WO2016114337A1 - トリアジン環含有重合体およびそれを含む組成物 - Google Patents

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直也 西村
高大 忰山
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日産化学工業株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a triazine ring-containing polymer and a composition containing the same.
  • a polymer containing a repeating unit having a triazine ring and an aromatic ring has a high refractive index, and the polymer alone has high heat resistance, high transparency, high refractive index, and high solubility. It has already been found that a low volume shrinkage can be achieved and it is suitable as a film-forming composition for producing an electronic device (Patent Document 1).
  • Patent Document 1 can meet the demand in terms of refractive index, but there is room for improvement in terms of fine pattern formability.
  • Patent Document 2 discloses a pattern-forming composition containing a triazine ring-containing polymer, the polymer has a refractive index of less than 1.7, and a higher refractive index is required. Not suitable for use.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and a triazine ring-containing polymer capable of forming a thin film having a high refractive index and excellent transparency and also capable of forming a fine pattern having a high refractive index, and
  • the object is to provide a composition comprising.
  • the present inventors have used a triazine ring-containing polymer having a carboxyl group on the aryl group constituting the main chain, thereby achieving high refractive index and transparency.
  • the inventors have found that an excellent thin film can be formed and a fine pattern having a high refractive index can be formed, and the present invention has been completed.
  • a triazine ring-containing polymer comprising a repeating unit structure represented by the following formula (1): ⁇ Wherein, R and R 'each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or an aralkyl group, Ar 1 represents at least one selected from the group represented by formulas (2) to (13).
  • R 1 to R 92 are independently of each other a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, or a carbon number of 1
  • R 93 and R 94 represent a hydrogen atom or an alkyl group which may have a branched structure of 1 to 10 carbon atoms
  • W 1 and W 2 is independently a single bond
  • CR 95 R 96 R 95 and R 96 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group optionally having a branched structure of 1 to 10 carbon atoms ( However, these may be combined to form a ring.))
  • C ⁇ O, O, S, SO, SO 2 , or NR 97 R 97 is a hydrogen atom or a carbon number of 1).
  • X 1 Contact Fine X 2 are independently of each other a single bond, an alkylene group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, or the formula, (14) (Wherein R 98 to R 101 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, or 1 carbon atom) Represents an alkoxy group which may have a branched structure of ⁇ 10, and Y 1 and Y 2 each independently represent an alkylene group which may have a single bond or a branched structure of 1 to 10 carbon atoms.
  • each of the formulas (2) to (13) has at least one carboxyl group on one aromatic ring therein. ] 2.
  • R 1 ′ to R 92 ′ each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, or 10 represents an alkoxy group which may have a branched structure
  • R 93 and R 94 represent a hydrogen atom or an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms
  • W 1 and W 2 is independently a single bond
  • CR 95 R 96 R 95 and R 96 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group optionally having a branched structure of 1 to 10 carbon atoms (provided that And these may be combined to form a ring.)
  • C ⁇ O, O, S, SO, SO 2 , or NR 97 R 97 is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to represents an alkyl group which may have a branched structure 10.
  • the Ar 1 is a triazine ring-containing polymer represented by formula (15): 4).
  • the Ar 1 is a triazine ring-containing polymer represented by formula (16): 5.
  • the Ar 2 is a triazine ring-containing polymer represented by formula (17): 6). Having at least one triazine ring terminal, and at least a part of the triazine ring terminal is sealed with an arylamino group optionally substituted with an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or an aralkyl group; Any of the triazine ring-containing polymers of 5; 7).
  • triazine-based polymer-containing compositions containing a crosslinking agent 12 11 triazine polymer-containing composition, wherein the cross-linking agent is a polyfunctional (meth) acrylic compound, 13. 11 or 12 triazine polymer-containing composition for forming a cured film or pattern, 14 A cured film obtained by curing the triazine polymer-containing composition of any one of 11 to 13, 15. A pattern made from 11 or 12 triazine polymer-containing composition; 16.
  • An electronic device comprising a substrate and 14 cured films formed on the substrate; 17.
  • An optical member comprising a substrate and 14 cured films formed on the substrate; 18.
  • An electronic device comprising a substrate and 15 patterns formed on the substrate is provided.
  • a cured film or a fine pattern produced from the composition of the present invention has high transparency and a high refractive index, so that the visibility of a transparent conductive film such as ITO or silver nanowire can be improved. Deterioration of the film can be suppressed.
  • the high refractive index pattern produced from the composition of the present invention requires a high refractive index pattern including the above-mentioned prevention of transparent electrode bone appearance such as touch panel, light extraction use of organic EL display and black matrix use. It can be suitably used for the intended use.
  • FIG. 2 is a 1 H-NMR spectrum diagram of the polymer compound [5] obtained in Example 1-1.
  • 1 is a 1 H-NMR spectrum diagram of a polymer compound [6] obtained in Example 1-2.
  • FIG. 2 is a 1 H-NMR spectrum diagram of the polymer compound [5] obtained in Example 1-1.
  • 1 is a 1 H-NMR spectrum diagram of a polymer compound [6] obtained in Example 1-2.
  • the triazine ring-containing polymer according to the present invention includes a repeating unit structure represented by the following formula (1).
  • R and R ′ each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or an aralkyl group.
  • both of them may be hydrogen atoms.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group is not particularly limited, but is preferably 1 to 20, and more preferably 1 to 10 carbon atoms in view of further improving the heat resistance of the polymer. Is even more preferable.
  • the structure may be any of a chain, a branch, and a ring.
  • alkyl group examples include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, cyclopropyl, n-butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, cyclobutyl, 1-methyl-cyclopropyl, 2-methyl-cyclopropyl.
  • N-pentyl 1-methyl-n-butyl, 2-methyl-n-butyl, 3-methyl-n-butyl, 1,1-dimethyl-n-propyl, 1,2-dimethyl-n-propyl, 2 , 2-dimethyl-n-propyl, 1-ethyl-n-propyl, cyclopentyl, 1-methyl-cyclobutyl, 2-methyl-cyclobutyl, 3-methyl-cyclobutyl, 1,2-dimethyl-cyclopropyl, 2,3- Dimethyl-cyclopropyl, 1-ethyl-cyclopropyl, 2-ethyl-cyclopropyl, n-hexyl, 1-methyl-n-pe Til, 2-methyl-n-pentyl, 3-methyl-n-pentyl, 4-methyl-n-pentyl, 1,1-dimethyl-n-butyl, 1,2-dimethyl-n-butyl, 1,3- Dimethyl-n-butyl, 2,2-di
  • the number of carbon atoms of the alkoxy group is not particularly limited, but is preferably 1 to 20, and more preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms in view of further improving the heat resistance of the polymer. preferable.
  • the structure of the alkyl moiety may be any of a chain, a branch, and a ring.
  • alkoxy group examples include methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, s-butoxy, t-butoxy, n-pentoxy, 1-methyl-n-butoxy, 2-methyl-n -Butoxy, 3-methyl-n-butoxy, 1,1-dimethyl-n-propoxy, 1,2-dimethyl-n-propoxy, 2,2-dimethyl-n-propoxy, 1-ethyl-n-propoxy, n -Hexyloxy, 1-methyl-n-pentyloxy, 2-methyl-n-pentyloxy, 3-methyl-n-pentyloxy, 4-methyl-n-pentyloxy, 1,1-dimethyl-n-butoxy, 1,2-dimethyl-n-butoxy, 1,3-dimethyl-n-butoxy, 2,2-dimethyl-n-butoxy, 2,3-dimethyl-n-butoxy 3,3-dimethyl-n-butoxy, 1-ethoxy,
  • the number of carbon atoms of the aryl group is not particularly limited, but is preferably 6 to 40. In view of further improving the heat resistance of the polymer, 6 to 16 carbon atoms are more preferable, and 6 to 13 are even more preferable. preferable.
  • aryl group examples include phenyl, o-chlorophenyl, m-chlorophenyl, p-chlorophenyl, o-fluorophenyl, p-fluorophenyl, o-methoxyphenyl, p-methoxyphenyl, p-nitrophenyl, p-cyanophenyl, ⁇ -naphthyl, ⁇ -naphthyl, o-biphenylyl, m-biphenylyl, p-biphenylyl, 1-anthryl, 2-anthryl, 9-anthryl, 1-phenanthryl, 2-phenanthryl, 3-phenanthryl, 4 -Phenanthryl, 9-phenanthryl group and the like.
  • the number of carbon atoms of the aralkyl group is not particularly limited, but preferably 7 to 20 carbon atoms, and the alkyl portion may be linear, branched or cyclic. Specific examples thereof include benzyl, p-methylphenylmethyl, m-methylphenylmethyl, o-ethylphenylmethyl, m-ethylphenylmethyl, p-ethylphenylmethyl, 2-propylphenylmethyl, 4-isopropylphenylmethyl, Examples include 4-isobutylphenylmethyl, ⁇ -naphthylmethyl group and the like.
  • Ar 1 represents at least one selected from the group represented by formulas (2) to (13).
  • R 1 to R 92 are independently of each other a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group that may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, or a group having 1 to 10 carbon atoms.
  • R 93 and R 94 represent a hydrogen atom or an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms
  • W 1 and W 2 represent Independent of each other, a single bond
  • CR 95 R 96 R 95 and R 96 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group optionally having a branched structure of 1 to 10 carbon atoms (however, these May be combined to form a ring.)
  • C ⁇ O, O, S, SO, SO 2 , or NR 97 R 97 is a hydrogen atom or having 1 to 10 carbon atoms
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • alkyl group and alkoxy group are the same as those described above.
  • X 1 and X 2 each independently represent a single bond, an alkylene group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, or a group represented by the formula (14).
  • R 98 to R 101 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, or a carbon atom having 1 to 10 carbon atoms.
  • An alkoxy group which may have a branched structure is represented, and Y 1 and Y 2 each independently represent an alkylene group which may have a single bond or a branched structure having 1 to 10 carbon atoms.
  • Examples of the halogen atom, alkyl group and alkoxy group are the same as those described above.
  • Examples of the alkylene group that may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms include methylene, ethylene, propylene, trimethylene, tetramethylene, and pentamethylene groups.
  • Ar 1 has at least one carboxyl group on the aromatic ring from the viewpoint of improving the solubility of the resulting thin film or cured film in an alkaline developer.
  • the case of having at least one carboxyl group on the aromatic ring of Ar 1 is a case where each of formulas (2) to (13) has at least one carboxyl group on at least one aromatic ring therein Specifically, at least one of R 1 to R 4 in the formula (2) is a carboxyl group, at least one of R 5 to R 10 in the formula (3) is a carboxyl group, and R in the formula (4) At least one of 11 to R 15 is a carboxyl group, at least one of R 16 to R 23 in the formula (5) is a carboxyl group, and at least one of R 24 to R 31 in the formula (6) is a carboxyl group , At least one of R 32 to R 37 in formula (7) is a carboxyl group, at least one of R 38 to R 44 in formula (8) is a carboxyl group, and R 45 to
  • carboxyl groups is not particularly limited, but in consideration of the balance between developability with an alkaline developer and solubility in an organic solvent, one is preferred for any group.
  • Ar 1 is preferably at least one of the formulas (2), (5) to (13), and the formulas (2), (5), (7), (8), (11) to (11) More preferred is at least one of 13).
  • Specific examples of the aryl group represented by the above formulas (2) to (13) include, but are not limited to, those represented by the following formulae.
  • an aryl group represented by the following formula is more preferable because a polymer having a higher refractive index can be obtained.
  • Ar 1 is preferably a group represented by the formula (15), and more preferably a group represented by the formula (16).
  • the triazine ring-containing polymer of the present invention may contain only the repeating unit represented by the above formula (1), but using a diamine having no carboxyl group together with the repeating unit structure represented by the formula (1). It is preferable that the repeating unit represented by Formula (1 ') obtained is included. By setting it as the copolymer type which used together these two types of diamine, the solubility of the triazine ring containing polymer with respect to highly safe solvents, such as a resist solvent, can be improved more.
  • R and R ′ represent the same meaning as described above, and Ar 2 represents at least one selected from the group represented by formulas (2 ′) to (13 ′).
  • R 1 ′ to R 92 ′ are independently of each other a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, or a branched group having 1 to 10 carbon atoms.
  • R 93 and R 94 represent a hydrogen atom or an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms
  • W 1 and W 2 are Independently of each other, a single bond
  • CR 95 R 96 R 95 and R 96 are independently of each other a hydrogen atom or an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms. And may be combined to form a ring.)
  • C ⁇ O, O, S, SO, SO 2 , or NR 97 (R 97 is a hydrogen atom or a branch having 1 to 10 carbon atoms) Represents an alkyl group which may have a structure.
  • halogen atom, alkyl group and alkoxy group are the same as those described above.
  • X 1 ′ and X 2 ′ each independently represent a single bond, an alkylene group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, or a group represented by the formula (14 ′).
  • R 98 ′ to R 101 ′ each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, or a branched structure having 1 to 10 carbon atoms.
  • An alkoxy group which may have a structure is represented, and Y 1 and Y 2 represent the same meaning as described above. Examples of the halogen atom, alkyl group and alkoxy group are the same as those described above.
  • Ar 2 is preferably at least one of the formulas (2), (5) to (13), and the formulas (2), (5), (7), (8), (11) to (11) More preferred is at least one of 13).
  • Specific examples of the aryl group represented by the above formulas (2) to (13) include, but are not limited to, those represented by the following formulae.
  • an aryl group represented by the following formula is more preferable because a polymer having a higher refractive index can be obtained.
  • Ar 2 is preferably an m-phenylene group represented by the formula (17).
  • the content ratio of the repeating unit represented by the formula (1) and the repeating unit represented by the formula (1 ′) is not particularly limited. Considering the balance between alkali solubility and solubility in organic solvents, the molar ratio is preferably about 50:50 to 99: 1, more preferably 60:40 to 90:10, and even more preferably 65:35 to 80:20 preferable.
  • triazine ring-containing polymers include those represented by the formulas (19) to (22) and (19 ′) to (22 ′).
  • R, R ′, R 1 to R 4 and R 1 ′ to R 4 ′ have the same meaning as described above, but only one of R 1 to R 4 is a carboxyl group.
  • R, R ′ and R 1 ′ to R 4 ′ represent the same meaning as described above, and R 1 , R 2 and R 4 represent groups other than the carboxyl group among the groups exemplified above.
  • R 1 ′ to R 4 ′ represent the same meaning as described above, and R 1 , R 2 and R 4 represent groups other than the carboxyl group among the groups exemplified above.
  • R, R ′ and R 1 to R 4 have the same meaning as described above, but only one of R 1 to R 4 is a carboxyl group.
  • R and R ′ represent the same meaning as described above, and R 1 , R 2 and R 4 represent groups other than the carboxyl group among the groups exemplified above.
  • R 1 , R 2 and R 4 represent groups other than the carboxyl group among the groups exemplified above.
  • the weight average molecular weight of the polymer in the present invention is not particularly limited, but is preferably 500 to 500,000, more preferably 500 to 100,000. From the viewpoint of further improving the heat resistance and reducing the shrinkage rate. It is preferably 2000 or more, preferably 50000 or less, more preferably 30000 or less, and even more preferably 10,000 or less from the viewpoint of further increasing the solubility and decreasing the viscosity of the obtained solution.
