記Ar2が、式(2)、(12)および(13)で示される群から選ばれる少なくとも1種である請求項1記載のトリアジン環含有重合体。
- 請求項1〜3のいずれか1項記載のトリアジン環含有重合体を含む膜形成用組成物。
- 請求項1〜3のいずれか1項記載のトリアジン環含有重合体を含む膜。
- 基材と、この基材上に形成された請求項5記載の膜とを備える電子デバイス。
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Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014162829A (ja) * | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Idemitsu Kosan Co Ltd | トリアジン環含有線状ポリマーからなる高屈折率材料 |
JP2014162830A (ja) * | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Idemitsu Kosan Co Ltd | トリアジン環を含有する重合体 |
JP2015091919A (ja) * | 2013-10-01 | 2015-05-14 | 出光興産株式会社 | トリアジン環含有ポリマーを含む組成物 |
WO2015093508A1 (ja) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 日産化学工業株式会社 | 膜形成用組成物 |
WO2015093510A1 (ja) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 日産化学工業株式会社 | 透明導電膜用保護膜形成組成物 |
WO2015098788A1 (ja) * | 2013-12-24 | 2015-07-02 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン系重合体含有組成物 |
WO2015098787A1 (ja) * | 2013-12-24 | 2015-07-02 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む組成物 |
WO2016024613A1 (ja) * | 2014-08-13 | 2016-02-18 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む組成物 |
WO2016114337A1 (ja) * | 2015-01-15 | 2016-07-21 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む組成物 |
WO2016117524A1 (ja) * | 2015-01-23 | 2016-07-28 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有ポリマーの精製方法 |
WO2017094643A1 (ja) * | 2015-11-30 | 2017-06-08 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 |
JP2018044135A (ja) * | 2016-09-16 | 2018-03-22 | 出光興産株式会社 | 自立フィルム、電子デバイス、発光デバイス及び光学デバイス |
CN107849392A (zh) * | 2015-06-09 | 2018-03-27 | 日产化学工业株式会社 | 喷墨涂布用膜形成用组合物 |
WO2018097000A1 (ja) * | 2016-11-22 | 2018-05-31 | 出光興産株式会社 | トリアジン環含有重合体及びそれを用いた組成物 |
KR20180136950A (ko) | 2016-04-20 | 2018-12-26 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 중합체, 조성물, 성형체, 경화물 및 적층체 |
KR20200135941A (ko) | 2018-03-27 | 2020-12-04 | 도레이 카부시키가이샤 | 트리아진환 함유 중합체, 수지 조성물, 경화막 및 고체 촬상 소자 |
US11582860B2 (en) | 2017-09-15 | 2023-02-14 | Jsr Corporation | Circuit board |
US11851529B2 (en) | 2019-05-13 | 2023-12-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Triazine ring-containing polymer, and thermoplastic article and optical part including same |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02232230A (ja) * | 1989-01-24 | 1990-09-14 | Himont It Srl | トリアジンポリマーの調製方法 |
JPH07113009A (ja) * | 1993-10-18 | 1995-05-02 | Alps Electric Co Ltd | 溶媒可溶性芳香族ポリアミンおよびその製造方法 |
JPH0987385A (ja) * | 1995-09-19 | 1997-03-31 | Neos Co Ltd | ポリアミン樹脂及びその製造方法 |
JPH10287745A (ja) * | 1997-04-16 | 1998-10-27 | Otsuka Chem Co Ltd | 含弗素樹脂 |
JP2004156001A (ja) * | 2002-11-07 | 2004-06-03 | Sanei Kagaku Kk | フェノール性水酸基を含有するトリアジンジハライド及び芳香族(ポリ)グアナミン、並びにその組成物 |
-
2010
- 2010-10-28 JP JP2010242223A patent/JP5598258B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02232230A (ja) * | 1989-01-24 | 1990-09-14 | Himont It Srl | トリアジンポリマーの調製方法 |
JPH07113009A (ja) * | 1993-10-18 | 1995-05-02 | Alps Electric Co Ltd | 溶媒可溶性芳香族ポリアミンおよびその製造方法 |
JPH0987385A (ja) * | 1995-09-19 | 1997-03-31 | Neos Co Ltd | ポリアミン樹脂及びその製造方法 |
JPH10287745A (ja) * | 1997-04-16 | 1998-10-27 | Otsuka Chem Co Ltd | 含弗素樹脂 |
JP2004156001A (ja) * | 2002-11-07 | 2004-06-03 | Sanei Kagaku Kk | フェノール性水酸基を含有するトリアジンジハライド及び芳香族(ポリ)グアナミン、並びにその組成物 |
Cited By (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014162830A (ja) * | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Idemitsu Kosan Co Ltd | トリアジン環を含有する重合体 |
JP2014162829A (ja) * | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Idemitsu Kosan Co Ltd | トリアジン環含有線状ポリマーからなる高屈折率材料 |
JP2015091919A (ja) * | 2013-10-01 | 2015-05-14 | 出光興産株式会社 | トリアジン環含有ポリマーを含む組成物 |
WO2015093508A1 (ja) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 日産化学工業株式会社 | 膜形成用組成物 |
WO2015093510A1 (ja) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 日産化学工業株式会社 | 透明導電膜用保護膜形成組成物 |
US10106701B2 (en) | 2013-12-17 | 2018-10-23 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Composition for film formation |
