JP6699067B2 - 蛍光材料およびその利用 - Google Patents

Description

本発明は、蛍光性ポリマーおよびその利用に関し、さらに詳述すると、トリアジン環含有重合体からなる蛍光性ポリマーおよびその利用に関する。

蛍光性の発色団を有する有機化合物は、蛍光性の無機化合物に比べると安価であるうえ、分子の骨格を変化させたり、分子内に特定の置換基を導入したりすることで、励起波長や発光波長を変化させたり、被測定化合物等の認識機能を付加したりすることができるといった利点がある。
近年、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子、発光型の空間光変調素子、波長変換素子、および蛍光性表面コーティング材等に使用される有機発光材料として、種々の低分子化合物や高分子化合物が開発されている。
低分子化合物を用いた発光デバイス等の製造では、製造プロセスが蒸着方式に制約されるのに対し、高分子化合物を用いた場合、溶液にしたうえで各種塗布法によって製膜できるため、デバイスの製造コストという点で有利である。
また、高分子化合物は、微細な塗り分けが容易であることや、膜厚の調整が容易であることなどの利点をも有している。

このような高分子系発光材料としては、従来、ポリパラフェニレンやポリパラフェニレンビニレン等のπ共役型高分子が知られている。しかし、これらの高分子は、耐熱性が不十分であるとともに、蛍光強度や蛍光スペクトル形状の長期安定性が不十分であるうえに、製膜や微細加工が容易でないという問題がある。
また、アクリレート系ポリマーの側鎖に色素分子を有する蛍光性高分子が報告されている（特許文献１参照）が、主鎖および色素の耐熱性が不十分である。
さらに、発光機能や電荷輸送機能を有するポリイミドを用いた有機ＥＬ素子が報告されている（特許文献２，３参照）が、耐熱性という点では問題がないものの、その蛍光強度は、ポリイミド分子間の強い相互作用と、それに伴う濃度消光によって、同一の蛍光性官能基を有する低分子化合物の蛍光強度に比べると、非常に低いという問題がある。
このような点から、耐熱性に優れるとともに、良好な蛍光発光を示す、新たな蛍光性ポリマーの開発が望まれている。

特開２００６−３０７１２９号公報 特開平０３−２７４６９３号公報 特開平０４−０９３３８９号公報

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、有機ＥＬ素子の発光材料等としての利用が期待できる新規な蛍光性ポリマーを提供することを目的とする。

本発明者らは、トリアジン環および芳香環を有する繰り返し単位を含む重合体が、ポリマー単独で高耐熱性、高透明性、高屈折率、高溶解性、低体積収縮を達成でき、電子デバイスを作製する際の膜形成用組成物として好適であることを既に見出している（国際公開第２０１０／１２８６６１号）。
この知見を基に本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、トリアジン環および芳香環を有する繰り返し単位を含む所定の線状重合体が、蛍光発光を示し、蛍光材料として利用可能であることを見出し、本発明を完成した。

すなわち、本発明は、
１． 下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含むトリアジン環含有重合体からなることを特徴とする蛍光性ポリマー、

｛式中、ＲおよびＲ′は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表し、Ａｒ¹は、Ｚで置換されていてもよい、ナフチル基、アントリル基、またはピレニル基を表し、Ａｒ²は、式（２）または（３）を表す。

〔式中、Ｒ¹〜Ｒ¹²は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｗ¹は、単結合、ＣＲ¹³Ｒ¹⁴（Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、互いに独立して、水素原子または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ₂、またはＮＲ¹⁵（Ｒ¹⁵は、水素原子または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表す。）を表し、Ｘ¹およびＸ²は、互いに独立して、単結合、炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基、または式（４）で示される基を表す。

（式中、Ｒ¹⁶〜Ｒ¹⁹は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｙ¹およびＹ²は、互いに独立して、単結合または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基を表す。）〕｝
２． 前記Ａｒ¹が、アントリル基またはピレニル基を表す１の蛍光性ポリマー、
３． 前記Ａｒ²が、式（３）で表される１または２の蛍光性ポリマー、
４． 前記Ａｒ²が、式（５）で表される３の蛍光性ポリマー、

５． １〜４のいずれかの蛍光性ポリマーを含む蛍光性コーティング膜形成用組成物、
６． １〜４のいずれかの蛍光性ポリマーを含む発光材料、
７． １〜４のいずれかの蛍光性ポリマーを含む色素、
８． １〜４のいずれかの蛍光性ポリマーを含む色・波長変換材料、
９． １〜４のいずれかの蛍光性ポリマーを含む有機系太陽電池、
１０． ６の発光材料を含む発光層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子
を提供する。

本発明の蛍光性ポリマーは、高耐熱性、高透明性、高屈折率、高溶解性、低体積収縮という特徴を有しているうえに、波長４００〜５００ｎｍ程度で良好な絶対量子収率を示す。
このような本発明の蛍光性ポリマーは、蛍光性コーティング膜形成用組成物の蛍光材料、有機ＥＬ素子等に用いられる発光材料、色素レーザー等に用いられる色素材料、色・波長変換材料、有機薄膜太陽電池や色素増感太陽電池等の有機系太陽電池に用いられる色素や蛍光材料、バイオマーカー等の蛍光標識に用いられる蛍光材料などとして好適に利用できる。

合成例１，２および実施例１−１，１−２で得られた化合物の蛍光スペクトルを示す図である。

以下、本発明についてさらに詳しく説明する。
本発明に係る蛍光性ポリマーは、下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含むトリアジン環含有重合体からなる。

上記式中、ＲおよびＲ′は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表す。
本発明において、アルキル基の炭素数としては特に限定されるものではないが、１〜２０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数１〜１０がより好ましく、１〜３がより一層好ましい。また、その構造は、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。

アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロブチル基、１−メチル−シクロプロピル基、２−メチル−シクロプロピル基、ｎ−ペンチル基、１−メチル−ｎ−ブチル基、２−メチル−ｎ−ブチル基、３−メチル−ｎ−ブチル基、１，１−ジメチル−ｎ−プロピル基、１，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、２，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−ｎ−プロピル基、シクロペンチル基、１−メチル−シクロブチル基、２−メチル−シクロブチル基、３−メチル−シクロブチル基、１，２−ジメチル−シクロプロピル基、２，３−ジメチル−シクロプロピル基、１−エチル−シクロプロピル基、２−エチル−シクロプロピル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチル−ｎ−ペンチル基、２−メチル−ｎ−ペンチル基、３−メチル−ｎ−ペンチル基、４−メチル−ｎ−ペンチル基、１，１−ジメチル−ｎ−ブチル基、１，２−ジメチル−ｎ−ブチル基、１，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、２，２−ジメチル−ｎ−ブチル基、２，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、３，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、１−エチル−ｎ−ブチル基、２−エチル−ｎ−ブチル基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−１−メチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−２−メチル−ｎ−プロピル基、シクロヘキシル基、１−メチル−シクロペンチル基、２−メチル−シクロペンチル基、３−メチル−シクロペンチル基、１−エチル−シクロブチル基、２−エチル−シクロブチル基、３−エチル−シクロブチル基、１，２−ジメチル−シクロブチル基、１，３−ジメチル−シクロブチル基、２，２−ジメチル−シクロブチル基、２，３−ジメチル−シクロブチル基、２，４−ジメチル−シクロブチル基、３，３−ジメチル−シクロブチル基、１−ｎ−プロピル−シクロプロピル基、２−ｎ−プロピル−シクロプロピル基、１−イソプロピル−シクロプロピル基、２−イソプロピル−シクロプロピル基、１，２，２−トリメチル−シクロプロピル基、１，２，３−トリメチル−シクロプロピル基、２，２，３−トリメチル−シクロプロピル基、１−エチル−２−メチル−シクロプロピル基、２−エチル−１−メチル−シクロプロピル基、２−エチル−２−メチル−シクロプロピル基、２−エチル−３−メチル−シクロプロピル基等が挙げられる。

上記アルコキシ基の炭素数としては特に限定されるものではないが、１〜２０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数１〜１０がより好ましく、１〜３がより一層好ましい。また、そのアルキル部分の構造は、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。
アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、１−メチル−ｎ−ブトキシ基、２−メチル−ｎ−ブトキシ基、３−メチル−ｎ−ブトキシ基、１，１−ジメチル−ｎ−プロポキシ基、１，２−ジメチル−ｎ−プロポキシ基、２，２−ジメチル−ｎ−プロポキシ基、１−エチル−ｎ−プロポキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、１−メチル−ｎ−ペンチルオキシ基、２−メチル−ｎ−ペンチルオキシ基、３−メチル−ｎ−ペンチルオキシ基、４−メチル−ｎ−ペンチルオキシ基、１，１−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、１，２−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、１，３−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、２，２−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、２，３−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、３，３−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、１−エチル−ｎ−ブトキシ基、２−エチル−ｎ−ブトキシ基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロポキシ基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロポキシ基、１−エチル−１−メチル−ｎ−プロポキシ基、１−エチル−２−メチル−ｎ−プロポキシ基等が挙げられる。

上記アリール基の炭素数としては特に限定されるものではないが、６〜４０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数６〜１６がより好ましく、６〜１３がより一層好ましい。
アリール基の具体例としては、フェニル基、ｏ−クロルフェニル基、ｍ−クロルフェニル基、ｐ−クロルフェニル基、ｏ−フルオロフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、ｐ−シアノフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、ｏ−ビフェニリル基、ｍ−ビフェニリル基、ｐ−ビフェニリル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、１−フェナントリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、４−フェナントリル基、９−フェナントリル基等が挙げられる。

アラルキル基の炭素数としては特に限定されるものではないが、炭素数７〜２０が好ましく、そのアルキル部分は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
その具体例としては、ベンジル基、ｐ−メチルフェニルメチル基、ｍ−メチルフェニルメチル基、ｏ−エチルフェニルメチル基、ｍ−エチルフェニルメチル基、ｐ−エチルフェニルメチル基、２−プロピルフェニルメチル基、４−イソプロピルフェニルメチル基、４−イソブチルフェニルメチル基、α−ナフチルメチル基等が挙げられる。

上記Ａｒ²は、式（２）または（３）で表される２価の有機基を表すが、中でも式（３）で表される２価の有機基が好ましい。

上記Ｒ¹〜Ｒ¹²は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｗ¹は、単結合、ＣＲ¹³Ｒ¹⁴（Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、互いに独立して、水素原子または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ₂、またはＮＲ¹⁵（Ｒ¹⁵は、水素原子または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表す。）を表す。
これらアルキル基、アルコキシ基としては上記と同様のものが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。

また、Ｘ¹およびＸ²は、互いに独立して、単結合、炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基、または式（４）で示される基を表す。

上記式中、Ｒ¹⁶〜Ｒ¹⁹は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｙ¹およびＹ²は、互いに独立して、単結合または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基を表す。
これらハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基としては上記と同様のものが挙げられる。
炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。

上記Ａｒ²の具体例としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

上記Ａｒ¹は、Ｚで置換されていてもよい、ナフチル基、アントリル基、またはピレニル基を表す。
ナフチル基としては、α−ナフチル基、β−ナフチル基等が挙げられる。
アントリル基としては、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基等が挙げられる。
ピレニル基としては、１−ピレニル基、２−ピレニル基、４−ピレニル基等が挙げられる。
上記Ｚは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基またはスルホ基を表し、これらアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子としては上記で例示した基と同様のものが挙げられる。