  • the weight average molecular weight in this invention is an average molecular weight obtained by standard polystyrene conversion by gel permeation chromatography (henceforth GPC) analysis.
  • the triazine ring-containing polymer (hyperbranched polymer) of the present invention can be produced according to the technique disclosed in Patent Document 1 described above.
  • the triazine ring-containing polymer (22) includes a triazine compound (23), an aryl diamino compound (24) having a carboxyl group, and an aryl diamino compound (25) having no carboxyl group. It can be obtained by reacting in a suitable organic solvent.
  • the charging ratio of the diamino compounds (24) and (25) is arbitrary as long as the target polymer is obtained, but the diamino compounds (24) and (25) are used per 1 equivalent of the triazine compound (23). ) Is preferably 0.01 to 10 equivalents, more preferably 1 to 5 equivalents.
  • the diamino compounds (24) and (25) may be added neat or in a solution dissolved in an organic solvent. However, considering the ease of operation and control of the reaction, the latter method can be used. Is preferred.
  • the reaction temperature may be appropriately set in the range from the melting point of the solvent to be used to the boiling point of the solvent, but is preferably about ⁇ 30 to 150 ° C., more preferably ⁇ 10 to 100 ° C.
  • organic solvent various solvents usually used in this kind of reaction can be used, for example, tetrahydrofuran, dioxane, dimethyl sulfoxide; N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, tetramethylurea, Hexamethylphosphoramide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-piperidone, N, N-dimethylethyleneurea, N, N, N ′, N′-tetramethylmalonic acid amide, N-methylcaprolactam, N-acetylpyrrolidine, N, N-diethylacetamide, N-ethyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylpropionic acid amide, N, N-dimethylisobutyramide, N-methylformamide, N, N'-dimethylpropylene urea Amide solvents such as, and mixed solvents thereof Among these, N, N-dimethylformamide, dimethyl s thereof,
  • various bases usually used during polymerization or after polymerization may be added.
  • this base include potassium carbonate, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, sodium ethoxide, sodium acetate, lithium carbonate, lithium hydroxide, lithium oxide, potassium acetate, magnesium oxide, oxidized Calcium, barium hydroxide, trilithium phosphate, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, cesium fluoride, aluminum oxide, ammonia, n-propylamine, trimethylamine, triethylamine, diisopropylamine, diisopropylethylamine, N-methylpiperidine, Examples include 2,2,6,6-tetramethyl-N-methylpiperidine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, N-methylmorpholine and the like.
  • the amount of the base added is preferably 1 to 100 equivalents, more preferably 1 to 10 equivalents, relative to 1 equivalent of the triazine compound (23). These bases may be used as an aqueous solution. Although it is preferable that the raw material component does not remain in the obtained polymer, a part of the raw material may remain as long as the effect of the present invention is not impaired. After completion of the reaction, the product can be easily purified by a reprecipitation method or the like.
  • the triazine ring-containing polymer of the present invention has at least one triazine ring terminal, and at least a part of the triazine ring terminal may be substituted with an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or an aralkyl group. It is preferably sealed with a good arylamino group. Examples of the aryl group of the arylamino group include the same groups as described above, but a phenyl group is preferable.
  • the arylamino group is substituted with an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or an aralkyl group. More preferably, those having an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or an aralkyl group in at least one of the ortho positions with respect to the amino group are more preferable, and the alkyl group is in both the ortho positions with respect to the amino group. And those having an alkoxy group, an aryl group, or an aralkyl group are more preferred.
  • the substituent that the arylamino group has is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and still more preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • alkyl group, alkoxy group, aryl group, and aralkyl group are the same as those exemplified above.
  • the arylamino group preferably has an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in at least one of the ortho positions with respect to the amino group, and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms in both the ortho positions.
  • Those having a group are more preferable, and a phenylamino group having a methyl group at both ortho positions represented by the formula (18) is optimal.
  • the terminal blocking method a known method may be employed.
  • the triazine ring-containing polymer (22) obtained by the above method is a terminal blocking agent that provides a terminal blocking group.
  • the use amount of the end-capping agent is preferably about 0.05 to 10 equivalents, more preferably 0.1 to 5 equivalents, per 1 equivalent of halogen atoms derived from excess triazine compound not used in the polymerization reaction.
  • 0.5 to 2 equivalents are even more preferable.
  • the reaction solvent and reaction temperature include the same conditions as described in Scheme 1 above, and the end-capping agent may be charged simultaneously with the aryldiamine compound.
  • an arylamine compound having no substituent may be used to end-clamp with two or more groups.
  • the above-described triazine ring-containing polymer of the present invention can be suitably used as a film-forming composition or a pattern-forming composition together with a crosslinking agent.
  • the crosslinking agent is not particularly limited as long as it is a compound having a substituent capable of reacting with the above-described triazine ring-containing polymer. Examples of such compounds include melamine compounds having a crosslinkable substituent such as a methylol group and methoxymethyl group, substituted urea compounds, compounds containing a crosslinkable substituent such as an epoxy group or an oxetane group, and blocked isocyanates.
  • a compound containing a group is preferred, and in particular, a compound having a blocked isocyanate group, and a polyfunctional epoxy compound and / or a polyfunctional (meth) acrylic compound that gives a photocurable composition without using an initiator are preferred.
  • These compounds may have at least one crosslink forming substituent when used for polymer terminal treatment, and at least two crosslink forming substituents when used for cross-linking treatment between polymers. It is necessary to have.
  • the polyfunctional epoxy compound is not particularly limited as long as it has two or more epoxy groups in one molecule. Specific examples include tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,2-epoxy-4- (epoxyethyl) cyclohexane, glycerol triglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl.
  • epoxy resins having at least two epoxy groups YH-434, YH434L (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), epoxy resins having a cyclohexene oxide structure, Epolide GT-401 and GT -403, GT-301, GT-302, Celoxide 2021, 3000 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), bisphenol A type epoxy resin, Epicoat (currently jER) 1001, 1002, 1003, 1004, 1007, 1009, 1010, 828 (Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), Bisphenol F type epoxy resin, Epicoat (currently jER) 807 (Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) , Epicoat (a phenol novolac type epoxy resin) , JER) 152, 154 (above, manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.), EPPN 201, 202 (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • the polyfunctional (meth) acrylic compound is not particularly limited as long as it has two or more (meth) acrylic groups in one molecule.
  • Specific examples include ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, ethoxylated bisphenol A diacrylate, ethoxylated bisphenol A dimethacrylate, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, and ethoxylated.
  • Polyfunctional (meth) acrylic compounds can be obtained as commercial products. Specific examples thereof include NK ester A-200, same A-400, same A-600, same A-1000, same A- 9300 (Tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate), A-9300-1CL, A-TMPT, UA-53H, 1G, 2G, 3G, 4G, 9G, 14G, 23G, ABE-300, A-BPE-4, A-BPE-6, A-BPE-10, A-BPE-20, A-BPE-30, BPE-80N, BPE- 100N, BPE-200, BPE-500, BPE-900, BPE-1300N, A-GLY-3E, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMPT-3EO, AT PT-9EO, AT-20E, ATM-4E, ATM-35E, A-DPH, A-TMPT, A-DCP, A-HD-N, TMPT, DCP, NPG, HD-
  • the acid anhydride compound is not particularly limited as long as it is a carboxylic acid anhydride obtained by dehydration condensation of two molecules of carboxylic acid. Specific examples thereof include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydroanhydride.
  • the isocyanate group (—NCO) when the isocyanate group (—NCO) has two or more blocked isocyanate groups blocked by an appropriate protective group in one molecule, it is exposed to a high temperature during thermosetting.
  • the protective group (block part) is not particularly limited as long as it is dissociated by thermal dissociation and the resulting isocyanate group causes a crosslinking reaction with the resin.
  • a group represented by the following formula Examples thereof include compounds having two or more in the molecule (note that these groups may be the same or different from each other).
  • R b represents an organic group in the block part.
  • Such a compound can be obtained, for example, by reacting an appropriate blocking agent with a compound having two or more isocyanate groups in one molecule.
  • the compound having two or more isocyanate groups in one molecule include, for example, isophorone diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), polyisocyanate of trimethylhexamethylene diisocyanate, and dimers thereof. , Trimers, and reaction products of these with diols, triols, diamines, or triamines.
  • the blocking agent examples include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, 2-ethoxyhexanol, 2-N, N-dimethylaminoethanol, 2-ethoxyethanol, cyclohexanol; phenol, o-nitrophenol , P-chlorophenol, phenols such as o-, m- or p-cresol; lactams such as ⁇ -caprolactam, oximes such as acetone oxime, methyl ethyl ketone oxime, methyl isobutyl ketone oxime, cyclohexanone oxime, acetophenone oxime, benzophenone oxime
  • pyrazoles such as pyrazole, 3,5-dimethylpyrazole and 3-methylpyrazole
  • thiols such as dodecanethiol and benzenethiol.
  • a compound containing a blocked isocyanate is also available as a commercial product.
  • Specific examples thereof include Takenate (registered trademark) B-830, B-815N, B-842N, B-870N, B-874N, B-882N, B-7005, B-7030, B-7075, B-5010 (Mitsui Chemicals Polyurethane Co., Ltd.), Duranate (registered trademark) 17B-60PX, TPA-B80E, MF-B60X, MF-K60X, E402-B80T (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.), Karenz MOI-BM (Registered Trademark) (Showa Denko Co., Ltd.) TRIXENE BI7950, 7951, 7960, 7961, 7982, 7990, 7991, 7992 (registered trademark) (above, Baxenden Chem cal Co., Ltd.), and the like.
  • the aminoplast compound is not particularly limited as long as it has two or more methoxymethylene groups in one molecule.
  • hexamethoxymethylmelamine CYMEL (registered trademark) 303 tetrabutoxymethylglycoluril 1170 Cymel series such as Tetramethoxymethylbenzoguanamine 1123 (Nippon Cytec Industries, Ltd.), Nicalac (registered trademark) MW-30HM, MW-390, MW-100LM, which are methylated melamine resins
  • melamine compounds such as MX-750LM, Nicarac series such as MX-270 and MX-280, which are methylated urea resins, and MX-280 and MX-290 (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.).
  • the oxetane compound is not particularly limited as long as it has two or more oxetanyl groups in one molecule.
  • OXT-221, OX-SQ-H, OX-SC containing oxetanyl group above And Toa Gosei Co., Ltd..
  • the phenoplast compound has two or more hydroxymethylene groups in one molecule and undergoes a crosslinking reaction by a dehydration condensation reaction with the polymer of the present invention when exposed to a high temperature during thermosetting. It is.
  • the phenoplast compound include 2,6-dihydroxymethyl-4-methylphenol, 2,4-dihydroxymethyl-6-methylphenol, bis (2-hydroxy-3-hydroxymethyl-5-methylphenyl) methane, Bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-5-methylphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dihydroxymethylphenyl) propane, bis (3-formyl-4-hydroxyphenyl) methane Bis (4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl) formylmethane, ⁇ , ⁇ -bis (4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl) -4-formyltoluene and the like.
  • the phenoplast compound is also available as a commercial product, and specific examples thereof include 26DMPC, 46DMOC, DM-BIPC-F, DM-BIOC-F, TM-BIP-A, BISA-F, BI25X-DF. BI25X-TPA (above, manufactured by Asahi Organic Materials Co., Ltd.).
  • a polyfunctional (meth) acrylic compound is suitable from the viewpoint that the refractive index lowering due to the crosslinking agent blending can be suppressed and the curing reaction proceeds rapidly, and among these, the triazine ring-containing polymer is preferred. Since it is excellent in compatibility, the polyfunctional (meth) acrylic compound having the following isocyanuric acid skeleton is more preferable. Examples of the polyfunctional (meth) acrylic compound having such a skeleton include NK ester A-9300 and A-9300-1CL (both manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).
  • R 111 to R 113 are each independently a monovalent organic group having at least one (meth) acryl group at the end).
  • the resulting cured film it is liquid at 25 ° C. and its viscosity is 5000 mPa ⁇ s or less, preferably 1 To 3000 mPa ⁇ s, more preferably 1 to 1000 mPa ⁇ s, and even more preferably 1 to 500 mPa ⁇ s, a polyfunctional (meth) acrylic compound (hereinafter referred to as a low-viscosity crosslinking agent) alone or in combination of two or more.
  • a polyfunctional (meth) acrylic compound hereinafter referred to as a low-viscosity crosslinking agent
  • Such low-viscosity cross-linking agents are also commercially available.
  • NK ester A-GLY-3E 85 mPa ⁇ s, 25 ° C.
  • A-GLY -9E 95 mPa ⁇ s, 25 ° C
  • A-GLY-20E 200 mPa ⁇ s, 25 ° C
  • A-TMPT-3EO 60 mPa ⁇ s, 25 ° C
  • A-TMPT-9EO ATM
  • the chain length between (meth) acrylic groups such as -4E (150 mPa ⁇ s, 25 ° C.), ATM-35E (350 mPa ⁇ s, 25 ° C.) (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) is relatively Long crosslinking agents.
  • NK ester A-GLY-20E (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and ATM-35E (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
  • a polyfunctional (meth) acrylic compound having the above isocyanuric acid skeleton in consideration of improving the alkali resistance of the cured film obtained, NK ester A-GLY-20E (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and ATM-35E (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) ) And a polyfunctional (meth) acrylic compound having the above isocyanuric acid skeleton.
  • the thin film laminated film can be cured well without being inhibited by oxygen. Sex can be obtained.
  • the protective film since the protective film needs to be peeled after curing, it is preferable to use a polybasic acid-modified acrylic oligomer that gives a thin film with good peelability.
  • the above-mentioned cross-linking agents may be used alone or in combination of two or more.
  • the amount of the crosslinking agent used is preferably 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the triazine ring-containing polymer, but considering the solvent resistance, the lower limit is preferably 2 parts by mass, more preferably 5 parts by mass. Furthermore, in consideration of controlling the refractive index, the upper limit is preferably 20 parts by mass, more preferably 15 parts by mass.
  • an initiator corresponding to each crosslinking agent can be blended.
  • a polyfunctional epoxy compound and / or polyfunctional (meth) acrylic compound is used as a crosslinking agent, photocuring proceeds without using an initiator to give a cured film.
  • an initiator may be used.
  • a photoacid generator or a photobase generator can be used.
  • the photoacid generator may be appropriately selected from known ones.
  • onium salt derivatives such as diazonium salts, sulfonium salts, and iodonium salts can be used.