US10266701B2 (en) | 2013-12-17 | 2019-04-23 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Composition for forming protective film for transparent conductive film |
JPWO2015098787A1 (ja) * | 2013-12-24 | 2017-03-23 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む組成物 |
WO2015098788A1 (ja) * | 2013-12-24 | 2015-07-02 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン系重合体含有組成物 |
WO2015098787A1 (ja) * | 2013-12-24 | 2015-07-02 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む組成物 |
JPWO2015098788A1 (ja) * | 2013-12-24 | 2017-03-23 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン系重合体含有組成物 |
KR20170043562A (ko) * | 2014-08-13 | 2017-04-21 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 트라이아진환 함유 중합체 및 그것을 포함하는 조성물 |
CN106715532A (zh) * | 2014-08-13 | 2017-05-24 | 日产化学工业株式会社 | 含有三嗪环的聚合物和包含其的组合物 |
JPWO2016024613A1 (ja) * | 2014-08-13 | 2017-06-01 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む組成物 |
KR102364715B1 (ko) | 2014-08-13 | 2022-02-18 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 트라이아진환 함유 중합체 및 그것을 포함하는 조성물 |
EP3181612A4 (en) * | 2014-08-13 | 2018-05-16 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Polymer containing triazine ring and composition containing same |
US10717818B2 (en) | 2014-08-13 | 2020-07-21 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Polymer containing triazine ring and composition containing same |
WO2016024613A1 (ja) * | 2014-08-13 | 2016-02-18 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む組成物 |
TWI687456B (zh) * | 2014-08-13 | 2020-03-11 | 日商日產化學工業股份有限公司 | 含三嗪環聚合物及含其之組成物 |
WO2016114337A1 (ja) * | 2015-01-15 | 2016-07-21 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む組成物 |
US10228620B2 (en) | 2015-01-15 | 2019-03-12 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Triazine-ring-containing polymer and composition containing same |
WO2016117524A1 (ja) * | 2015-01-23 | 2016-07-28 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有ポリマーの精製方法 |
CN107849392B (zh) * | 2015-06-09 | 2021-07-13 | 日产化学工业株式会社 | 喷墨涂布用膜形成用组合物 |
CN107849392A (zh) * | 2015-06-09 | 2018-03-27 | 日产化学工业株式会社 | 喷墨涂布用膜形成用组合物 |
JPWO2017094643A1 (ja) * | 2015-11-30 | 2018-09-13 | 日産化学株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 |
JP7077622B2 (ja) | 2015-11-30 | 2022-05-31 | 日産化学株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 |
WO2017094643A1 (ja) * | 2015-11-30 | 2017-06-08 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 |
US11505651B2 (en) | 2016-04-20 | 2022-11-22 | Jsr Corporation | Polymer, composition, molded article, cured product and laminate |
KR20180136950A (ko) | 2016-04-20 | 2018-12-26 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 중합체, 조성물, 성형체, 경화물 및 적층체 |
EP3766919A1 (en) | 2016-04-20 | 2021-01-20 | JSR Corporation | Polymer, composition, molded article, cured product and laminate |
EP3770202A1 (en) | 2016-04-20 | 2021-01-27 | JSR Corporation | Polymer, composition, molded article, cured product and laminate |
JP2018044135A (ja) * | 2016-09-16 | 2018-03-22 | 出光興産株式会社 | 自立フィルム、電子デバイス、発光デバイス及び光学デバイス |
CN109937227B (zh) * | 2016-11-22 | 2021-12-21 | 出光兴产株式会社 | 含三嗪环的聚合物和使用其的组合物 |
CN109937227A (zh) * | 2016-11-22 | 2019-06-25 | 出光兴产株式会社 | 含三嗪环的聚合物和使用其的组合物 |
WO2018097000A1 (ja) * | 2016-11-22 | 2018-05-31 | 出光興産株式会社 | トリアジン環含有重合体及びそれを用いた組成物 |
TWI769192B (zh) * | 2016-11-22 | 2022-07-01 | 日商出光興產股份有限公司 | 含三環之聚合物及使用其之組合物 |
JPWO2018097000A1 (ja) * | 2016-11-22 | 2019-10-17 | 出光興産株式会社 | トリアジン環含有重合体及びそれを用いた組成物 |
US11673998B2 (en) | 2016-11-22 | 2023-06-13 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Triazine-ring-containing polymer and composition in which same is used |
US11582860B2 (en) | 2017-09-15 | 2023-02-14 | Jsr Corporation | Circuit board |
KR20200135941A (ko) | 2018-03-27 | 2020-12-04 | 도레이 카부시키가이샤 | 트리아진환 함유 중합체, 수지 조성물, 경화막 및 고체 촬상 소자 |
US11851529B2 (en) | 2019-05-13 | 2023-12-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Triazine ring-containing polymer, and thermoplastic article and optical part including same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5598258B2 (ja) | 2014-10-01 |
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