これらの中でも、蛍光性ポリマーの絶対量子収率を高めるという点から、Ｚで置換されていてもよい、アントリル基、ピレニル基が好ましく、非置換の２−アントリル基、１−ピレニル基がより好ましい。

好適な繰り返し単位構造としては、下記式（５）〜（８）で表されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

本発明の蛍光性ポリマーであるトリアジン環含有重合体の重量平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜１００，０００が好ましく、より耐熱性を向上させるとともに、収縮率を低くするという点から、２，０００以上が好ましく、より溶解性を高め、得られた溶液の粘度を低下させるという点から、１０，０００以下が好ましい。
なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣという）分析による標準ポリスチレン換算で得られる平均分子量である。

本発明の蛍光性ポリマーであるトリアジン環含有重合体の製造法について一例を挙げて説明する。
上記トリアジン環含有重合体は、アントリルアミノ基等の所定のアリールアミノ基を有するジハロゲン化トリアジン化合物と、ジアミノアリール化合物とを反応させて得ることができる。
例えば、下記スキーム１に示されるように、繰り返し構造（６’）を有する線状重合体は、２−アントリルアミノ基を有するジハロゲン化トリアジン（９）およびフルオレン構造を有するアリールジアミン化合物（１０）を適当な有機溶媒中で反応させて得ることができる。
式（１０）で表される化合物は、例えば、Ａｌｄｒｉｃｈ社製等の市販品として入手することができ、また式（９）で表される化合物は、ハロゲン化シアヌルと所定のアリールアミン化合物とを用いた有機合成化学の定法に従って容易に製造することができる。

（式中、Ｘは、互いに独立してハロゲン原子を表す。Ｒは上記と同じ意味を表す。）

上記有機溶媒としては、この種の反応において通常用いられる種々の溶媒を用いることができ、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピペリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチレン尿素、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルマロン酸アミド、Ｎ−メチルカプロラクタム、Ｎ−アセチルピロリジン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオン酸アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイソブチルアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチルプロピレン尿素等のアミド系溶媒、およびそれらの混合溶媒が挙げられる。
中でもＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、およびそれらの混合系が好ましく、特に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンが好適である。

上記反応において、反応温度は、用いる溶媒の融点から溶媒の沸点までの範囲で適宜設定すればよいが、特に、０〜２５０℃程度が好ましく、１００〜２００℃がより好ましい。
各成分の配合順序は任意である。
また、配合の際には、滴下等によって徐々に加えても、全量一括して加えてもよい。

また、上記反応では、重合時または重合後に通常用いられる種々の塩基を添加してもよい。
この塩基の具体例としては、炭酸カリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムエトキシド、酢酸ナトリウム、トリエチルアミン、炭酸リチウム、水酸化リチウム、酸化リチウム、酢酸カリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、水酸化バリウム、リン酸三リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、フッ化セシウム、酸化アルミニウム、アンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ−メチルモルホリン等が挙げられる。
塩基の添加量は、トリアジン化合物（９）１当量に対して１〜１００当量が好ましく、１〜１０当量がより好ましい。なお、これらの塩基は水溶液にして用いてもよい。
得られる重合体には、原料成分が残存していないことが好ましいが、本発明の効果を損なわなければ一部の原料が残存していてもよい。
反応終了後、生成物は再沈法等によって容易に精製できる。

上述した本発明のトリアジン環含有重合体からなる蛍光性ポリマーは、蛍光性コーティング膜形成用組成物や、有機ＥＬ素子等の発光層形成用組成物などの各種蛍光層または発光層形成用組成物として用いることができ、これらの組成物は、各種の溶剤に溶かしたポリマーワニスとして好適に使用できる。
蛍光性ポリマーを溶解するのに用いる溶剤は、重合時に用いた溶媒と同じものでも別のものでもよい。この溶剤は、重合体との相溶性を損なわなければ特に限定されず、１種でも複数種でも任意に選択して用いることができる。

このような溶剤の具体例としては、トルエン、ｐ−キシレン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、エチルベンゼン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコ−ルモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１−オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、トリメチレングリコール、１−メトキシ−２−ブタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、γ−ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルノーマルブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ノーマルプロピル、酢酸イソブチル、酢酸ノーマルブチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アリルアルコール、ノーマルプロパノール、２−メチル−２−ブタノール、イソブタノール、ノーマルブタノール、２−メチル−１−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−エチルヘキサノール、１−メトキシ−２−プロパノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ−シクロヘキシル−２−ピロリジノン等が挙げられ、これらは単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。

この際、組成物中の固形分濃度は、保存安定性に影響を与えない範囲であれば特に限定されず、目的とする膜の厚みに応じて適宜設定すればよい。具体的には、溶解性および保存安定性の観点から、固形分濃度０．１〜５０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜２０質量％である。

本発明の組成物では、本発明の効果を損なわない限りにおいて、蛍光性ポリマーであるトリアジン環含有重合体および溶剤以外のその他の成分、例えば、レベリング剤、界面活性剤、架橋剤、その他の樹脂等が含まれていてもよい。
界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類；ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類；ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、商品名エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成（株）製（旧（株）ジェムコ製）、商品名メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｒ−０８、Ｒ−３０、Ｆ−５５３、Ｆ−５５４（ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、商品名アサヒガードＡＧ７１０，サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７８（ビックケミー・ジャパン（株）製）等が挙げられる。

これらの界面活性剤は、単独で使用しても、２種以上組み合わせて使用してもよい。界面活性剤の使用量は、蛍光性ポリマーであるトリアジン環含有重合体１００質量部に対して０．０００１〜５質量部が好ましく、０．００１〜１質量部がより好ましく、０．０１〜０．５質量部がより一層好ましい。