  • aryldiazonium salts such as phenyldiazonium hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyldiazonium hexafluoroantimonate, 4-methylphenyldiazonium hexafluorophosphate; diphenyliodonium hexafluoroantimonate, di (4-methylphenyl) Diaryliodonium salts such as iodonium hexafluorophosphate and di (4-tert-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate; triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium hexafluorophosphate, diphenyl-4-thiophenoxy Phenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyl-4-thiophenoxy Enylsulfonium he
  • onium salts commercially available products may be used. Specific examples thereof include Sun-Aid SI-60, SI-80, SI-100, SI-60L, SI-80L, SI-100L, SI-L145, SI- L150, SI-L160, SI-L110, SI-L147 (Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), UVI-6950, UVI-6970, UVI-6974, UVI-6990, UVI-6990 (above, Union Carbide) Co., Ltd.), CPI-100P, CPI-100A, CPI-200K, CPI-200S (above, manufactured by San Apro Co., Ltd.), Adekaoptomer SP-150, SP-151, SP-170, SP-171 (above, Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Irgacure 261 (BASF), CI-2481, CI-2624, CI-2 39, CI-2064 (above, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.),
  • the photobase generator may be appropriately selected from known ones, such as Co-amine complex, oxime carboxylic acid ester, carbamic acid ester, quaternary ammonium salt photobase generator.
  • a photoacid or base generator When a photoacid or base generator is used, it is preferably used in the range of 0.1 to 15 parts by mass, more preferably in the range of 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyfunctional epoxy compound. If necessary, an epoxy resin curing agent may be blended in an amount of 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyfunctional epoxy compound.
  • a radical photopolymerization initiator when a polyfunctional (meth) acrylic compound is used, a radical photopolymerization initiator can be used.
  • the radical photopolymerization initiator may be appropriately selected from known ones, such as acetophenones, benzophenones, Michler's benzoylbenzoate, amyloxime esters, oxime esters, tetramethylthiuram monosulfide, and thioxanthones. Is mentioned.
  • photocleavable photoradical polymerization initiators are preferred.
  • the photocleavable photoradical polymerization initiator is described in the latest UV curing technology (p. 159, publisher: Kazuhiro Takahisa, publisher: Technical Information Association, Inc., published in 1991).
  • radical photopolymerization initiators examples include BASF Corporation trade names: Irgacure 127, 184, 369, 379, 379EG, 651, 500, 754, 819, 903, 907, 784, 2959, CGI 1700, CGI 1750, CGI 1850. , CG24-61, OXE01, OXE02, Darocur 1116, 1173, MBF, manufactured by BASF, Inc.
  • Product name Lucirin TPO, manufactured by UCB, Inc.
  • radical photopolymerization initiator When using a radical photopolymerization initiator, it is preferably used in the range of 0.1 to 200 parts by weight, preferably in the range of 1 to 150 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional (meth) acrylate compound. Is more preferable.
  • solvents are added to the composition of the present invention to dissolve the triazine ring-containing polymer.
  • the solvent include water, toluene, p-xylene, o-xylene, m-xylene, ethylbenzene, styrene, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoethyl ether, ethylene Glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol diethyl ether, dipropylene Recall monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, propylene
  • the solid content concentration in the composition is not particularly limited as long as it does not affect the storage stability, and may be appropriately set according to the target film thickness.
  • the solid content concentration is preferably 0.1 to 50% by mass, and more preferably 0.1 to 40% by mass.
  • the composition of the present invention includes other components other than the triazine ring-containing polymer, the crosslinking agent and the solvent, such as a leveling agent, a surfactant, a silane coupling agent, and a polymerization prohibition.
  • surfactant examples include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene oleyl ether; polyoxyethylene octylphenol ether, polyoxyethylene nonylphenol Polyoxyethylene alkyl allyl ethers such as ethers; polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers; sorbitan monolaurate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monostearate, sorbitan monooleate, sorbitan trioleate, sorbitan tristearate Sorbitan fatty acid esters such as polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethyleneso Nonionic surfactants such as polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters such as bitane monopalmitate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan trioleate, polyoxyethylene sorbitan tristearate, trade name
  • surfactants may be used alone or in combination of two or more.
  • the amount of the surfactant used is preferably 0.0001 to 5 parts by mass, more preferably 0.001 to 1 part by mass, and 0.01 to 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the triazine ring-containing polymer. Even more preferred.
  • the inorganic fine particles include Be, Al, Si, Ti, V, Fe, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, In, Sn, Sb, Ta, W, Pb, Bi, and Ce.
  • examples thereof include oxides, sulfides and nitrides of one or more kinds of metals selected, and these metal oxides are particularly preferable.
  • the inorganic fine particles may be used alone or in combination of two or more.
  • Specific examples of the metal oxide include Al 2 O 3 , ZnO, TiO 2 , ZrO 2 , Fe 2 O 3 , Sb 2 O 5 , BeO, ZnO, SnO 2 , CeO 2 , SiO 2 and WO 3. It is done.
  • the composite oxide is a mixture of two or more inorganic oxides in the production stage of fine particles.
  • examples thereof include TiO 2 and ZrO 2 , TiO 2 , ZrO 2 and SnO 2 , and complex oxides of ZrO 2 and SnO 2 .
  • the compound of the said metal may be sufficient.
  • ZnSb 2 O 6 , BaTiO 3 , SrTiO 3 , SrSnO 3 and the like can be mentioned. These compounds can be used alone or in admixture of two or more, and may also be used in admixture with the above oxides.
  • the said other component can be added at the arbitrary processes at the time of preparing the composition of this invention.
  • the film-forming composition of the present invention can be applied to a substrate, then heated as necessary to evaporate the solvent, and then heated or irradiated with light to form a desired cured film.
  • the coating method of the composition is arbitrary, for example, spin coating method, dip method, flow coating method, ink jet method, jet dispenser method, spray method, bar coating method, gravure coating method, slit coating method, roll coating method, transfer Methods such as printing, brush coating, blade coating, and air knife coating can be employed.
  • silicon glass on which indium tin oxide (ITO) is formed, glass on which indium zinc oxide (IZO) is formed, polyethylene terephthalate (PET), plastic, glass, quartz, ceramics
  • ITO indium tin oxide
  • IZO indium zinc oxide
  • PET polyethylene terephthalate
  • the firing temperature is not particularly limited for the purpose of evaporating the solvent, and can be carried out at 110 to 400 ° C., for example.
  • the baking method is not particularly limited, and for example, it may be evaporated using a hot plate or an oven in an appropriate atmosphere such as air, an inert gas such as nitrogen, or in a vacuum.
  • the firing temperature and firing time may be selected in accordance with the process steps of the target electronic device, and the firing conditions may be selected so that the physical properties of the obtained film meet the required characteristics of the electronic device.
  • the conditions for the light irradiation are not particularly limited, and an appropriate irradiation energy and time may be adopted depending on the triazine ring-containing polymer and the crosslinking agent to be used.
  • a fine pattern can be formed by light irradiation through a mask and development with a developer. In this case, development after exposure can be performed by immersing the exposure resin in, for example, an organic solvent developer or an aqueous developer.
  • organic solvent developer examples include PGME, PGMEA, a mixed solvent of PGME and PGMEA, NMP, ⁇ -butyrolactone, DMSO, and the like.
  • aqueous developer examples include sodium carbonate, potassium carbonate, Examples include alkaline aqueous solutions such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide.
  • the oxirane ring-containing compound include those having one or more, preferably two or more oxirane rings in the molecule. Specific examples thereof include glycidyl ether type epoxy resins, glycidyl ester type epoxy resins, and alicyclic epoxies. Resins, epoxy-modified polybutadiene resins, oxetane compounds and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the amount of the oxirane-containing compound is not particularly limited, but can be about 10 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the triazine ring-containing polymer.
  • the photocurable catalyst examples include a photocation generator.
  • the photocation generator include triarylsulfonium salts such as triphenylsulfonium hexafluorophosphate and triphenylsulfonium hexafluoroantimonate; triaryl selenium salts; diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate and the like. And diaryliodonium salts. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the blending amount of the photocurable catalyst is not particularly limited, but can be about 0.1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the triazine ring-containing polymer.
  • the preparation method of the said negative pattern formation composition is not specifically limited, What is necessary is just to mix
  • the above-described solvent may be used.
  • the composition can be cured by, for example, irradiating ultraviolet light or the like at 1 to 4000 mj / cm 2 after being applied by the method described above. Light irradiation may be performed using various known methods such as a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, an LED, and laser light. If necessary, it may be heated at about 110 to 180 ° C. before and after exposure. Development after exposure can be performed by immersing the exposure resin in the organic solvent developer or aqueous developer described above.
  • an azide compound may be further added to the above composition.
  • the azide compound a compound having one or more, preferably two or more 1,2-naphthoquinonediazide groups is preferable, and specific examples thereof include 2,3,4-trihydroxy-benzophenone and 1,2-naphthoquinone- (2) 1,2-naphthoquinone diazide sulfonic acid derivatives such as esters with -diazide-5-sulfonic acid.
  • the amount of the oxirane-containing compound is not particularly limited, but can be about 4 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the triazine ring-containing polymer.
  • the method for preparing the positive pattern forming composition is not particularly limited, and may be prepared by blending the components in any order.
  • the above-described solvent may be used.
  • the composition After the composition is applied by the above-described method, it can be cured by, for example, irradiation with ultraviolet light at 1 to 2000 mj / cm 2 by the above-described light irradiation method. Also in this case, if necessary, heating may be performed at about 110 to 180 ° C. before and after exposure. Development after exposure can be performed by immersing the exposure resin in the organic solvent developer or aqueous developer described above.
  • Additives include thermal cation generators such as benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 1-naphthylmethyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium methyl sulfate; 2 , 5-diethylthioxanthone, anthracene, 9,10-ethoxyanthracene, and the like, and the additives exemplified in the film-forming composition.
  • thermal cation generators such as benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 1-naphthylmethyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium methyl sulfate
  • 2 5-diethylthioxanthone, anthracene
  • the cured film and fine pattern of the present invention obtained as described above can achieve high heat resistance, high refractive index, and low volume shrinkage, liquid crystal display, organic electroluminescence (EL) display, touch panel, optical semiconductor Electronic devices such as (LED) elements, solid-state imaging devices, organic thin film solar cells, dye-sensitized solar cells, organic thin film transistors (TFTs), lenses, prism cameras, binoculars, microscopes, and parts for manufacturing semiconductor exposure devices And can be suitably used in the field of optical materials.
  • a cured film or a fine pattern produced from the composition of the present invention has high transparency and a high refractive index, so that the visibility of a transparent conductive film such as ITO or silver nanowire can be improved.
  • the transparent conductive film a transparent conductive film having a conductive nanostructure such as an ITO film, an IZO film, a metal nanoparticle, a metal nanowire, or a metal nanomesh is preferable, and a transparent conductive film having a conductive nanostructure is more preferable.
  • the metal which comprises electroconductive nanostructure is not specifically limited, Silver, gold
  • a transparent conductive film having silver nanoparticles, silver nanowires, silver nanomesh, gold nanoparticles, gold nanowires, gold nanomesh, copper nanoparticles, copper nanowires, copper nanomesh, etc. is preferred, and transparent conductive materials having silver nanowires in particular.
  • a membrane is preferred.
  • the high refractive index pattern produced from the composition of the present invention requires a high refractive index pattern including the above-mentioned prevention of transparent electrode bone appearance such as touch panel, light extraction use of organic EL display and black matrix use. It can be suitably used for the intended use.
  • 2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine [1] (9.22 g, 0.05 mol, manufactured by Eponic Degussa) dissolved in 69.85 g of THF was added dropwise and stirred for 1 hour.
  • This reaction solution was added dropwise to a 300 mL four-necked flask with 81.49 g of NMP, added dropwise to a tank heated to 85 ° C. in an oil bath in advance over 30 minutes, and polymerized by stirring for 2 hours. Thereafter, aniline (11.31 g, 0.125 mol) was added, and the reaction was terminated after stirring for 1 hour.
  • n-propylamine (6.21 g, 0.105 mol) was added dropwise and stirred for 1 hour to quench the hydrochloric acid. Then, it was reprecipitated in ion exchange water (1397 g). The precipitate was filtered, redissolved in THF (77.6 g) and stirred for 1 hour. After removing the supernatant, the concentration was adjusted by adding THF (25.87 g), and reprecipitation was performed in ion-exchanged water (620.9 g). The resulting precipitate was filtered and dried in a vacuum dryer at 100 ° C.
  • H-24X the target polymer compound [5] (hereinafter abbreviated as H-24X).
  • the measurement result of the 1 H-NMR spectrum of the polymer compound [5] is shown in FIG.
  • the weight average molecular weight Mw measured by polystyrene conversion by H-24X GPC was 1,200, and the polydispersity Mw / Mn was 1.32.
  • Example 1-1 5.87 mg of the polymer compound [5] obtained in Example 1-1 was weighed in a platinum pan and measured with TG-DTA at a rate of temperature increase of 15 ° C./min. A 5% weight loss was 355.4 ° C. Met.
  • Example 1-1 The polymer compound obtained in Example 1-1 was added to THF, cyclohexanone (CHN), cyclopentane (CPN), and propylene glycol monomethyl ether (PGME) so as to be 10% by mass, 20% by mass, and 30% by mass.
  • CHN cyclohexanone
  • CPN cyclopentane
  • PGME propylene glycol monomethyl ether
  • the polymer compound obtained in Example 1-1 is a polymer compound having a carboxyl group-containing arylene group in the main chain, it is soluble in various organic solvents and dissolved in a weak alkaline aqueous solution. Excellent in properties.
  • 3,5-diaminobenzoic acid [2] (18.24 g, 0.12 mol, manufactured by Nippon Pure Chemicals Co., Ltd.) was added to a 500 mL four-necked flask, and N, N-dimethylacetamide (DMAc) 129. It melt
  • DMAc N, N-dimethylacetamide
  • This solution was added dropwise to a 500 mL four-necked flask that had been previously heated to 90 ° C. by adding 129.39 g of DMAc. After dropping, the mixture was reacted at 90 ° C. for 2 hours, and aniline (27.9 g, 0.3 mol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise and stirred for 3 hours. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 17.7 g of n-propylamine was added dropwise to terminate the polymerization. The obtained reaction solution was dropped into 1600 g of ion-exchanged water, and reprecipitation was performed.
  • the obtained precipitate was filtered, and the filtrate was redispersed in 262 g of tetrahydrofuran and further reprecipitated in 1596 g of ion-exchanged water. Thereafter, the product obtained by filtration was dried at 120 ° C. for 8 hours to obtain 25.5 g of the target polymer compound [6] (hereinafter referred to as HB-TDCOOH).
  • the measurement result of the 1 H-NMR spectrum of the polymer compound [6] is shown in FIG.
  • Example 2-1 When 5.200 mg of the polymer compound [6] obtained in Example 2-1 was added to a platinum pan and measured by TG-DTA at a heating rate of 15 ° C./min, the 5% weight loss was 392 ° C. .
  • Example 2-1 Production of coating [Example 2-1] The polymer compound [5] obtained in Example 1-1 was dissolved in PGME so as to be 10% by mass, spin-coated on a glass substrate using a spin coater, and heated on a 120 ° C. hot plate for 3 minutes. A film was obtained by firing.
  • Example 2-2 In a sample bottle under nitrogen, 4.00 g of the polymer compound [6] obtained in Example 2-1 was added to PGME / n-propylamine / ion-exchanged water (72.25 / 12.25 / 15 mass ratio). ) was dissolved in 16.00 g of a mixed solvent to obtain a 20% by mass polymer solution. This solution was diluted to 10% by mass with PGME, spin-coated on a glass substrate using a spin coater aiming at a film thickness of 700 nm, and baked on a hot plate at 100 ° C. for 1 minute to obtain a film. Table 2 shows the refractive index and film thickness of the coatings prepared in Example 2-1 and Example 2-2.
  • the thin film prepared from the polymer compound obtained in Example 1-1 has a refractive index exceeding 1.75.
  • Example 3-1 Preparation of crosslinking agent-added composition and pattern formation and production of cured film [Example 3-1] 0.6 g of the polymer compound [5] obtained in Example 1-1, 0.3 g of polyfunctional acrylate (DN-0075, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), polyfunctional acrylate (A-GLY-20E, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.3 g, photoradical initiator (Irgacure OXE01, BASF) 0.06 g and PGME 5.04 g were added, and 6.36 g of pattern forming composition having a solid content of 20% by mass was added. Prepared.
  • polyfunctional acrylate DN-0075, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • A-GLY-20E Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • photoradical initiator Irgacure OXE01, BASF
  • the composition was filtered through a 0.45 ⁇ m filter, applied onto a glass substrate using a spin coater, and then baked on a hot plate at 120 ° C. for 60 seconds to form a coating film.
  • This coating film was irradiated with ultraviolet rays having a dose of 100 mJ / cm 2 at 365 nm through a photomask using an ultraviolet irradiation device MA6 (manufactured by SSUS). Thereafter, the film was immersed in a 0.04 mass% potassium hydroxide aqueous solution at 23 ° C. for 60 seconds for development, and further washed with running ultrapure water. After development, a stripe pattern having a line / space of 60 ⁇ m / 500 ⁇ m was resolved without residue. As a result of visual observation under a sodium lamp, no foreign matter was found in the cured film formed on the glass substrate. Furthermore, when observed with an electron microscope, no foreign matter was found on the cured film.

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Abstract

　例えば、下記式［５］で表されるような繰り返し単位構造を含むトリアジン環含有重合体を含む組成物を用いることで、高屈折率で、かつ、微細パターンを形成し得る薄膜を得ることができる。

Description

トリアジン環含有重合体およびそれを含む組成物
　本発明は、トリアジン環含有重合体およびそれを含む組成物に関する。
　近年、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、タッチパネル、光半導体（ＬＥＤ）素子、固体撮像素子、有機薄膜太陽電池、色素増感太陽電池、および有機薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の電子デバイスを開発する際に、高機能な高分子材料が要求されるようになってきた。
　求められる具体的な特性としては、１）耐熱性、２）透明性、３）高屈折率、４）高溶解性、５）低体積収縮率、６）高温高湿耐性、７）高膜硬度などが挙げられる。
　この点に鑑み、本発明者らは、トリアジン環および芳香環を有する繰り返し単位を含む重合体が高屈折率を有し、ポリマー単独で高耐熱性、高透明性、高屈折率、高溶解性、低体積収縮を達成でき、電子デバイスを作製する際の膜形成用組成物として好適であることを既に見出している（特許文献１）。
　ところで、液晶表示素子における、スペーサー、絶縁膜、保護膜などにおいて、透明材料を用いたパターン形成が行われており、これまでに多くのネガ型感光性組成物がこの用途に提案されてきた。
　特に、近年では、高精細液晶ディスプレイや携帯電話用ディスプレイの需要が高まっていることにより、直径１０μｍ以下の小さなパターンが求められるようになっている。
　また、タッチパネルにおいては、透明電極の視認性向上のために高屈折率層の必要性が高まっているが、電極配線部分に絶縁膜が存在すると応答性に影響が出てくることから、配線部分から１００～１０００μｍの幅で絶縁層を除去する必要がある。
　当該用途に用いられている既存材料は、屈折率という点で不十分であり、また、透明性を維持しつつ、その屈折率を１．７超まで向上することは困難である。
　この点、上記特許文献１の重合体は、屈折率という点では要求に応えられるものの、微細パターンの形成性という点で改善の余地がある。
　なお、特許文献２には、トリアジン環含有重合体を含むパターン形成用組成物が開示されているものの、この重合体は屈折率が１．７未満であり、より高い屈折率が要求される上記用途には適していない。
国際公開第２０１０／１２８６６１号 特開２００４－１５６００１号公報
　本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、高屈折率で透明性に優れた薄膜を形成し得るとともに、高屈折率な微細パターンをも形成し得るトリアジン環含有重合体およびそれを含む組成物を提供することを目的とする。
　本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、主鎖を構成するアリール基上にカルボキシル基を有するトリアジン環含有重合体を用いることで、高屈折率で透明性に優れた薄膜を形成し得るとともに、高屈折率な微細パターンをも形成し得ることを見出し、本発明を完成した。
　すなわち、本発明は、
１．　下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含むことを特徴とするトリアジン環含有重合体、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 ｛式中、ＲおよびＲ′は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表し、
　Ａｒ1は、式（２）～（１３）で示される群から選ばれる少なくとも１種を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 〔式中、Ｒ1～Ｒ92は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｒ93およびＲ94は、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表し、Ｗ1およびＷ2は、互いに独立して、単結合、ＣＲ95Ｒ96（Ｒ95およびＲ96は、互いに独立して、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ2、またはＮＲ97（Ｒ97は、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表す。）を表し、Ｘ1およびＸ2は、互いに独立して、単結合、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基、または式（１４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 （式中、Ｒ98～Ｒ101は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｙ1およびＹ2は、互いに独立して、単結合または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基を表す。）で示される基を表す。
　ただし、式（２）～（１３）は、いずれもその中の１つの芳香環上に少なくとも１つのカルボキシル基を有する。〕
２．　さらに、下記式（１′）で表される繰り返し単位構造を含む１のトリアジン環含有重合体、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 ｛式中、ＲおよびＲ′は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表し、
　Ａｒ2は、式（２′）～（１３′）で示される群から選ばれる少なくとも１種を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 〔式中、Ｒ1′～Ｒ92′は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｒ93およびＲ94は、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表し、Ｗ1およびＷ2は、互いに独立して、単結合、ＣＲ95Ｒ96（Ｒ95およびＲ96は、互いに独立して、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ2、またはＮＲ97（Ｒ97は、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表す。）を表し、Ｘ1′およびＸ2′は、互いに独立して、単結合、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基、または式（１４′）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 （式中、Ｒ98′～Ｒ101′は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｙ1およびＹ2は、互いに独立して、単結合または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基を表す。）で示される基を表す。〕｝
３．　前記Ａｒ1が、式（１５）で示される１のトリアジン環含有重合体、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 ４．　前記Ａｒ1が、式（１６）で示される３のトリアジン環含有重合体、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 ５．　前記Ａｒ2が、式（１７）で示される２のトリアジン環含有重合体、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 ６．　　少なくとも１つのトリアジン環末端を有し、このトリアジン環末端の少なくとも一部が、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基で置換されていてもよいアリールアミノ基で封止されている１～５のいずれかのトリアジン環含有重合体、
７．　前記アリールアミノ基が、このアミノ基に対してオルト位の少なくとも一方に前記アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を有する６のトリアジン環含有重合体、
８．　前記アリールアミノ基が、このアミノ基に対してオルト位の双方に前記アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を有する７のトリアジン環含有重合体、
９．　前記アリールアミノ基が、式（１８）で示される８のトリアジン環含有重合体、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 １０．　１～９のいずれかのトリアジン環含有重合体と有機溶媒とを含むトリアジン系重合体含有組成物、
１１．　さらに、架橋剤を含む１０のトリアジン系重合体含有組成物、
１２．　前記架橋剤が、多官能（メタ）アクリル化合物である１１のトリアジン系重合体含有組成物、
１３．　硬化膜形成用またはパターン形成用である１１または１２のトリアジン系重合体含有組成物、
１４．　１１～１３のいずれかのトリアジン系重合体含有組成物を硬化させて得られる硬化膜、
１５．　１１または１２のトリアジン系重合体含有組成物から作製されたパターン、
１６．　基材と、この基材上に形成された１４の硬化膜とを備える電子デバイス、
１７．　基材と、この基材上に形成された１４の硬化膜とを備える光学部材、
１８．　基材と、この基材上に形成された１５のパターンとを備える電子デバイス
を提供する。
　本発明によれば、高屈折率で透明性に優れた薄膜を形成し得るとともに、マスキングして露光・硬化させた後、これをアルカリ現像等することで微細パターンを形成することができる。
　本発明の組成物から作製された硬化膜や微細パターンは、架橋されたトリアジン環含有重合体による、高耐熱性、高屈折率、低体積収縮という特性を発揮し得るため、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、タッチパネル、光半導体（ＬＥＤ）素子、固体撮像素子、有機薄膜太陽電池、色素増感太陽電池、有機薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、レンズ、プリズム、カメラ、双眼鏡、顕微鏡、半導体露光装置等を作製する際の一部材など、電子デバイスや光学材料の分野に好適に利用できる。
　特に、本発明の組成物から作製された硬化膜や微細パターンは、透明性が高く、屈折率も高いため、ＩＴＯや銀ナノワイヤ等の透明導電膜の視認性を改善することができ、透明導電膜の劣化を抑制することができる。
　また、本発明の組成物から作製された高屈折率パターンは、上述したタッチパネル等の透明電極骨見え防止、有機ＥＬディスプレイの光取出し用途やブラックマトリックス用途をはじめとした、高屈折率パターンが要求される用途に好適に用いることできる。
実施例１－１で得られた高分子化合物［５］の1Ｈ－ＮＭＲスペクトル図である。 実施例１－２で得られた高分子化合物［６］の1Ｈ－ＮＭＲスペクトル図である。
　以下、本発明についてさらに詳しく説明する。
　本発明に係るトリアジン環含有重合体は、下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含むものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　上記式中、ＲおよびＲ′は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表すが、屈折率をより高めるという観点から、ともに水素原子であることが好ましい。
　本発明において、アルキル基の炭素数としては特に限定されるものではないが、１～２０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数１～１０がより好ましく、１～３がより一層好ましい。また、その構造は、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。
　アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、シクロブチル、１－メチル－シクロプロピル、２－メチル－シクロプロピル、ｎ－ペンチル、１－メチル－ｎ－ブチル、２－メチル－ｎ－ブチル、３－メチル－ｎ－ブチル、１，１－ジメチル－ｎ－プロピル、１，２－ジメチル－ｎ－プロピル、２，２－ジメチル－ｎ－プロピル、１－エチル－ｎ－プロピル、シクロペンチル、１－メチル－シクロブチル、２－メチル－シクロブチル、３－メチル－シクロブチル、１，２－ジメチル－シクロプロピル、２，３－ジメチル－シクロプロピル、１－エチル－シクロプロピル、２－エチル－シクロプロピル、ｎ－ヘキシル、１－メチル－ｎ－ペンチル、２－メチル－ｎ－ペンチル、３－メチル－ｎ－ペンチル、４－メチル－ｎ－ペンチル、１，１－ジメチル－ｎ－ブチル、１，２－ジメチル－ｎ－ブチル、１，３－ジメチル－ｎ－ブチル、２，２－ジメチル－ｎ－ブチル、２，３－ジメチル－ｎ－ブチル、３，３－ジメチル－ｎ－ブチル、１－エチル－ｎ－ブチル、２－エチル－ｎ－ブチル、１，１，２－トリメチル－ｎ－プロピル、１，２，２－トリメチル－ｎ－プロピル、１－エチル－１－メチル－ｎ－プロピル、１－エチル－２－メチル－ｎ－プロピル、シクロヘキシル、１－メチル－シクロペンチル、２－メチル－シクロペンチル、３－メチル－シクロペンチル、１－エチル－シクロブチル、２－エチル－シクロブチル、３－エチル－シクロブチル、１，２－ジメチル－シクロブチル、１，３－ジメチル－シクロブチル、２，２－ジメチル－シクロブチル、２，３－ジメチル－シクロブチル、２，４－ジメチル－シクロブチル、３，３－ジメチル－シクロブチル、１－ｎ－プロピル－シクロプロピル、２－ｎ－プロピル－シクロプロピル、１－イソプロピル－シクロプロピル、２－イソプロピル－シクロプロピル、１，２，２－トリメチル－シクロプロピル、１，２，３－トリメチル－シクロプロピル、２，２，３－トリメチル－シクロプロピル、１－エチル－２－メチル－シクロプロピル、２－エチル－１－メチル－シクロプロピル、２－エチル－２－メチル－シクロプロピル、２－エチル－３－メチル－シクロプロピル基等が挙げられる。
　上記アルコキシ基の炭素数としては特に限定されるものではないが、１～２０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数１～１０がより好ましく、１～３がより一層好ましい。また、そのアルキル部分の構造は、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。
　アルコキシ基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ－ブトキシ、イソブトキシ、ｓ－ブトキシ、ｔ－ブトキシ、ｎ－ペントキシ、１－メチル－ｎ－ブトキシ、２－メチル－ｎ－ブトキシ、３－メチル－ｎ－ブトキシ、１，１－ジメチル－ｎ－プロポキシ、１，２－ジメチル－ｎ－プロポキシ、２，２－ジメチル－ｎ－プロポキシ、１－エチル－ｎ－プロポキシ、ｎ－ヘキシルオキシ、１－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、２－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、３－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、４－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、１，１－ジメチル－ｎ－ブトキシ、１，２－ジメチル－ｎ－ブトキシ、１，３－ジメチル－ｎ－ブトキシ、２，２－ジメチル－ｎ－ブトキシ、２，３－ジメチル－ｎ－ブトキシ、３，３－ジメチル－ｎ－ブトキシ、１－エチル－ｎ－ブトキシ、２－エチル－ｎ－ブトキシ、１，１，２－トリメチル－ｎ－プロポキシ、１，２，２－トリメチル－ｎ－プロポキシ、１－エチル－１－メチル－ｎ－プロポキシ、１－エチル－２－メチル－ｎ－プロポキシ基等が挙げられる。