架橋剤としては、蛍光性ポリマーであるトリアジン環含有重合体と反応し得る置換基を有する化合物であれば特に限定されるものではない。
そのような化合物としては、メチロール基、メトキシメチル基などの架橋形成置換基を有するメラミン系化合物、置換尿素系化合物、エポキシ基またはオキセタン基などの架橋形成置換基を含有する化合物、ブロック化イソシアナートを含有する化合物、酸無水物を有する化合物、（メタ）アクリル基を有する化合物、フェノプラスト化合物等が挙げられるが、耐熱性や保存安定性の観点からエポキシ基、ブロックイソシアネート基、（メタ）アクリル基を含有する化合物が好ましい。
また、ブロックイソシアネート基は、尿素結合で架橋し、カルボニル基を有するため屈折率が低下しないという点からも好ましい。
なお、これらの化合物は、ポリマーの末端処理に用いる場合は少なくとも１個の架橋形成置換基を有していればよく、ポリマー同士の架橋処理に用いる場合は少なくとも２個の架橋形成置換基を有する必要がある。

エポキシ化合物としては、エポキシ基を一分子中２個以上有し、熱硬化時の高温に曝されると、エポキシが開環し、トリアジン環含有重合体との間で付加反応により架橋反応が進行するものである。
架橋剤の具体例としては、トリス（２，３−エポキシプロピル）イソシアヌレート、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，２−エポキシ−４−（エポキシエチル）シクロヘキサン、グリセロールトリグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、２，６−ジグリシジルフェニルグリシジルエーテル、１，１，３−トリス［ｐ−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］プロパン、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジルエステル、４，４’−メチレンビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、ビスフェノール−Ａ−ジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル等が挙げられる。

また、市販品として、少なくとも２個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂である、ＹＨ−４３４、ＹＨ４３４Ｌ（東都化成（株）製）、シクロヘキセンオキサイド構造を有するエポキシ樹脂である、エポリードＧＴ−４０１、同ＧＴ−４０３、同ＧＴ−３０１、同ＧＴ−３０２、セロキサイド２０２１、同３０００（ダイセル化学工業（株）製）、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂である、エピコート（現、ｊＥＲ）１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂である、エピコート（現、ｊＥＲ）８０７（ジャパンエポキシレジン（株）製）、フェノールノボラック型エポキシ樹脂である、エピコート（現、ｊＥＲ）１５２、同１５４（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬（株）製）、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂である、ＥＯＣＮ−１０２、同１０３Ｓ、同１０４Ｓ、同１０２０、同１０２５、同１０２７（以上、日本化薬（株）製）、エピコート（現、ｊＥＲ）１８０Ｓ７５（ジャパンエポキシレジン（株）製）、脂環式エポキシ樹脂である、デナコールＥＸ−２５２（ナガセケムテックス（株）製）、ＣＹ１７５、ＣＹ１７７、ＣＹ１７９（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ Ａ.Ｇ製）、アラルダイトＣＹ−１８２、同ＣＹ−１９２、同ＣＹ−１８４（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ Ａ.Ｇ製）、エピクロン２００、同４００（以上、ＤＩＣ（株）製）、エピコート（現、ｊＥＲ）８７１、同８７２（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＤ−５６６１、ＥＤ−５６６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）、脂肪族ポリグリシジルエーテルである、デナコールＥＸ−６１１、同ＥＸ−６１２、同ＥＸ−６１４、同ＥＸ−６２２、同ＥＸ−４１１、同ＥＸ−５１２、同ＥＸ−５２２、同ＥＸ−４２１、同ＥＸ−３１３、同ＥＸ−３１４、同ＥＸ−３２１（ナガセケムテックス（株）製）等を用いることもできる。

酸無水物化合物としては、２分子のカルボン酸を脱水縮合させたカルボン酸無水物であり、熱硬化の際の高温に曝されると、無水物環が開環し、トリアジン環含有重合体との間で付加反応により架橋反応が進行するものである。
また、酸無水物化合物の具体例としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、オクチル無水コハク酸、ドデセニル無水コハク酸等の分子内に１個の酸無水物基を有するもの；１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸無水物、３，４−ジカルボキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレンコハク酸二無水物、ビシクロ［３．３．０］オクタン−２，４，６，８−テトラカルボン酸二無水物、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロ−３−フラニル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物等の分子内に２個の酸無水物基を有するもの等が挙げられる。

（メタ）アクリル化合物としては、（メタ）アクリル基を一分子中２個以上有し、そして熱硬化時の高温に曝されると、トリアジン環含有重合体との間で付加反応により架橋反応が進行するものである。
（メタ）アクリル基を有する化合物としては、例えば、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、エトキシ化グリセリントリメタクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリグリセリンモノエチレンオキサイドポリアクリレート、ポリグリセリンポリエチレングリコールポリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート等が挙げられる。