　上記アリール基の炭素数としては特に限定されるものではないが、６～４０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数６～１６がより好ましく、６～１３がより一層好ましい。
　アリール基の具体例としては、フェニル、ｏ－クロルフェニル、ｍ－クロルフェニル、ｐ－クロルフェニル、ｏ－フルオロフェニル、ｐ－フルオロフェニル、ｏ－メトキシフェニル、ｐ－メトキシフェニル、ｐ－ニトロフェニル、ｐ－シアノフェニル、α－ナフチル、β－ナフチル、ｏ－ビフェニリル、ｍ－ビフェニリル、ｐ－ビフェニリル、１－アントリル、２－アントリル、９－アントリル、１－フェナントリル、２－フェナントリル、３－フェナントリル、４－フェナントリル、９－フェナントリル基等が挙げられる。
　アラルキル基の炭素数としては特に限定されるものではないが、炭素数７～２０が好ましく、そのアルキル部分は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
　その具体例としては、ベンジル、ｐ－メチルフェニルメチル、ｍ－メチルフェニルメチル、ｏ－エチルフェニルメチル、ｍ－エチルフェニルメチル、ｐ－エチルフェニルメチル、２－プロピルフェニルメチル、４－イソプロピルフェニルメチル、４－イソブチルフェニルメチル、α－ナフチルメチル基等が挙げられる。
　上記Ａｒ1は、式（２）～（１３）で示される群から選ばれる少なくとも１種を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　上記Ｒ1～Ｒ92は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｒ93およびＲ94は、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表し、Ｗ1およびＷ2は、互いに独立して、単結合、ＣＲ95Ｒ96（Ｒ95およびＲ96は、互いに独立して、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ2、またはＮＲ97（Ｒ97は、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表す。）を表す。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　なお、アルキル基、アルコキシ基としては上記と同様のものが挙げられる。
　また、Ｘ1およびＸ2は、互いに独立して、単結合、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基、または式（１４）で示される基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　上記Ｒ98～Ｒ101は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｙ1およびＹ2は、互いに独立して、単結合または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基を表す。これらハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基としては上記と同様のものが挙げられる。
　炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン基等が挙げられる。
　なお、本発明においては、得られる薄膜や硬化膜のアルカリ現像液に対する溶解性を向上させるという点から、Ａｒ1において、芳香環上に少なくとも１つのカルボキシル基を有する。
　Ａｒ1の芳香環上に少なくとも１つのカルボキシル基を有する場合とは、式（２）～（１３）が、いずれもその中の少なくとも１つの芳香環上に少なくとも１つのカルボキシル基を有する場合であり、具体的には、式（２）のＲ1～Ｒ4の少なくとも１つがカルボキシル基であり、式（３）のＲ5～Ｒ10の少なくとも１つがカルボキシル基であり、式（４）のＲ11～Ｒ15の少なくとも１つがカルボキシル基であり、式（５）のＲ16～Ｒ23の少なくとも１つがカルボキシル基であり、式（６）のＲ24～Ｒ31の少なくとも１つがカルボキシル基であり、式（７）のＲ32～Ｒ37の少なくとも１つがカルボキシル基であり、式（８）のＲ38～Ｒ44の少なくとも１つがカルボキシル基であり、式（９）のＲ45～Ｒ56の少なくとも１つがカルボキシル基であり、式（１０）のＲ57～Ｒ68の少なくとも１つがカルボキシル基であり、式（１１）のＲ69～Ｒ76の少なくとも１つがカルボキシル基であり（Ｘ1および／またはＸ2が式（１４）の場合、Ｒ69～Ｒ76およびＲ98～Ｒ101の少なくとも１つがカルボキシル基であり）、式（１２）のＲ77～Ｒ84の少なくとも１つがカルボキシル基であり、式（１３）のＲ85～Ｒ92の少なくとも１つがカルボキシル基であることを意味する。
　また、カルボキシル基の数は、特に限定されるものではないが、アルカリ現像液での現像性および有機溶媒に対する溶解性のバランスを考慮すると、いずれの基においても１つが好適である。
　特に、Ａｒ1としては、式（２）、（５）～（１３）で示される少なくとも１種が好ましく、式（２）、（５）、（７）、（８）、（１１）～（１３）で示される少なくとも１種がより好ましい。上記式（２）～（１３）で表されるアリール基の具体例としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　これらの中でも、より高い屈折率のポリマーが得られることから、下記式で示されるアリール基がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　さらに、アルカリ現像液での現像性および有機溶媒に対する溶解性のバランスを考慮すると、Ａｒ1としては、式（１５）で示される基が好ましく、式（１６）で示される基がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　本発明のトリアジン環含有重合体は、上記式（１）で表される繰り返し単位のみを含むものでもよいが、式（１）で表される繰り返し単位構造とともにカルボキシル基を有しないジアミンを用いて得られる式（１′）で表される繰り返し単位を含むことが好ましい。
　このような２種類のジアミンを併用した共重合型とすることで、レジスト溶剤等の安全性の高い溶剤に対するトリアジン環含有重合体の溶解性をより高めることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　式（１′）において、ＲおよびＲ′は、上記と同じ意味を表し、Ａｒ2は、式（２′）～（１３′）で示される群から選ばれる少なくとも１種を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　上記Ｒ1′～Ｒ92′は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｒ93およびＲ94は、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表し、Ｗ1およびＷ2は、互いに独立して、単結合、ＣＲ95Ｒ96（Ｒ95およびＲ96は、互いに独立して、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ2、またはＮＲ97（Ｒ97は、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表す。）を表す。これらハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基としては上記と同様のものが挙げられる。
　また、Ｘ1′およびＸ2′は、互いに独立して、単結合、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基、または式（１４′）で示される基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
　上記Ｒ98′～Ｒ101′は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｙ1およびＹ2は、上記と同じ意味を表す。これらハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基としては上記と同様のものが挙げられる。
　特に、Ａｒ2としては、式（２）、（５）～（１３）で示される少なくとも１種が好ましく、式（２）、（５）、（７）、（８）、（１１）～（１３）で示される少なくとも１種がより好ましい。上記式（２）～（１３）で表されるアリール基の具体例としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　これらの中でも、より高い屈折率のポリマーが得られることから、下記式で示されるアリール基がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　特に、レジスト溶剤等の安全性の高い溶剤に対するトリアジン環含有重合体の溶解性をより高めることを考慮すると、Ａｒ2としては、式（１７）で示されるｍ－フェニレン基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
　このような共重合型の重合体とする場合、式（１）で表される繰り返し単位と式（１′）で表される繰り返し単位との含有比率は、特に限定されるものではないが、アルカリ溶解性および有機溶媒に対する溶解性のバランスを考慮すると、モル比で５０：５０～９９：１程度が好ましく、６０：４０～９０：１０がより好ましく、６５：３５～８０：２０がより一層好ましい。
　なお、共重合型の重合体とする場合、得られる重合体中には、上記式（１）および式（１′）で表される繰り返し単位に加え、下記式（１”）で示される繰り返し単位も含まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
　本発明において、特に好適なトリアジン環含有重合体としては、式（１９）～（２２）および（１９′）～（２２′）で示されるものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 （式中、Ｒ，Ｒ′，Ｒ1～Ｒ4およびＲ1′～Ｒ4′は上記と同じ意味を表すが、Ｒ1～Ｒ4のいずれか１つのみがカルボキシル基である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 （式中、Ｒ，Ｒ′およびＲ1′～Ｒ4′は上記と同じ意味を表し、Ｒ1，Ｒ2およびＲ4は、上記例示した基のうち、カルボキシル基以外の基を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 （式中、Ｒ1′～Ｒ4′は上記と同じ意味を表し、Ｒ1，Ｒ2およびＲ4は、上記例示した基のうち、カルボキシル基以外の基を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 （式中、Ｒ，Ｒ′，Ｒ1～Ｒ4は上記と同じ意味を表すが、Ｒ1～Ｒ4のいずれか１つのみがカルボキシル基である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 （式中、Ｒ，Ｒ′は上記と同じ意味を表し、Ｒ1，Ｒ2およびＲ4は、上記例示した基のうち、カルボキシル基以外の基を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 （式中、Ｒ1，Ｒ2およびＲ4は、上記例示した基のうち、カルボキシル基以外の基を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
　本発明における重合体の重量平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００～５０００００が好ましく、さらに５００～１０００００が好ましく、より耐熱性を向上させるとともに、収縮率を低くするという点から、２０００以上が好ましく、より溶解性を高め、得られた溶液の粘度を低下させるという点から、５００００以下が好ましく、３００００以下がより好ましく、さらに１００００以下が好ましい。
　なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣという）分析による標準ポリスチレン換算で得られる平均分子量である。
　本発明のトリアジン環含有重合体（ハイパーブランチポリマー）は、上述した特許文献１に開示された手法に準じて製造することができる。
　例えば、下記スキーム１に示されるように、トリアジン環含有重合体（２２）は、トリアジン化合物（２３）、カルボキシル基を有するアリールジアミノ化合物（２４）およびカルボキシル基を有しないアリールジアミノ化合物（２５）を適当な有機溶媒中で反応させて得ることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 （式中、Ｘは、互いに独立してハロゲン原子を表す。）
　上記反応において、ジアミノ化合物（２４），（２５）の仕込み比は、目的とする重合体が得られる限り任意であるが、トリアジン化合物（２３）１当量に対し、ジアミノ化合物（２４），（２５）の総量として０．０１～１０当量が好ましく、１～５当量がより好ましい。カルボキシル基を有するアリールジアミノ化合物（２４）およびカルボキシル基を有しないアリールジアミノ化合物（２５）の仕込み比は、上述のとおり、モル比でジアミノ化合物（２４）：ジアミノ化合物（２５）＝５０：５０～９９：１程度が好ましく、６０：４０～９０：１０がより好ましく、６５：３５～８０：２０がより一層好ましい。
　ジアミノ化合物（２４），（２５）は、ニートで加えても、有機溶媒に溶かした溶液で加えてもよいが、操作の容易さや反応のコントロールのし易さなどを考慮すると、後者の手法が好適である。
　反応温度は、用いる溶媒の融点から溶媒の沸点までの範囲で適宜設定すればよいが、特に、－３０～１５０℃程度が好ましく、－１０～１００℃がより好ましい。
　有機溶媒としては、この種の反応において通常用いられる種々の溶媒を用いることができ、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピペリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエチレン尿素、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルマロン酸アミド、Ｎ－メチルカプロラクタム、Ｎ－アセチルピロリジン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピオン酸アミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルイソブチルアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’－ジメチルプロピレン尿素等のアミド系溶媒、およびそれらの混合溶媒が挙げられる。
　中でもＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、およびそれらの混合系が好ましく、特に、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好適である。
　また、上記スキーム１の反応では、重合時または重合後に通常用いられる種々の塩基を添加してもよい。
　この塩基の具体例としては、炭酸カリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムエトキシド、酢酸ナトリウム、炭酸リチウム、水酸化リチウム、酸化リチウム、酢酸カリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、水酸化バリウム、リン酸三リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、フッ化セシウム、酸化アルミニウム、アンモニア、ｎ－プロピルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ－メチルピペリジン、２，２，６，６－テトラメチル－Ｎ－メチルピペリジン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、Ｎ－メチルモルホリン等が挙げられる。
　塩基の添加量は、トリアジン化合物（２３）１当量に対して１～１００当量が好ましく、１～１０当量がより好ましい。なお、これらの塩基は水溶液にして用いてもよい。
　得られる重合体には、原料成分が残存していないことが好ましいが、本発明の効果を損なわなければ一部の原料が残存していてもよい。
　反応終了後、生成物は再沈法等によって容易に精製できる。
　なお、本発明のトリアジン環含有重合体は、少なくとも１つのトリアジン環末端を有し、このトリアジン環末端の少なくとも一部が、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基で置換されていてもよいアリールアミノ基で封止されていることが好ましい。
　アリールアミノ基のアリール基としては、上記と同様のものが挙げられるがフェニル基が好ましい。
　特に、レジスト溶剤等の安全性の高い溶剤に対するトリアジン環含有重合体の溶解性を確保するという観点から、上記アリールアミノ基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基で置換されていることがより好ましく、そのアミノ基に対してオルト位の少なくとも一方にアルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を有するものがより一層好ましく、上記アミノ基に対してオルト位の双方にアルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を有するものがさらに好ましい。
　アリールアミノ基が有する置換基としては、炭素数１～２０のアルキル基が好ましく、炭素数１～１０のアルキル基がより好ましく、炭素数１～５のアルキル基がより一層好ましい。
　なお、これらアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基としては、上記で例示したものと同様のものが挙げられる。
　以上の点から、上記アリールアミノ基としては、このアミノ基に対してオルト位の少なくとも一方に炭素数１～２０のアルキル基を有するものが好ましく、オルト位の双方に炭素数１～５のアルキル基を有するものがより好ましく、式（１８）で示される、オルト位の双方にメチル基を有するフェニルアミノ基が最適である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
　末端封止方法としては、公知の方法を採用すればよく、例えば、上記の手法により得られたトリアジン環含有重合体（２２）を、末端封止基を与える末端封止剤である、上記所定の置換基を有するアリールアミン化合物で処理すればよい。
　この場合、末端封止剤の使用量は、重合反応に使われなかった余剰のトリアジン化合物由来のハロゲン原子１当量に対し、０．０５～１０当量程度が好ましく、０．１～５当量がより好ましく、０．５～２当量がより一層好ましい。
　反応溶媒や反応温度としては、上記スキーム１で述べたのと同様の条件が挙げられ、また、末端封止剤は、アリールジアミン化合物と同時に仕込んでもよい。