上記（メタ）アクリル基を有する化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＮＫエステルＡ−２００、同Ａ−４００、同Ａ−６００、同Ａ−１０００、同Ａ−ＴＭＰＴ、同ＵＡ−５３Ｈ、同１Ｇ、同２Ｇ、同３Ｇ、同４Ｇ、同９Ｇ、同１４Ｇ、同２３Ｇ、同ＡＢＥ−３００、同Ａ−ＢＰＥ−４、同Ａ−ＢＰＥ−６、同Ａ−ＢＰＥ−１０、同Ａ−ＢＰＥ−２０、同Ａ−ＢＰＥ−３０、同ＢＰＥ−８０Ｎ、同ＢＰＥ−１００Ｎ、同ＢＰＥ−２００、同ＢＰＥ−５００、同ＢＰＥ−９００、同ＢＰＥ−１３００Ｎ、同Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ、同Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、同Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、同Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ、同Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ、同ＡＴＭ−４Ｅ、同ＡＴＭ−３５Ｅ（以上、新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＥＡ−１２、同ＰＥＧ４００ＤＡ、同ＴＨＥ−３３０、同ＲＰ−１０４０（以上、日本化薬（株）製）、Ｍ−２１０、Ｍ−３５０（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ、同ＮＰＧＤＡ、同ＰＥＴ３０（以上、日本化薬（株）製）、ＮＫエステル Ａ−ＤＰＨ、同Ａ−ＴＭＰＴ、同Ａ−ＤＣＰ、同Ａ−ＨＤ−Ｎ、同ＴＭＰＴ、同ＤＣＰ、同ＮＰＧ、同ＨＤ−Ｎ（以上、新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。

ブロック化イソシアネートを含有する化合物としては、イソシアネート基（−ＮＣＯ）が適当な保護基によりブロックされたブロック化イソシアネート基を一分子中２個以上有し、熱硬化時の高温に曝されると、保護基（ブロック部分）が熱解離して外れ、生じたイソシアネート基が樹脂との間で架橋反応を起こすものであり、例えば、下記式で示される基を一分子中２個以上（なお、これらの基は同一のものでも、また各々異なっているものでもよい）有する化合物が挙げられる。

（式中、Ｒ_bはブロック部の有機基を表す。）

このような化合物は、例えば、一分子中２個以上のイソシアネート基を有する化合物に対して適当なブロック剤を反応させて得ることができる。
一分子中２個以上のイソシアネート基を有する化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートのポリイソシアネートや、これらの二量体、三量体、および、これらとジオール類、トリオール類、ジアミン類、またはトリアミン類との反応物などが挙げられる。
ブロック剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−エトキシヘキサノール、２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエタノール、２−エトキシエタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類；フェノール、ｏ−ニトロフェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−、ｍ−またはｐ−クレゾール等のフェノール類；ε−カプロラクタム等のラクタム類、アセトンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、メチルイソブチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム等のオキシム類；ピラゾール、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチルピラゾール等のピラゾール類；ドデカンチオール、ベンゼンチオール等のチオール類などが挙げられる。

ブロック化イソシアネートを含有する化合物は、市販品としても入手が可能であり、その具体例としては、Ｂ−８３０、Ｂ−８１５Ｎ、Ｂ−８４２Ｎ、Ｂ−８７０Ｎ、Ｂ−８７４Ｎ、Ｂ−８８２Ｎ、Ｂ−７００５、Ｂ−７０３０、Ｂ−７０７５、Ｂ−５０１０（以上、三井化学ポリウレタン（株）製）、デュラネート（登録商標）１７Ｂ−６０ＰＸ、同ＴＰＡ−Ｂ８０Ｅ、同ＭＦ−Ｂ６０Ｘ、同ＭＦ−Ｋ６０Ｘ、同Ｅ４０２−Ｂ８０Ｔ（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）、カレンズＭＯＩ−ＢＭ（登録商標）（以上、昭和電工（株）製）等が挙げられる。

アミノプラスト化合物としては、メトキシメチレン基を一分子中２個以上有し、そして熱硬化時の高温に曝されると、トリアジン環含有重合体との間で脱メタノール縮合反応により架橋反応が進行するものである。
メラミン系化合物としては、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン ＣＹＭＥＬ（登録商標）３０３、テトラブトキシメチルグリコールウリル 同１１７０、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン 同１１２３（以上、日本サイテックインダストリーズ（株）製）等のサイメルシリーズ、メチル化メラミン樹脂であるニカラック（登録商標）ＭＷ−３０ＨＭ、同ＭＷ−３９０、同ＭＷ−１００ＬＭ、同ＭＸ−７５０ＬＭ、メチル化尿素樹脂である同ＭＸ−２７０、同ＭＸ−２８０、同ＭＸ−２９０（以上、（株）三和ケミカル製）等のニカラックシリーズ等が挙げられる。
オキセタン化合物としては、オキセタニル基を一分子中２個以上有し、そして熱硬化時の高温に曝されると、本発明のトリアジン環含有重合体との間で付加反応により架橋反応が進行するものである。
オキセタン基を有する化合物としては、例えば、オキセタン基を含有するＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ−Ｈ、ＯＸ−ＳＣ（以上、東亜合成（株）製）等が挙げられる。

フェノプラスト化合物としては、ヒドロキシメチレン基を一分子中２個以上有し、そして熱硬化時の高温に曝されると、トリアジン環含有重合体との間で脱水縮合反応により架橋反応が進行するものである。
フェノプラスト化合物としては、例えば、２，６−ジヒドロキシメチル−４−メチルフェノール、２，４−ジヒドロキシメチル−６−メチルフェノール、ビス（２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチル−５−メチルフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチル−５−メチルフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジヒドロキシメチルフェニル）プロパン、ビス（３−ホルミル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）ホルミルメタン、α，α−ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−４−ホルミルトルエン等が挙げられる。
フェノプラスト化合物は、市販品としても入手が可能であり、その具体例としては、２６ＤＭＰＣ、４６ＤＭＯＣ、ＤＭ−ＢＩＰＣ−Ｆ、ＤＭ−ＢＩＯＣ−Ｆ、ＴＭ−ＢＩＰ−Ａ、ＢＩＳＡ−Ｆ、ＢＩ２５Ｘ−ＤＦ、ＢＩ２５Ｘ−ＴＰＡ（以上、旭有機材工業（株）製）等が挙げられる。