　なお、上記所定の置換基を有するアリールアミン化合物とともに、置換基を有しないアリールアミン化合物を用い、２種類以上の基で末端封止を行ってもよい。
　上述した本発明のトリアジン環含有重合体は、架橋剤とともに膜形成用組成物やパターン形成用組成物として好適に用いることができる。
　架橋剤としては、上述したトリアジン環含有重合体と反応し得る置換基を有する化合物であれば特に限定されるものではない。
　そのような化合物としては、メチロール基、メトキシメチル基などの架橋形成置換基を有するメラミン系化合物、置換尿素系化合物、エポキシ基またはオキセタン基などの架橋形成置換基を含有する化合物、ブロック化イソシアナートを含有する化合物、酸無水物を有する化合物、（メタ）アクリル基を有する化合物、フェノプラスト化合物等が挙げられるが、耐熱性や保存安定性の観点からエポキシ基、ブロックイソシアネート基、（メタ）アクリル基を含有する化合物が好ましく、特に、ブロックイソシアネート基を有する化合物や、開始剤を用いなくとも光硬化可能な組成物を与える多官能エポキシ化合物および／または多官能（メタ）アクリル化合物が好ましい。
　なお、これらの化合物は、重合体の末端処理に用いる場合は少なくとも１個の架橋形成置換基を有していればよく、重合体同士の架橋処理に用いる場合は少なくとも２個の架橋形成置換基を有する必要がある。
　多官能エポキシ化合物としては、エポキシ基を一分子中２個以上有するものであれば特に限定されるものではない。
　その具体例としては、トリス（２，３－エポキシプロピル）イソシアヌレート、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，２－エポキシ－４－（エポキシエチル）シクロヘキサン、グリセロールトリグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、２，６－ジグリシジルフェニルグリシジルエーテル、１，１，３－トリス［ｐ－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］プロパン、１，２－シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジルエステル、４，４’－メチレンビス（Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアニリン）、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、ビスフェノール－Ａ－ジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル等が挙げられる。
　また、市販品として、少なくとも２個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂である、ＹＨ－４３４、ＹＨ４３４Ｌ（東都化成（株）製）、シクロヘキセンオキサイド構造を有するエポキシ樹脂である、エポリードＧＴ－４０１、同ＧＴ－４０３、同ＧＴ－３０１、同ＧＴ－３０２、セロキサイド２０２１、同３０００（ダイセル化学工業（株）製）、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂である、エピコート（現、ｊＥＲ）１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂である、エピコート（現、ｊＥＲ）８０７（ジャパンエポキシレジン（株）製）、フェノールノボラック型エポキシ樹脂である、エピコート（現、ｊＥＲ）１５２、同１５４（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬（株）製）、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂である、ＥＯＣＮ－１０２、同１０３Ｓ、同１０４Ｓ、同１０２０、同１０２５、同１０２７（以上、日本化薬（株）製）、エピコート（現、ｊＥＲ）１８０Ｓ７５（ジャパンエポキシレジン（株）製）、脂環式エポキシ樹脂である、デナコールＥＸ－２５２（ナガセケムテックス（株）製）、ＣＹ１７５、ＣＹ１７７、ＣＹ１７９（以上、ＣＩＢＡ－ＧＥＩＧＹ Ａ.Ｇ製）、アラルダイトＣＹ－１８２、同ＣＹ－１９２、同ＣＹ－１８４（以上、ＣＩＢＡ－ＧＥＩＧＹ Ａ.Ｇ製）、エピクロン２００、同４００（以上、ＤＩＣ（株）製）、エピコート（現、ｊＥＲ）８７１、同８７２（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＤ－５６６１、ＥＤ－５６６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）、脂肪族ポリグリシジルエーテルである、デナコールＥＸ－６１１、同ＥＸ－６１２、同ＥＸ－６１４、同ＥＸ－６２２、同ＥＸ－４１１、同ＥＸ－５１２、同ＥＸ－５２２、同ＥＸ－４２１、同ＥＸ－３１３、同ＥＸ－３１４、同ＥＸ－３２１（ナガセケムテックス（株）製）等を用いることもできる。
　多官能（メタ）アクリル化合物としては、（メタ）アクリル基を一分子中２個以上有するものであれば特に限定されるものではない。
　その具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、エトキシ化グリセリントリメタクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリグリセリンモノエチレンオキサイドポリアクリレート、ポリグリセリンポリエチレングリコールポリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、多塩基酸変性アクリルオリゴマー等が挙げられる。
　また、多官能（メタ）アクリル化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＮＫエステルＡ－２００、同Ａ－４００、同Ａ－６００、同Ａ－１０００、同Ａ－９３００（イソシアヌル酸トリス（２－アクリロイルオキシエチル））、同Ａ－９３００－１ＣＬ、同Ａ－ＴＭＰＴ、同ＵＡ－５３Ｈ、同１Ｇ、同２Ｇ、同３Ｇ、同４Ｇ、同９Ｇ、同１４Ｇ、同２３Ｇ、同ＡＢＥ－３００、同Ａ－ＢＰＥ－４、同Ａ－ＢＰＥ－６、同Ａ－ＢＰＥ－１０、同Ａ－ＢＰＥ－２０、同Ａ－ＢＰＥ－３０、同ＢＰＥ－８０Ｎ、同ＢＰＥ－１００Ｎ、同ＢＰＥ－２００、同ＢＰＥ－５００、同ＢＰＥ－９００、同ＢＰＥ－１３００Ｎ、同Ａ－ＧＬＹ－３Ｅ、同Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、同Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、同Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯ、同Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ、同ＡＴ－２０Ｅ、同ＡＴＭ－４Ｅ、同ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－ＤＰＨ、同Ａ－ＴＭＰＴ、同Ａ－ＤＣＰ、同Ａ－ＨＤ－Ｎ、同ＴＭＰＴ、同ＤＣＰ、同ＮＰＧ、同ＨＤ－Ｎ、同Ａ－ＤＰＨ－４８Ｅ、同Ａ－ＤＰＨ－９６Ｅ、ＮＫオリゴ　Ｕ－１５ＨＡ、ＮＫポリマー　バナレジンＧＨ－１２０３（以上、新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ、同ＮＰＧＤＡ、同ＰＥＴ３０、同ＤＰＥＡ－１２、同ＰＥＧ４００ＤＡ、同ＴＨＥ－３３０、同ＲＰ－１０４０、ＤＮ－００７５（以上、日本化薬（株）製）、アロニックスＭ－２１０、同Ｍ－３０３、同Ｍ－３０５、同Ｍ－３０６、同Ｍ－３０９、同Ｍ－３０６、同Ｍ－３１０、同Ｍ－３１３、同Ｍ－３１５、同Ｍ－３２１、同Ｍ－３５０、同Ｍ－３６０、同Ｍ－４００、同Ｍ－４０２、同Ｍ－４０３、同Ｍ－４０４、同Ｍ－４０５、同Ｍ－４０６、同Ｍ－４０８、同Ｍ－４５０、同Ｍ－４５２、同Ｍ－４６０（以上、東亞合成（株）製）、ＤＰＧＤＡ、ＨＤＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＨＰＮＤＡ、ＰＥＴＩＡ、ＰＥＴＲＡ、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＥＢＥＣＲＹＬ１１、同４０、同１３５、同１４０、同１４５、同１５０、同１８０、同１１４２、同２０４、同２０５、同２１０、同２１５、同２２０、同２３０、同２４４、同２４５、同２６５、同２７０、同２８０／１５ＩＢ、同２８４、同２９４／２５ＨＤ、同３０３、同４３６、同４３８、同４４６、同４５０、同５２４、同５２５、同６００、同６０５、同６４５、同６４８、同７６７、同７７０、同８００、同８１０、同８１１、同８１２、同８４６、同８５１、同８５２、同８５３、同８６０、同８８４、同８８５、同１２５９、同１２９０、同１６０６、同１８３０、同１８７０、同３５００、同３６０３、同３６０８、同３７００、同３７０１、同３７０２、同３７０３、同３７０８、同４８２０、同４８５８、同５１２９、同６０４０、同８２１０、同８４５４、同８３０１Ｒ、同８３０７、同８３１１、同８４０２、同８４０５、同８４１１、同８４６５、同８７０１、同８８００、同８８０４、同８８０７、同９２７０、同９２２７ＥＡ、同９３６、ＫＲＭ８２００、同８２００ＡＥ、同７７３５、同８２９６、同０８４５２、同８９０４、同８５２８、同８９１２、ＯＴＡ４８０、ＩＲＲ２１４－Ｋ、同６１６、同６７９、同７４２、同７９３、ＰＥＧ４００ＤＡ－Ｄ（ＡＣＡ）Ｚ２００Ｍ、同Ｚ２３０ＡＡ，同Ｚ２５０、同Ｚ２５１、同Ｚ３００、同Ｚ３２０、同Ｚ２５４Ｆ（以上、ダイセル・オルネクス（株）製）等が挙げられる。
　上記多塩基酸変性アクリルオリゴマーも市販品として入手が可能であり、その具体例としては、アロニックスＭ－５１０，５２０（以上、東亞合成（株）製）等が挙げられる。
　酸無水物化合物としては、２分子のカルボン酸を脱水縮合させたカルボン酸無水物であれば、特に限定されるものではなく、その具体例としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、オクチル無水コハク酸、ドデセニル無水コハク酸等の分子内に１個の酸無水物基を有するもの；１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸無水物、３，４－ジカルボキシ－１，２，３，４－テトラヒドロ－１－ナフタレンコハク酸二無水物、ビシクロ［３．３．０］オクタン－２，４，６，８－テトラカルボン酸二無水物、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロ－３－フラニル）－３－メチル－３－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸無水物、１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、１，３－ジメチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物等の分子内に２個の酸無水物基を有するもの等が挙げられる。
　ブロック化イソシアネートを含有する化合物としては、イソシアネート基（－ＮＣＯ）が適当な保護基によりブロックされたブロック化イソシアネート基を一分子中２個以上有し、熱硬化の際の高温に曝されると、保護基（ブロック部分）が熱解離して外れ、生じたイソシアネート基が樹脂との間で架橋反応を起こすものであれば特に限定されるものではなく、例えば、下記式で示される基を一分子中２個以上（なお、これらの基は同一のものでも、また各々異なっているものでもよい）有する化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 （式中、Ｒbはブロック部の有機基を表す。）
　このような化合物は、例えば、一分子中２個以上のイソシアネート基を有する化合物に対して適当なブロック剤を反応させて得ることができる。
　一分子中２個以上のイソシアネート基を有する化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネート、１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンビス（４－シクロヘキシルイソシアネート）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートのポリイソシアネートや、これらの二量体、三量体、および、これらとジオール類、トリオール類、ジアミン類、またはトリアミン類との反応物などが挙げられる。
　ブロック剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、２－エトキシヘキサノール、２－Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエタノール、２－エトキシエタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類；フェノール、ｏ－ニトロフェノール、ｐ－クロロフェノール、ｏ－、ｍ－またはｐ－クレゾール等のフェノール類；ε－カプロラクタム等のラクタム類、アセトンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、メチルイソブチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム等のオキシム類；ピラゾール、３，５－ジメチルピラゾール、３－メチルピラゾール等のピラゾール類；ドデカンチオール、ベンゼンチオール等のチオール類などが挙げられる。
　ブロック化イソシアネートを含有する化合物は、市販品としても入手が可能であり、その具体例としては、タケネート（登録商標）Ｂ－８３０、Ｂ－８１５Ｎ、Ｂ－８４２Ｎ、Ｂ－８７０Ｎ、Ｂ－８７４Ｎ、Ｂ－８８２Ｎ、Ｂ－７００５、Ｂ－７０３０、Ｂ－７０７５、Ｂ－５０１０（以上、三井化学ポリウレタン（株）製）、デュラネート（登録商標）１７Ｂ－６０ＰＸ、同ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、同ＭＦ－Ｂ６０Ｘ、同ＭＦ－Ｋ６０Ｘ、同Ｅ４０２－Ｂ８０Ｔ（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）、カレンズＭＯＩ－ＢＭ（登録商標）（以上、昭和電工（株）製）ＴＲＩＸＥＮＥ　ＢＩ７９５０、同７９５１、同７９６０、同７９６１、同７９８２、同７９９０、同７９９１、同７９９２（登録商標）（以上、Ｂａｘｅｎｄｅｎ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製）等が挙げられる。
　アミノプラスト化合物としては、メトキシメチレン基を一分子中２個以上有するものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン　ＣＹＭＥＬ（登録商標）３０３、テトラブトキシメチルグリコールウリル　同１１７０、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン　同１１２３（以上、日本サイテックインダストリーズ（株）製）等のサイメルシリーズ、メチル化メラミン樹脂であるニカラック（登録商標）ＭＷ－３０ＨＭ、同ＭＷ－３９０、同ＭＷ－１００ＬＭ、同ＭＸ－７５０ＬＭ、メチル化尿素樹脂である同ＭＸ－２７０、同ＭＸ－２８０同ＭＸ－２９０（以上、（株）三和ケミカル製）等のニカラックシリーズ等のメラミン系化合物が挙げられる。
　オキセタン化合物としては、オキセタニル基を一分子中２個以上有するものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、オキセタニル基を含有するＯＸＴ－２２１、ＯＸ－ＳＱ－Ｈ、ＯＸ－ＳＣ（以上、東亜合成（株）製）等が挙げられる。
　フェノプラスト化合物は、ヒドロキシメチレン基を一分子中２個以上有し、そして熱硬化の際の高温に曝されると、本発明の重合体との間で脱水縮合反応により架橋反応が進行するものである。
　フェノプラスト化合物としては、例えば、２，６－ジヒドロキシメチル－４－メチルフェノール、２，４－ジヒドロキシメチル－６－メチルフェノール、ビス（２－ヒドロキシ－３－ヒドロキシメチル－５－メチルフェニル）メタン、ビス（４－ヒドロキシ－３－ヒドロキシメチル－５－メチルフェニル）メタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジヒドロキシメチルフェニル）プロパン、ビス（３－ホルミル－４－ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４－ヒドロキシ－２，５－ジメチルフェニル）ホルミルメタン、α，α－ビス（４－ヒドロキシ－２，５－ジメチルフェニル）－４－ホルミルトルエン等が挙げられる。
　フェノプラスト化合物は、市販品としても入手が可能であり、その具体例としては、２６ＤＭＰＣ、４６ＤＭＯＣ、ＤＭ－ＢＩＰＣ－Ｆ、ＤＭ－ＢＩＯＣ－Ｆ、ＴＭ－ＢＩＰ－Ａ、ＢＩＳＡ－Ｆ、ＢＩ２５Ｘ－ＤＦ、ＢＩ２５Ｘ－ＴＰＡ（以上、旭有機材工業（株）製）等が挙げられる。
　これらの中でも、架橋剤配合による屈折率低下を抑制し得るとともに、硬化反応が速やかに進行するという点から、多官能（メタ）アクリル化合物が好適であり、その中でも、トリアジン環含有重合体との相溶性に優れていることから、下記イソシアヌル酸骨格を有する多官能（メタ）アクリル化合物がより好ましい。
　このような骨格を有する多官能（メタ）アクリル化合物としては、例えば、ＮＫエステルＡ－９３００、同Ａ－９３００－１ＣＬ（いずれも、新中村化学工業（株）製）が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 （式中、Ｒ111～Ｒ113は、互いに独立して、末端に少なくとも１つの（メタ）アクリル基を有する一価の有機基である。）
　また、硬化速度をより向上させるとともに、得られる硬化膜の耐溶剤性および耐酸性、耐アルカリ性を高めるという観点から、２５℃で液体であり、かつ、その粘度が５０００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは１～３０００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは１～１０００ｍＰａ・ｓ、より一層好ましくは１～５００ｍＰａ・ｓの多官能（メタ）アクリル化合物（以下、低粘度架橋剤という）を、単独もしくは２種以上組み合わせて、または、上記イソシアヌル酸骨格を有する多官能（メタ）アクリル化合物と組み合わせて用いることが好適である。
　このような低粘度架橋剤も市販品として入手可能であり、例えば、上述した多官能（メタ）アクリル化合物のうち、ＮＫエステルＡ－ＧＬＹ－３Ｅ（８５ｍＰａ・ｓ，２５℃）、同Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ（９５ｍＰａ・ｓ，２５℃）、同Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ（２００ｍＰａ・ｓ，２５℃）、同Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯ（６０ｍＰａ・ｓ，２５℃）、同Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ、同ＡＴＭ－４Ｅ（１５０ｍＰａ・ｓ，２５℃）、同ＡＴＭ－３５Ｅ（３５０ｍＰａ・ｓ，２５℃）（以上、新中村化学工業（株）製）等の、（メタ）アクリル基間の鎖長が比較的長い架橋剤が挙げられる。
　さらに、得られる硬化膜の耐アルカリ性をも向上させることを考慮すると、ＮＫエステルＡ－ＧＬＹ－２０Ｅ（新中村化学工業（株）製）、および同ＡＴＭ－３５Ｅ（新中村化学工業（株）製）の少なくとも一方と、上記イソシアヌル酸骨格を有する多官能（メタ）アクリル化合物と組み合わせて用いることが好適である。