これらの架橋剤は単独で使用しても、２種以上組み合わせて使用してもよい。架橋剤の使用量は、蛍光性ポリマーであるトリアジン環含有重合体１００質量部に対して、１〜１００質量部が好ましいが、溶剤耐性を考慮すると、その下限は、好ましくは１０質量部、より好ましくは２０質量部であり、さらには、屈折率をコントロールすることを考慮すると、その上限は好ましくは５０質量部、より好ましくは３０質量部である。
架橋剤を用いることで、架橋剤とトリアジン環含有重合体が有する反応性の末端置換基とが反応し、膜密度の向上、耐熱性の向上、熱緩和能力の向上などの効果を発現できる場合がある。
なお、上記その他の成分は、本発明の組成物を調製する際の任意の工程で添加することができる。

本発明の組成物は、基材に塗布し、その後、必要に応じて加熱することで所望の膜を形成することができる。
組成物の塗布方法は任意であり、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の方法を採用できる。

また、基材としては、シリコン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）が成膜されたガラス、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が成膜されたガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、プラスチック、ガラス、石英、セラミックス等からなる基材等が挙げられ、可撓性を有するフレキシブル基材を用いることもできる。
焼成温度は、溶媒を蒸発させる目的では特に限定されず、例えば４０〜４００℃で行うことができる。これらの場合、より高い均一製膜性を発現させたり、基材上で反応を進行させたりする目的で２段階以上の温度変化をつけてもよい。
焼成方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレートやオーブンを用いて、大気、窒素等の不活性ガス、真空中等の適切な雰囲気下で蒸発させればよい。
焼成温度および焼成時間は、目的とする電子デバイスのプロセス工程に適合した条件を選択すればよく、得られる膜の物性値が電子デバイスの要求特性に適合するような焼成条件を選択すればよい。

このようにして得られた本発明の組成物からなる膜は、高耐熱性、高透明性、高屈折率、高溶解性、および低体積収縮を達成できるうえ、蛍光性を有するため、蛍光性コーティング膜、有機ＥＬ素子等に用いられる発光層、色・波長変換膜、有機薄膜太陽電池や色素増感太陽電池等の有機系太陽電池に用いられる光電変換層などに好適に利用できる。

なお、本発明の組成物には、必要に応じてその他の樹脂（熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂）を配合してもよい。
樹脂の具体例としては、特に限定されるものではない。熱可塑性樹脂としては、例えば、ＰＥ（ポリエチレン）、ＰＰ（ポリプロピレン）、ＥＶＡ（エチレン−酢酸ビニル共重合体）、ＥＥＡ（エチレン−アクリル酸エチル共重合体）等のポリオレフィン系樹脂；ＰＳ（ポリスチレン）、ＨＩＰＳ（ハイインパクトポリスチレン）、ＡＳ（アクリロニトリル−スチレン共重合体）、ＡＢＳ（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）、ＭＳ（メタクリル酸メチル−スチレン共重合体）等のポリスチレン系樹脂；ポリカーボネート樹脂；塩化ビニル樹脂；ポリアミド樹脂；ポリイミド樹脂；ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）等の（メタ）アクリル樹脂；ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ＰＬＡ（ポリ乳酸）、ポリ−３−ヒドロキシ酪酸、ポリカプロラクトン、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンサクシネート／アジペート等のポリエステル樹脂；ポリフェニレンエーテル樹脂；変性ポリフェニレンエーテル樹脂；ポリアセタール樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリフェニレンサルファイド樹脂；ポリビニルアルコール樹脂；ポリグルコール酸；変性でんぷん；酢酸セルロース、三酢酸セルロース；キチン、キトサン；リグニンなどが挙げられ、熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。
これらの樹脂は、単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよく、その使用量は、上記トリアジン環含有重合体１００質量部に対して、１〜１０，０００質量部が好ましく、より好ましくは１〜１，０００質量部である。

例えば、（メタ）アクリル樹脂との組成物は、（メタ）アクリレート化合物を組成物に配合し、（メタ）アクリレート化合物を重合させて得ることができる。
（メタ）アクリレート化合物の例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカニルジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシプロピル（メタ）アクリレート、トリス−２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス−２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、グリセリンメタクリレートアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸ビニル、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。

これらの（メタ）アクリレート化合物の重合は、光ラジカル開始剤や熱ラジカル開始剤の存在下、光照射または加熱して行うことができる。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類等が挙げられる。
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（１５９頁、発行人：高薄一弘、発行所：（株）技術情報協会、１９９１年発行）に記載されている。
市販の光ラジカル重合開始剤としては、例えば、チバ・ジャパン（株）製 商品名： イルガキュア １８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４−６１、ダロキュア １１１６、１１７３、ＢＡＳＦ社製 商品名：ルシリン ＴＰＯ、ＵＣＢ社製 商品名：ユベクリル Ｐ３６、フラテツリ・ランベルティ社製 商品名：エザキュアー ＫＩＰ１５０、ＫＩＰ６５ＬＴ、ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＴ３７、ＫＴ５５、ＫＴＯ４６、ＫＩＰ７５／Ｂ等が挙げられる。

光重合開始剤は、（メタ）アクリレート化合物１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
重合に用いる溶剤は、上記膜形成用組成物で例示した溶剤と同様のものが挙げられる。