　また、ＰＥＴやポリオレフィンフィルム等の保護フィルムに本発明のトリアジン環含有重合体からなる薄膜を積層し、保護フィルムを介して光照射する場合、薄膜積層フィルムにおいても酸素阻害を受けることなく良好な硬化性を得ることができる。この場合、保護フィルムは硬化後に剥離する必要があるため、剥離性の良好な薄膜を与える多塩基酸変性アクリルオリゴマーを用いることが好ましい。
　上述した架橋剤は単独で使用しても、２種以上組み合わせて使用してもよい。架橋剤の使用量は、トリアジン環含有重合体１００質量部に対して、１～１００質量部が好ましいが、溶剤耐性を考慮すると、その下限は、好ましくは２質量部、より好ましくは５質量部であり、さらには、屈折率をコントロールすることを考慮すると、その上限は好ましくは２０質量部、より好ましくは１５質量部である。
　本発明の組成物には、それぞれの架橋剤に応じた開始剤を配合することもできる。なお、上述のとおり、架橋剤として多官能エポキシ化合物および／または多官能（メタ）アクリル化合物を用いる場合、開始剤を使用せずとも光硬化が進行して硬化膜を与えるものであるが、その場合に開始剤を使用しても差し支えない。
　多官能エポキシ化合物を架橋剤として用いる場合には、光酸発生剤や光塩基発生剤を用いることができる。
　光酸発生剤としては、公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩やヨードニウム塩などのオニウム塩誘導体を用いることができる。
　その具体例としては、フェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、４－メトキシフェニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－メチルフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等のアリールジアゾニウム塩；ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート等のジアリールヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（４－メトキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル－４－チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル－４－チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４′－ビス（ジフェニルスルフォニオ）フェニルスルフィド－ビスヘキサフルオロアンチモネート、４，４′－ビス（ジフェニルスルフォニオ）フェニルスルフィド－ビスヘキサフルオロホスフェート、４，４′－ビス［ジ（β－ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ］フェニルスルフィド－ビスヘキサフルオロアンチモネート、４，４′－ビス［ジ（β－ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ］フェニルスルフィド－ビス－ヘキサフルオロホスフェート、４－［４′－（ベンゾイル）フェニルチオ］フェニル－ジ（４－フルオロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－［４′－（ベンゾイル）フェニルチオ］フェニル－ジ（４－フルオロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート等のトリアリールスルホニウム塩等が挙げられる。
　これらのオニウム塩は市販品を用いてもよく、その具体例としては、サンエイドＳＩ－６０、ＳＩ－８０、ＳＩ－１００、ＳＩ－６０Ｌ、ＳＩ－８０Ｌ、ＳＩ－１００Ｌ、ＳＩ－Ｌ１４５、ＳＩ－Ｌ１５０、ＳＩ－Ｌ１６０、ＳＩ－Ｌ１１０、ＳＩ－Ｌ１４７（以上、三新化学工業（株）製）、ＵＶＩ－６９５０、ＵＶＩ－６９７０、ＵＶＩ－６９７４、ＵＶＩ－６９９０、ＵＶＩ－６９９２（以上、ユニオンカーバイド社製）、ＣＰＩ－１００Ｐ、ＣＰＩ－１００Ａ、ＣＰＩ－２００Ｋ、ＣＰＩ－２００Ｓ（以上、サンアプロ（株）製）、アデカオプトマーＳＰ－１５０、ＳＰ－１５１、ＳＰ－１７０、ＳＰ－１７１（以上、旭電化工業（株）製）、イルガキュア　２６１（ＢＡＳＦ社製）、ＣＩ－２４８１、ＣＩ－２６２４、ＣＩ－２６３９、ＣＩ－２０６４（以上、日本曹達（株）製）、ＣＤ－１０１０、ＣＤ－１０１１、ＣＤ－１０１２（以上、サートマー社製）、ＤＳ－１００、ＤＳ－１０１、ＤＡＭ－１０１、ＤＡＭ－１０２、ＤＡＭ－１０５、ＤＡＭ－２０１、ＤＳＭ－３０１、ＮＡＩ－１００、ＮＡＩ－１０１、ＮＡＩ－１０５、ＮＡＩ－１０６、ＳＩ－１００、ＳＩ－１０１、ＳＩ－１０５、ＳＩ－１０６、ＰＩ－１０５、ＮＤＩ－１０５、ＢＥＮＺＯＩＮ　ＴＯＳＹＬＡＴＥ、ＭＢＺ－１０１、ＭＢＺ－３０１、ＰＹＲ－１００、ＰＹＲ－２００、ＤＮＢ－１０１、ＮＢ－１０１、ＮＢ－２０１、ＢＢＩ－１０１、ＢＢＩ－１０２、ＢＢＩ－１０３、ＢＢＩ－１０９（以上、ミドリ化学（株）製）、ＰＣＩ－０６１Ｔ、ＰＣＩ－０６２Ｔ、ＰＣＩ－０２０Ｔ、ＰＣＩ－０２２Ｔ（以上、日本化薬（株）製）、ＩＢＰＦ、ＩＢＣＦ（三和ケミカル（株）製）等を挙げることができる。
　一方、光塩基発生剤としても、公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、Ｃｏ－アミン錯体系、オキシムカルボン酸エステル系、カルバミン酸エステル系、四級アンモニウム塩系光塩基発生剤などを用いることができる。
　その具体例としては、２－ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフェニルメタノール、Ｏ－カルバモイルヒドロキシルアミド、Ｏ－カルバモイルオキシム、［［（２，６－ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、ビス［［（２－ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサン１，６－ジアミン、４－（メチルチオベンゾイル）－１－メチル－１－モルホリノエタン、（４－モルホリノベンゾイル）－１－ベンジル－１－ジメチルアミノプロパン、Ｎ－（２－ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト（ＩＩＩ）トリス（トリフェニルメチルボレート）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２’－ニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２’，４’－ジニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン等が挙げられる。
　また、光塩基発生剤は市販品を用いてもよく、その具体例としては、ＴＰＳ－ＯＨ、ＮＢＣ－１０１、ＡＮＣ－１０１（いずれも製品名、みどり化学（株）製）等が挙げられる。
　光酸または塩基発生剤を用いる場合、多官能エポキシ化合物１００質量部に対して、０．１～１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１～１０質量部の範囲である。
　なお、必要に応じてエポキシ樹脂硬化剤を、多官能エポキシ化合物１００質量部に対して、１～１００質量部の量で配合してもよい。
　一方、多官能（メタ）アクリル化合物を用いる場合には、光ラジカル重合開始剤を用いることができる。
　光ラジカル重合開始剤としても、公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、アミロキシムエステル、オキシムエステル類、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類等が挙げられる。
　特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（１５９頁、発行人：高薄一弘、発行所：（株）技術情報協会、１９９１年発行）に記載されている。
　市販の光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ＢＡＳＦ社製　商品名：イルガキュア　１２７、１８４、３６９、３７９、３７９ＥＧ、６５１、５００、７５４、８１９、９０３、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４－６１、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ダロキュア　１１１６、１１７３、ＭＢＦ、ＢＡＳＦ社製　商品名：ルシリン　ＴＰＯ、ＵＣＢ社製　商品名：ユベクリル　Ｐ３６、フラテツリ・ランベルティ社製　商品名：エザキュアー　ＫＩＰ１５０、ＫＩＰ６５ＬＴ、ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＴ３７、ＫＴ５５、ＫＴＯ４６、ＫＩＰ７５／Ｂ等が挙げられる。
　光ラジカル重合開始剤を用いる場合、多官能（メタ）アクリレート化合物１００質量部に対して、０．１～２００質量部の範囲で使用することが好ましく、１～１５０質量部の範囲で使用することがより好ましい。
　本発明の組成物には、各種溶媒を添加し、トリアジン環含有重合体を溶解させて使用することが好ましい。
　溶媒としては、例えば、水、トルエン、ｐ－キシレン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、エチルベンゼン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１－オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、トリメチレングリコール、１－メトキシ－２－ブタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、２，３－ブタンジオール、γ－ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルノーマルブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ノーマルプロピル、酢酸イソブチル、酢酸ノーマルブチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、アリルアルコール、ノーマルプロパノール、２－メチル－２－ブタノール、イソブタノール、ノーマルブタノール、２－メチル－１－ブタノール、１－ペンタノール、２－メチル－１－ペンタノール、２－エチルヘキサノール、１－メトキシ－２－プロパノール、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ－メチルピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ－シクロヘキシル－２－ピロリジノン等が挙げられ、これらは単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。
　この際、組成物中の固形分濃度は、保存安定性に影響を与えない範囲であれば特に限定されず、目的とする膜の厚みに応じて適宜設定すればよい。具体的には、溶解性および保存安定性の観点から、固形分濃度０．１～５０質量％が好ましく、より好ましくは０．１～４０質量％である。
　本発明の組成物には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、トリアジン環含有重合体、架橋剤および溶媒以外のその他の成分、例えば、レベリング剤、界面活性剤、シランカップリング剤、重合禁止剤、酸化防止剤、防錆剤、離型剤、可塑剤、消泡剤、増粘剤、分散剤、帯電防止剤、沈降防止剤、顔料、染料、紫外線吸収剤、光安定剤、無機微粒子などの添加剤が含まれていてもよい。
　界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類；ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類；ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、商品名エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成（株）製（旧（株）ジェムコ製））、商品名メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｒ－０８、Ｒ－３０、Ｒ－４０、Ｒ－４１、Ｆ－１１４、Ｆ－４１０、Ｆ－４３０、Ｆ－４４４、Ｆ－４７７、Ｆ－５５２、Ｆ－５５３、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６１、Ｆ－５６２、ＲＳ－７５、ＲＳ－７２－Ｋ、ＲＳ－７６－Ｅ、ＲＳ－７６ＮＳ、ＲＳ－７７（ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、商品名アサヒガードＡＧ７１０，サーフロンＳ－３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ－３０２、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３２２、ＢＹＫ－３２３、ＢＹＫ－３３０、ＢＹＫ－３３３、ＢＹＫ－３７０、ＢＹＫ－３７５、ＢＹＫ－３７８（ビックケミー・ジャパン（株）製）等が挙げられる。
　これらの界面活性剤は、単独で使用しても、２種以上組み合わせて使用してもよい。界面活性剤の使用量は、トリアジン環含有重合体１００質量部に対して０．０００１～５質量部が好ましく、０．００１～１質量部がより好ましく、０．０１～０．５質量部がより一層好ましい。
　無機微粒子としては、例えば、Ｂｅ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｖ，Ｆｅ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｙ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔａ，Ｗ，Ｐｂ，ＢｉおよびＣｅからなる群から選ばれる１種または２種以上の金属の酸化物、硫化物または窒化物が挙げられ、特に、これらの金属酸化物が好適である。なお、無機微粒子は単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよい。
　金属酸化物の具体例としては、Ａｌ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ5、ＢｅＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、ＳｉＯ2、ＷＯ3などが挙げられる。
　また、複数の金属酸化物を複合酸化物として用いることも有効である。複合酸化物とは、微粒子の製造段階で２種以上の無機酸化物を混合させたものである。例えば、ＴｉＯ2とＺｒＯ2、ＴｉＯ2とＺｒＯ2とＳｎＯ2、ＺｒＯ2とＳｎＯ2との複合酸化物などが挙げられる。
　さらに、上記金属の化合物であってもよい。例えば、ＺｎＳｂ2Ｏ6、ＢａＴｉＯ3、ＳｒＴｉＯ3、ＳｒＳｎＯ3などが挙げられる。これらの化合物は、単独でまたは２種以上を混合して用いることができ、さらに上記の酸化物と混合して用いてもよい。
　なお、上記その他の成分は、本発明の組成物を調製する際の任意の工程で添加することができる。
　本発明の膜形成用組成物は、基材に塗布し、その後、必要に応じて加熱して溶剤を蒸発させた後、加熱または光照射して所望の硬化膜とすることができる。
　組成物の塗布方法は任意であり、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、ジェットディスペンサー法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の方法を採用できる。
　また、基材としては、シリコン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）が成膜されたガラス、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が成膜されたガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、プラスチック、ガラス、石英、セラミックス等からなる基材等が挙げられ、可撓性を有するフレキシブル基材を用いることもできる。
　焼成温度は、溶媒を蒸発させる目的では特に限定されず、例えば１１０～４００℃で行うことができる。
　焼成方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレートやオーブンを用いて、大気、窒素等の不活性ガス、真空中等の適切な雰囲気下で蒸発させればよい。
　焼成温度および焼成時間は、目的とする電子デバイスのプロセス工程に適合した条件を選択すればよく、得られる膜の物性値が電子デバイスの要求特性に適合するような焼成条件を選択すればよい。
　光照射する場合の条件も特に限定されるものではなく、用いるトリアジン環含有重合体および架橋剤に応じて、適宜な照射エネルギーおよび時間を採用すればよい。
　また、上記組成物を光照射にて硬化膜を作製するにあたって、マスクを介して光照射した後、現像液にて現像することで微細パターンを形成することもできる。
　この場合、露光後の現像は、例えば有機溶媒現像液または水性現像液中に露光樹脂を浸漬して行うことができる。
　有機溶媒現像液の具体例としては、ＰＧＭＥ、ＰＧＭＥＡ、ＰＧＭＥとＰＧＭＥＡの混合溶媒、ＮＭＰ、γ－ブチロラクトン、ＤＭＳＯ等が挙げられ、一方、水性現像液の具体例としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のアルカリ水溶液が挙げられる。
　ネガ型のパターン形成用組成物とする場合、上記組成物に、さらにオキシラン環含有化合物と、光硬化型触媒とを配合してもよい。
　オキシラン環含有化合物としては、分子内にオキシラン環を１個以上、好ましくは２個以上有するものが挙げられ、その具体例としては、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、エポキシ変性ポリブタジエン樹脂、オキセタン化合物等が挙げられる。これらは単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよい。
　オキシラン含有化合物の配合量は、特に限定されるものではないが、トリアジン環含有重合体１００質量部に対し、１０～４００質量部程度とすることができる。
　光硬化型触媒としては、光カチオン発生剤が挙げられる。光カチオン発生剤の具体例としては、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のトリアリールスルホニウム塩；トリアリールセレニウム塩；ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアリールヨードニウム塩などが挙げられる。これらは単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよい。
　光硬化型触媒の配合量は、特に限定されるものではないが、トリアジン環含有重合体１００質量部に対し、０．１～１００質量部程度とすることができる。
　上記ネガ型パターン形成用組成物の調製法は特に限定されるものではなく、任意の順序で各成分を配合して調製すればよい。また、その際、上述した溶媒を用いてよい。
　上記組成物は、上述した手法によって塗布した後、例えば、紫外光等を１～４０００ｍｊ／ｃｍ2にて光照射して硬化させることができる。光照射は、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ＬＥＤ、レーザー光等の公知の各種手法を用いて行えばよい。