以下、合成例および実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、実施例で用いた各測定装置は以下のとおりである。
［¹Ｈ−ＮＭＲ，¹³Ｃ−ＮＭＲ］
装置：BRUKER社製 ＤＲＸ４００
［ＦＴ−ＩＲ］
装置：日本分光（株）製 ＦＴ／ＩＲ−４２００ ｔｙｐｅＡ
［元素分析］
装置：ヤナコテクニカルサイエンス（株）製 ＭＴ−６ ＣＨＮ ＣＯＲＤＥＲ
［ＧＰＣ］
装置：東ソー（株）製 ＨＬＣ−８２２０ ＧＰＣ
カラム：東ソー（株）製 ＴＳＫ−ＧＥＬ（α−Ｍ）
カラム温度：４５℃
カラム流速：０．２ｍＬ／ｍｉｎ
溶媒：Ｎ−メチル−２−ピロリドン（以下、ＮＭＰ）（０．０１ｍｏｌ／Ｌ臭化リチウムを含む）
検出器：ＵＶ−８０２０（２５４ｎｍ）
検量線：標準ポリスチレン
［蛍光スペクトル］
装置：（株）日立ハイテクノロジーズ製 分光蛍光光度計 Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｃｅ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ Ｆ−７０００
［絶対量子収率］
装置：浜松ホトニクス（株）製 絶対ＰＬ量子収率測定装置 Ｃ９２２０−０２Ｇ

［１］モノマー化合物の合成
［合成例１］２−アントリルアミノ−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン（ＡｎｔＤＣＴ）の合成

５００ｍＬの三口フラスコに、シアヌル酸クロリド（３．６８８ｇ，０．０２ｍｏｌ）とＴＨＦ（１００ｍＬ）とを加え、撹拌子、塩化カルシウム管、側管付滴下ロートおよび温度計を取り付けた後、撹拌して完全に溶かし、氷浴上で−５℃に冷却した。２−アミノアントラセン（３．８６５ｇ，０．０２ｍｏｌ）をＴＨＦ（１５０ｍＬ）に溶かした溶液を、反応温度の上昇に注意しながら滴下ロートでゆっくり滴下した。滴下終了後、−５℃で２時間撹拌した。炭酸ナトリウム（１．０６０ｇ，０．０１ｍｏｌ）を蒸留水（５０ｍＬ）に溶かした溶液を、反応温度の上昇に注意しながら滴下ロートでゆっくり滴下した。滴下終了後、０℃で１時間撹拌後、室温で１２時間反応を行い、反応溶液が中性であることを確認した。なお、酸性である場合は少量の炭酸ナトリウムを蒸留水に溶解し、再び滴下して中性に調節した。
反応終了後、反応液を分液ロートに移し、ＴＨＦ／飽和食塩水で洗浄した。有機層を三角フラスコに移し、そこに硫酸ナトリウムを加えて脱水乾燥した。ろ過にて硫酸ナトリウムを除去した後、エバポレーターにより濃縮して粗生成物を得た。得られた粗生成物を、トルエン／ヘキサンの混合溶媒で再結晶を行い、１３０℃で１２時間減圧乾燥をし、黄色針状結晶を得た（収率４７％）。この化合物の融点を測定したところ、２１６〜２１７℃（文献値２１９〜２２１℃）であった。また、この化合物について、各種スペクトル分析および元素分析を行った。結果を以下に示す。

FT-IR [KBr (cm^-1)]
ν 3242 (N-H), 2879 (C-H), 1595 (bending N-H), 1548 (C=C), 1508 (C=N), 1233 (C-N), 835 (C-Cl).
¹H-NMR (400 MHz, DMSO-d₆, ppm)
δ 7.49-7.53(m, 2H, Ar-H), 7.68(d, 1H, Ar-H), 8.06-8.12(m, 3H, Ar-H), 8.35(s, 1H, Ar-H), 8.54(d, 2H, Ar-H), 11.4(s, 1H, N-H).
¹³C-NMR (100 MHz, DMSO-d₆, ppm)
δ 117.6, 122.0, 125.6, 125.8, 126.1, 126.3, 128.0, 128.3, 129.1, 129.2, 131.1, 131.2, 132.0, 164.1, 169.0, 170.0.
元素分析(C₁₃H₈Cl₂N₄)
Calcd. C, 59.84; H, 2.95; N,16.42 (%)
Found. C, 59.86; H, 2.99; N,16.38 (%)

［合成例２］２，４−ジクロロ−６−（１−ピレニルアミノ）−１，３，５−トリアジン（ＤＣＰｙＴ）の合成

５００ｍＬの三口フラスコに、シアヌル酸クロリド（３．６８８ｇ，０．０２ｍｏｌ）とＴＨＦ（１００ｍＬ）とを加え、撹拌子、塩化カルシウム管、側管付滴下ロートおよび温度計を取り付けた後、撹拌して完全に溶かし、氷浴上で−５℃に冷却した。１−アミノピレン（４．３２５ｇ，０．０２ｍｏｌ）をＴＨＦ（５０ｍＬ）に溶かした溶液を、反応温度の上昇に注意しながら滴下ロートでゆっくり滴下し、滴下終了後、−５℃で２時間撹拌した。炭酸ナトリウム（１．０６０ｇ，０．０１ｍｏｌ）を蒸留水（５０ｍＬ）に溶かした溶液を滴下ロートで反応温度の上昇に注意しながらゆっくり滴下し、滴下終了後、０℃で１時間撹拌し、その後、室温で３時間の反応を行い、反応溶液が中性であることを確認した。なお、酸性である場合は少量の炭酸ナトリウムを蒸留水に溶解し、再び滴下して中性に調節した。
反応終了後、反応液を分液ロートに移し、ＴＨＦ／飽和食塩水で洗浄した。有機層を三角フラスコに移し、そこに硫酸ナトリウムを加えて脱水乾燥した。ろ過にて硫酸ナトリウムを除去した後、エバポレーターにより濃縮して粗生成物を得た。得られた粗生成物を、１，４−ジオキサン／ヘキサンの混合溶媒で再結晶し、１５０℃で１２時間減圧乾燥を行い、白色粉末結晶を得た（収率６３％）。この化合物の融点を測定したところ、２２８〜２３０℃（文献値２１９〜２２１℃）であった。また、この化合物について、各種スペクトル分析および元素分析を行った。結果を以下に示す。

FT-IR [KBr (cm^-1)]
ν 3223(N-H), 3090(C-H), 1603(bending N-H), 1548(C=C), 1508(C=N), 1232(C-N), 848(C-Cl).
¹H-NMR (400 MHz, DMSO-d₆, ppm)
δ 8.06-8.34(m, 9H, Ar-H), 11.561(s, 1H, -NH).
¹³C-NMR (100 MHz, DMSO-d₆, ppm)
δ 122.4, 123.7, 124.4, 124.9, 125.1, 125.6, 125.7, 126.7, 127.2, 127.6, 128.0, 129.7, 129.8, 130.5, 130.7, 166.0, 169.3, 169.9.
元素分析(C₁₃H₈Cl₂N₄)
Calcd. C, 62.48; H, 2.76; N,15.34 (%)
Found. C, 62.71; H, 2.88; N,15.29 (%)

［２］蛍光性ポリマーの合成
［実施例１−１］高分子化合物［３］の合成

セプタムキャップ、撹拌子、三方コック、窒素導入管およびジムロート冷却器を接合した３０ｍＬ二口フラスコにフッ化セシウム（０．３３２ｇ，２．２ｍｍｏｌ）を加え、窒素気流下、ヒートガンで１０分加熱した。加熱終了後、室温まで自然冷却した。その後、その中へ９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン［２］（１．０ｍｍｏｌ，Ａｌｄｒｉｃｈ製）を加え、脱水ＮＭＰ（２ｍＬ）に溶解させた。１０分ほど撹拌した後、合成例１で得られたＡｎｔＤＣＴ［１］（１．０ｍｍｏｌ）を加え、さらに１０分ほど撹拌した後、１５０〜２００℃まで昇温して６時間撹拌し、反応させた。
反応終了後、室温まで冷却し、ＮＭＰを用いて反応溶液を希釈した。このポリマー溶液をアンモニア水入りのメタノール（３００ｍＬ／３ｍＬ）に注ぎ、ポリマーを回収した。得られたポリマーを室温で６時間減圧乾燥した。乾燥後のポリマーをＮＭＰに溶かし、メタノール中にろ紙を通して投入することで再沈殿を行い、再沈殿物を１８０℃で１２時間減圧乾燥し、目的のポリマー［３］（Poly(βAntDCT-BAFL)）を得た（収率９５％）。得られたポリマー［３］のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１２５，８００、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは７．４であった。

［実施例１−２］高分子化合物［５］の合成

合成例１で得られたＡｎｔＤＣＴ［１］（１．０ｍｍｏｌ）を合成例２で得られたＤＣＰｙＴ［４］（１．０ｍｍｏｌ）に代えた以外は、実施例１と同様にして目的のポリマー［５］（Poly(αDCPyT-BAFL)）を得た（収率７５％）。得られたポリマー［５］のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１１１，３６０、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは３．２であった。この化合物について、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析を行った。結果を以下に示す。

上記合成例１，２および実施例１−１，１−２で得られたβＡｎｔＤＣＴ、Ｐｏｌｙ（βＡｎｔＤＣＴ−ＢＡＦＬ）、α−ＤＣＰｙＴ、Ｐｏｌｙ（αＤＣＰｙＴ−ＢＡＦＬ）を、１０^-6Ｍの濃度となるようにＮＭＰに溶解し、蛍光スペクトルおよび絶対量子収率の測定を行った。
得られた蛍光スペクトルを図１に、励起波長（λｅｘ）、蛍光波長（λｅｍ）、絶対量子収率（Φｅｍ）の値を表１に示す。

図１および表１に示されるように、実施例１−１，１−２で得られたＰｏｌｙ（βＡｎｔＤＣＴ−ＢＡＦＬ）およびＰｏｌｙ（αＤＣＰｙＴ−ＢＡＦＬ）は、それぞれ３６．５％および５９．５％の量子収率を示し、蛍光性のポリマーであることが確認された。

Claims (10)

1. 下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含むトリアジン環含有重合体からなることを特徴とする蛍光材料。
   

   

   ｛式中、ＲおよびＲ′は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表し、
   Ａｒ¹は、Ｚで置換されていてもよい、ナフチル基、アントリル基、またはピレニル基を表し、
   Ｚは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基またはスルホ基を表し、
   Ａｒ²は、式（２）または（３）を表す。
   

   

   〔式中、Ｒ¹〜Ｒ¹²は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、
   Ｗ¹は、単結合、ＣＲ¹³Ｒ¹⁴（Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、互いに独立して、水素原子または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ₂、またはＮＲ¹⁵（Ｒ¹⁵は、水素原子または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表す。）を表し、
   Ｘ¹およびＸ²は、互いに独立して、単結合、炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基、または式（４）で示される基を表す。
   

   

   （式中、Ｒ¹⁶〜Ｒ¹⁹は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、
   Ｙ¹およびＹ²は、互いに独立して、単結合または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基を表す。）〕｝
2. 前記Ａｒ¹が、アントリル基またはピレニル基を表す請求項１記載の蛍光材料。
3. 前記Ａｒ²が、式（３）で表される請求項１または２記載の蛍光材料。
4. 前記Ａｒ²が、式（５）で表される請求項３記載の蛍光材料。
   

   
5. 請求項１〜４のいずれか１項記載の蛍光材料を含む蛍光性コーティング膜形成用組成物。
6. 請求項１〜４のいずれか１項記載の蛍光材料を含む発光材料。
7. 請求項１〜４のいずれか１項記載の蛍光材料を含む色素。
8. 請求項１〜４のいずれか１項記載の蛍光材料を含む色・波長変換材料。
9. 請求項１〜４のいずれか１項記載の蛍光材料を含む有機系太陽電池。
10. 請求項６記載の発光材料を含む発光層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子。