　なお、必要に応じ、露光前後に１１０～１８０℃程度で加熱してもよい。
　露光後の現像は、上述した有機溶媒現像液または水性現像液中に露光樹脂を浸漬して行うことができる。
　一方、ポジ型のパターン形成用組成物とする場合、上記組成物に、さらにアジド化合物を配合してもよい。
　アジド化合物としては、１，２－ナフトキノンジアジド基を１個以上、好ましくは２個以上有する化合物が好ましく、その具体例としては、２，３，４－トリヒドロキシ－ベンゾフェノンと１，２－ナフトキノン－（２）－ジアジド－５－スルホン酸とのエステル等の１，２－ナフトキノンジアジドスルホン酸誘導体などが挙げられる。
　オキシラン含有化合物の配合量は、特に限定されるものではないが、トリアジン環含有重合体１００質量部に対し、４～６０質量部程度とすることができる。
　上記ポジ型パターン形成用組成物の調製法も特に限定されるものではなく、任意の順序で各成分を配合して調製すればよい。また、その際、上述した溶媒を用いてよい。
　上記組成物は、上述した手法によって塗布した後、例えば、上述の光照射法により、紫外光等を１～２０００ｍｊ／ｃｍ2にて光照射して硬化させることができる。この場合も、必要に応じ、露光前後に１１０～１８０℃程度で加熱してもよい。
　露光後の現像は、上述した有機溶媒現像液または水性現像液中に露光樹脂を浸漬して行うことができる。
　上記各パターン形成用組成物には、必要に応じて各種添加剤を加えてもよい。添加剤としては、ベンジル－４－ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート，１－ナフチルメチル－４－ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム メチルサルフェート等の熱カチオン発生剤；２，５－ジエチルチオキサントン、アントラセン、９，１０－エトキシアントラセン等の光増感剤や、上記膜形成用組成物において例示した添加剤が挙げられる。
　以上のようにして得られた本発明の硬化膜や微細パターンは、高耐熱性、高屈折率、および低体積収縮を達成できるため、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、タッチパネル、光半導体（ＬＥＤ）素子、固体撮像素子、有機薄膜太陽電池、色素増感太陽電池、有機薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、レンズ、プリズムカメラ、双眼鏡、顕微鏡、半導体露光装置などを作製する際の一部材など、電子デバイスや光学材料分野に好適に利用できる。
　特に、本発明の組成物から作製された硬化膜や微細パターンは、透明性が高く、屈折率も高いため、ＩＴＯや銀ナノワイヤ等の透明導電膜の視認性を改善することができ、透明導電膜の劣化を抑制することができる。
　透明導電膜としては、ＩＴＯフィルム、ＩＺＯフィルム、金属ナノ粒子、金属ナノワイヤ、金属ナノメッシュ等の導電性ナノ構造を有する透明導電膜が好ましく、導電性ナノ構造を有する透明導電膜がより好ましい。導電性ナノ構造を構成する金属は特に限定されないが、銀、金、銅、ニッケル、白金、コバルト、鉄、亜鉛、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、カドミウム、オスミウム、イリジウム、これらの合金等が挙げられる。すなわち、銀ナノ粒子、銀ナノワイヤ、銀ナノメッシュ、金ナノ粒子、金ナノワイヤ、金ナノメッシュ、銅ナノ粒子、銅ナノワイヤ、銅ナノメッシュ等を有する透明導電膜が好ましく、特に銀ナノワイヤを有する透明導電膜が好ましい。
　また、本発明の組成物から作製された高屈折率パターンは、上述したタッチパネル等の透明電極骨見え防止、有機ＥＬディスプレイの光取出し用途やブラックマトリックス用途をはじめとした、高屈折率パターンが要求される用途に好適に用いることできる。
　以下、実施例および比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、実施例で用いた各測定装置は以下のとおりである。
［1Ｈ－ＮＭＲ］
　装置：Ｖａｒｉａｎ　ＮＭＲ　Ｓｙｓｔｅｍ　４００ＮＢ（４００ＭＨｚ）
　　　　ＪＥＯＬ－ＥＣＡ７００（７００ＭＨｚ）
　測定溶媒：ＤＭＳＯ－ｄ６
　基準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）（δ０．０ｐｐｍ）
［ＧＰＣ］
　装置：ＳＨＩＭＡＤＺＵ社製　ＳＣＬ－１０Ａｖｐ　ＧＰＣに改造
　カラム：Ｓｈｏｄｅｘ　ＫＦ－８０４Ｌ＋ＫＦ－８０５Ｌ
　カラム温度：６０℃
　溶媒：Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）（１％ＬｉＣｌ添加）
　検出器：ＵＶ（２５４ｎｍ）
　検量線：標準ポリスチレン
［紫外線可視分光光度計］
　装置：（株）島津製作所製　ＳＨＩＭＡＤＳＵ　ＵＶ－３６００
［エリプソメーター］
　装置：ジェー・エー・ウーラム・ジャパン製　多入射角分光エリプソメーターＶＡＳＥ
［示差熱天秤（ＴＧ－ＤＴＡ）］
　装置：（株）リガク製　ＴＧ－８１２０
　昇温速度：１０℃／分
　測定温度：２５℃－７５０℃
［電子顕微鏡］
日本電子（株）製　電子顕微鏡Ｓ－４８００
［１］トリアジン環含有重合体の合成
［実施例１－１］高分子化合物［５］の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
　窒素下、１００ｍＬ四口フラスコに３，５－ジアミノ安息香酸［２］（３．０４ｇ、０．０２ｍｏｌ）、ｍ－フェニレンジアミン［３］（１．０８ｇ、０．０１ｍｏｌ）、２，６－ジメチルアニリン［４］（１．２１ｇ、０．０１ｍｏｌ）、ＮＭＰ８１．４９ｇを加え、アセトン－ドライアイス浴により－１０℃まで冷却した。そこに、ＴＨＦ６９．８５ｇに溶解した２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジン［１］（９．２２ｇ、０．０５ｍｏｌ、エポニックデグザ社製）を滴下し、１時間撹拌した。この反応溶液を、３００ｍＬ四口フラスコにＮＭＰ８１．４９ｇを加え、あらかじめオイルバスで８５℃に加熱してある槽へ３０分かけて滴下し、２時間撹拌して重合した。
　その後、アニリン（１１．３１ｇ、０．１２５ｍｏｌ）を加え、１時間撹拌後、反応を終了した。氷浴により室温まで冷却後、ｎ－プロピルアミン（６．２１ｇ、０．１０５ｍｏｌ）を滴下し、１時間撹拌して塩酸をクエンチした。その後、イオン交換水（１３９７ｇ）に再沈殿させた。沈殿物をろ過し、ＴＨＦ（７７．６ｇ）に再溶解させ、１時間撹拌した。上澄みを除去後、ＴＨＦ（２５．８７ｇ）を加えて濃度調製し、イオン交換水（６２０.９ｇ）に再沈殿させた。得られた沈殿物をろ過し、減圧乾燥機で１００℃、５時間乾燥し、目的とする高分子化合物［５］（以下、Ｈ－２４Ｘと略す）１２．５ｇを得た。高分子化合物［５］の1Ｈ－ＮＭＲスペクトルの測定結果を図１に示す。
　Ｈ－２４ＸのＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１，２００、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは１．３２であった。
　実施例１－１で得られた高分子化合物［５］５．８７ｍｇを白金パンに秤量し、ＴＧ－ＤＴＡにより昇温速度１５℃／ｍｉｎで測定したところ、５％重量減少は３５５．４℃であった。
　実施例１－１で得られた高分子化合物を、ＴＨＦ、シクロヘキサノン（ＣＨＮ）、シクロペンタン（ＣＰＮ）およびプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）へ、１０質量％、２０質量％、３０質量％となるように溶解させた場合に、また、大量の１％Ｎａ2ＣＯ3水溶液へ粉末を溶解させた場合に不溶物があるかを目視で確認し、以下の基準で評価した。その結果を表１に示す。
○：不溶物なし
△：わずかに散乱
×：沈降物あり
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000047
　表１に示されるように、実施１－１で得られた高分子化合物は、カルボキシル基含有アリーレン基を主鎖に有する高分子化合物であるため、各種有機溶媒に対する溶解性および弱アルカリ水溶液に対する溶解性に優れている。
［実施例１－２］高分子化合物［６］の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
　窒素下、５００ｍＬ四口フラスコに、３，５－ジアミノ安息香酸［２］（１８．２４ｇ、０．１２ｍｏｌ、日本純良薬品（株）製）を加え、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）１２９．２８ｇに溶かし、０℃以下に冷却した。その後、２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジン［１］（１８．４４ｇ、０．１ｍｏｌ、エボニック・デグサ製）を、系内の温度が０℃以下を保つように少量ずつ加えて１時間撹拌した。この溶液を、あらかじめＤＭＡｃ１２９．３９ｇを加えて９０℃に加温しておいた５００ｍＬ四口フラスコに滴下した。滴下後、９０℃で２時間反応させ、アニリン（２７．９ｇ、０．３ｍｏｌ、東京化成工業（株）製）を滴下し、３時間撹拌した。その後、室温まで降温し、ｎ－プロピルアミン１７．７ｇを滴下し、重合を停止した。
　得られた反応液をイオン交換水１６００ｇに滴下し、再沈殿を行った。得られた沈殿物をろ過し、ろ物をテトラヒドロフラン２６２ｇに再分散させ、さらにイオン交換水１５９６ｇに再沈殿した。その後、ろ過により得られた生成物を１２０℃で８時間乾燥し、目的の高分子化合物［６］２５．５ｇを得た（以下、ＨＢ－ＴＤＣＯＯＨ）。
　高分子化合物［６］の1Ｈ－ＮＭＲスペクトルの測定結果を図２に示す。
　実施例２－１で得られた高分子化合物［６］５．２００ｍｇを白金パンに加え、ＴＧ－ＤＴＡにより昇温速度１５℃／ｍｉｎで測定したところ、５％重量減少は３９２℃であった。
［２］被膜の作製
［実施例２－１］
　実施例１－１で得られた高分子化合物［５］を、１０質量％となるようにＰＧＭＥに溶解させ、ガラス基板上にスピンコーターを用いてスピンコートし、１２０℃のホットプレートで３分間焼成して被膜を得た。
［実施例２－２］
　窒素下、サンプル瓶内で、実施例２－１で得られた高分子化合物［６］４．００ｇを、ＰＧＭＥ／ｎ－プロピルアミン／イオン交換水（７２．２５／１２．２５／１５質量比）の混合溶媒１６．００ｇに溶かし、２０質量％のポリマー溶液を得た。
　この溶液をＰＧＭＥにて１０質量％に希釈し、ガラス基板上にスピンコーターを用いて膜厚７００ｎｍ狙いでスピンコートし、１００℃のホットプレートで１分間焼成して被膜を得た。
　上記実施例２－１および実施例２－２で作製した被膜の屈折率および膜厚を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
　表２に示されるように、実施例１－１で得られた高分子化合物から作製した薄膜は、１．７５を超える屈折率を有していることがわかる。
［３］架橋剤添加組成物の調製並びにパターン形成および硬化膜の作製
［実施例３－１］
　実施例１－１で得られた高分子化合物［５］０．６ｇに、多官能アクリレート（ＤＮ－００７５、日本化薬（株）製）０．３ｇ、多官能アクリレート（Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、新中村化学工業（株）製）０．３ｇ、光ラジカル開始剤（イルガキュアＯＸＥ０１、ＢＡＳＦ社製）０．０６ｇおよびＰＧＭＥ５．０４ｇを加えて固形分２０質量％のパターン形成用組成物６．３６ｇを調製した。
　この組成物を０．４５μｍのフィルターで濾過し、ガラス基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、ホットプレート上で、１２０℃、６０秒焼成して塗膜を形成した。この塗膜に、紫外線照射装置ＭＡ６（ＳＵＳＳ社製）により、フォトマスクを介して３６５ｎｍにおける照射量が１００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。その後、２３℃の０．０４質量％の水酸化カリウム水溶液で６０秒浸漬して現像し、さらに超純水で流水洗浄を行った。現像後、ライン／スペースが６０μｍ／５００μｍのストライプ状パターンが残渣なく解像した。ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ、ガラス基板上に形成された硬化膜に異物は見られなかった。さらに、電子顕微鏡観察を行ったところ、硬化膜上に異物は見られなかった。

Claims (18)

  1. 　下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含むことを特徴とするトリアジン環含有重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     ｛式中、ＲおよびＲ′は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表し、
    　Ａｒ1は、式（２）～（１３）で示される群から選ばれる少なくとも１種を表す。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     〔式中、Ｒ1～Ｒ92は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、
    　Ｒ93およびＲ94は、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表し、
    　Ｗ1およびＷ2は、互いに独立して、単結合、ＣＲ95Ｒ96（Ｒ95およびＲ96は、互いに独立して、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ2、またはＮＲ97（Ｒ97は、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表す。）を表し、
    　Ｘ1およびＸ2は、互いに独立して、単結合、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基、または式（１４）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式中、Ｒ98～Ｒ101は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、
    　Ｙ1およびＹ2は、互いに独立して、単結合または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基を表す。）で示される基を表す。
    　ただし、式（２）～（１３）は、いずれもその中の１つの芳香環上に少なくとも１つのカルボキシル基を有する。〕
  2. 　さらに、下記式（１′）で表される繰り返し単位構造を含む請求項１記載のトリアジン環含有重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     ｛式中、ＲおよびＲ′は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表し、
    　Ａｒ2は、式（２′）～（１３′）で示される群から選ばれる少なくとも１種を表す。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     〔式中、Ｒ1′～Ｒ92′は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、
    　Ｒ93およびＲ94は、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表し、
    　Ｗ1およびＷ2は、互いに独立して、単結合、ＣＲ95Ｒ96（Ｒ95およびＲ96は、互いに独立して、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ2、またはＮＲ97（Ｒ97は、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表す。）を表し、
    　Ｘ1′およびＸ2′は、互いに独立して、単結合、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基、または式（１４′）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     （式中、Ｒ98′～Ｒ101′は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、
    　Ｙ1およびＹ2は、互いに独立して、単結合または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基を表す。）で示される基を表す。〕｝
  3. 　前記Ａｒ1が、式（１５）で示される請求項１記載のトリアジン環含有重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
  4. 　前記Ａｒ1が、式（１６）で示される請求項３記載のトリアジン環含有重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
  5. 　前記Ａｒ2が、式（１７）で示される請求項２記載のトリアジン環含有重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
  6. 　少なくとも１つのトリアジン環末端を有し、このトリアジン環末端の少なくとも一部が、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基で置換されていてもよいアリールアミノ基で封止されている請求項１～５のいずれか１項記載のトリアジン環含有重合体。
  7. 　前記アリールアミノ基が、このアミノ基に対してオルト位の少なくとも一方に前記アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を有する請求項６記載のトリアジン環含有重合体。
  8. 　前記アリールアミノ基が、このアミノ基に対してオルト位の双方に前記アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を有する請求項７記載のトリアジン環含有重合体。
  9. 　前記アリールアミノ基が、式（１８）で示される請求項８記載のトリアジン環含有重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
  10. 　請求項１～９のいずれか１項記載のトリアジン環含有重合体と有機溶媒とを含むトリアジン系重合体含有組成物。
  11. 　さらに、架橋剤を含む請求項１０記載のトリアジン系重合体含有組成物。
  12. 　前記架橋剤が、多官能（メタ）アクリル化合物である請求項１１記載のトリアジン系重合体含有組成物。
  13. 　硬化膜形成用またはパターン形成用である請求項１１または１２記載のトリアジン系重合体含有組成物。
  14. 　請求項１１～１３のいずれか１項記載のトリアジン系重合体含有組成物を硬化させて得られる硬化膜。
  15. 　請求項１１または１２記載のトリアジン系重合体含有組成物から作製されたパターン。
  16. 　基材と、この基材上に形成された請求項１４記載の硬化膜とを備える電子デバイス。
  17. 　基材と、この基材上に形成された請求項１４記載の硬化膜とを備える光学部材。
  18. 　基材と、この基材上に形成された請求項１５記載のパターンとを備える電子デバイス。
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