JP2012088693A - 光学フィルムの製造方法 - Google Patents
光学フィルムの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012088693A JP2012088693A JP2011202290A JP2011202290A JP2012088693A JP 2012088693 A JP2012088693 A JP 2012088693A JP 2011202290 A JP2011202290 A JP 2011202290A JP 2011202290 A JP2011202290 A JP 2011202290A JP 2012088693 A JP2012088693 A JP 2012088693A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- functional layer
- matrix
- optical film
- fine particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
-
- G02B1/105—
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
- G02B5/0236—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element
- G02B5/0242—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element by means of dispersed particles
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明の製造方法は、基材フィルムの一方の面に、反応性基を有さないフッ素系レベリング剤を含む第1の塗工液を塗工して第1の機能層を形成する第1の塗工工程と、該第1の機能層の表面に、第2の塗工液を塗工して第2の機能層を形成する第2の塗工工程とを含み、該フッ素系レベリング剤が、該第2の塗工液の塗布時には該第1の機能層表面に偏在し、該第2の塗工液の塗布後には該第2の塗工液に溶出し、形成される第2の機能層表面に偏在する。
【選択図】なし
Description
好ましい実施形態においては、上記フッ素系レベリング剤が下記一般式(I)で表される構成単位、下記一般式(II)で表される構成単位および下記一般式(III)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む:
好ましい実施形態においては、上記フッ素系レベリング剤の含有量が、上記第1の塗工液中の全固形分に対して、0.05重量%〜3重量%である。
好ましい実施形態においては、上記第1の機能層が、光拡散層である。
好ましい実施形態においては、上記第2の機能層が、反射防止層である。
好ましい実施形態においては、上記光拡散層が、マトリクスと該マトリクス中に分散された光拡散性微粒子とを有し、該マトリクスと該光拡散性微粒子との界面またはその近傍に、屈折率が実質的に連続的に変化する屈折率変調領域が形成され、かつ、下記式(3)および(4)を満足する:
Δn≧0.10 ・・・(3)
0.0006≦Δn/L≦0.01 ・・・(4)
ここで、Δnはマトリクスの平均屈折率nMと光拡散性微粒子の屈折率nPとの差の絶対値|nM−nP|であり、Lは屈折率変調領域の平均厚みである。
好ましい実施形態においては、nM>nPである。
好ましい実施形態においては、上記光拡散層が式(5)を満足する:
0.01≦L/rP≦1.0 ・・・(5)
ここで、rPは上記光拡散性微粒子の半径である。
好ましい実施形態においては、上記マトリクスが樹脂成分および超微粒子成分を含み、上記屈折率変調領域が、該マトリクス中の該超微粒子成分の分散濃度の実質的な勾配により形成されている。
好ましい実施形態においては、上記光拡散層が式(1)を満足する:
|nP−nA|<|nP−nB|・・・(1)
ここで、nAはマトリクスの樹脂成分の屈折率を表し、nBはマトリクスの超微粒子成分の屈折率を表す。
本発明の製造方法における第1の塗工工程は、基材フィルムの一方の面に、フッ素系レベリング剤を含む第1の塗工液を塗工して第1の機能層を形成する。第1の塗工工程は、基材フィルムの一方の面に当該第1の塗工液を塗布すること、および基材フィルムに形成された第1の塗工液の塗布膜を乾燥させることを含む。第1の機能層は、例えば、光拡散機能を発現する光拡散層であり得る。
|nP−nA|<|nP−nB|・・・(1)
式(1)中、nAはマトリクスの樹脂成分の屈折率を表し、nBはマトリクスの超微粒子成分の屈折率を表し、nPは光拡散性微粒子の屈折率を表す。さらに、樹脂成分は下記式(2)も満足し得る:
|nP−nA|<|nA−nB|・・・(2)
樹脂成分の屈折率は、好ましくは1.40〜1.60である。超微粒子成分の屈折率は、好ましくは1.40以下または1.60以上であり、さらに好ましくは1.40以下または1.70〜2.80であり、特に好ましくは1.40以下または2.00〜2.80である。屈折率が1.40を超えまたは1.60未満であると、光拡散性微粒子とマトリクスとの屈折率差が不十分となり、光拡散層を有する光学フィルムがコリメートバックライトフロント拡散システムを採用する液晶表示装置に用いられた場合に、コリメートバックライトからの光を十分に拡散できず視野角が狭くなるおそれがある。光拡散性微粒子の屈折率は、好ましくは1.30〜1.70であり、さらに好ましくは1.40〜1.60である。
本発明の製造方法における第2の塗工工程は、上記第1の塗工工程により形成した第1の機能層の表面に、第2の塗工液を塗工して第2の機能層を形成する。第2の塗工工程は、上記第1の機能層上に、第2の塗工液を塗布すること、および第1の機能層上に形成された第2の塗工液の塗布膜を乾燥させることを含む。第2の塗工液の塗布時には、上記フッ素系レベリング剤は、上記第1の機能層表面に偏在している。第2の機能層は、例えば、反射防止層であり得る。
図1Aは、本発明の好ましい実施形態による製造方法により得られる光学フィルムの構成を説明するための模式図であり、図1Bは図1Aの第1の機能層120(光拡散層)の光拡散微粒子近傍を拡大して説明する模式図である。光学フィルム100は、基材フィルム110と、第1の機能層120と、第2の機能層130とをこの順に備える。第2の機能層130においては、その表面(すなわち、第2の機能層130における第1の機能層120と反対側の表面)にフッ素系レベリング剤10が偏在している。1つの実施形態においては、第1の機能層120は光拡散層であり、第2の機能層130は反射防止層である。本発明の製造方法により得られる光学フィルムは、光拡散層の輝度ムラおよび反射防止層の干渉ムラが抑制され、かつ耐擦傷性に優れるため、例えば液晶表示装置の最表面に配置される形態において有用である。
Δn≧0.10 ・・・(3)
0.0006≦Δn/L≦0.01 ・・・(4)
ここで、Δnはマトリクスの平均屈折率nMと光拡散性微粒子の屈折率nPとの差の絶対値|nM−nP|であり、Lは屈折率変調領域の平均厚みである。マトリクスの平均屈折率nMは、樹脂成分の屈折率と超微粒子成分の屈折率との加重平均である。Δnは、好ましくは0.12以上である。Δnの上限は、好ましくは0.20である。Δnが0.10未満であると、ヘイズが90%以下となる場合が多く、その結果、液晶表示装置に組み込んだ場合に光源からの光を十分に拡散できず、視野角が狭くなるおそれがある。Δnが0.20を超えると、後方散乱が増大するおそれがある。また、マトリクスの樹脂成分および超微粒子成分の選択が困難となる場合がある。さらに、好ましくは、nM>nPである。Δn/L(nm−1)は、好ましくは0.0008〜0.008であり、さらに好ましくは0.0010〜0.007である。このようなΔn/Lを実現し得る屈折率変調領域の平均厚みLは、好ましくは5nm〜500nm、より好ましくは12nm〜400nm、さらに好ましくは15nm〜300nmである。平均厚みLが5nm未満であると、後方散乱が大きくなる場合がある。平均厚みLが500nmを超えると、拡散性が不十分となる場合がある。このように、上記光拡散層は、屈折率変調領域の平均厚みLが非常に薄いにもかかわらず、Δnが大きい(すなわち、Δn/Lが格段に大きい)屈折率変調領域を形成することができる。しかも、上記のように、上記光拡散層は、屈折率変調領域において屈折率を実質的に連続的に変化させることができる。これらの相乗的な作用により、上記光拡散層によれば、ヘイズ値が高く、強い拡散性を有し、かつ、後方散乱が抑制された薄膜の光学フィルムを実現することができる。
0.01≦L/rP≦1.0 ・・・(5)
ここで、rPは上記光拡散性微粒子の半径である。L/rPは、好ましくは0.02〜0.90である。上記光拡散層によれば、上記のように屈折率変調領域の平均厚みLを非常に薄くすることができるので、L/rPを非常に小さくすることができる。その結果、上記光拡散性微粒子の散乱能を十分に維持しつつ、後方散乱を良好に抑制することができる。したがって、薄膜であっても高いヘイズ(強い拡散性)を実現することができる。
実施例および比較例で得られた光学フィルムの第2の機能層表面に対して、スチールウール(#0000)を荷重300gで10往復させた際の光学フィルム上のキズの有無を目視にて確認し、下記の基準で評価した。
A・・・目立ったキズなし
B・・・1〜7本のキズが見られる
C・・・多数のキズが見られる
(2)第2の機能層の表面自由エネルギー
実施例および比較例で得られた光学フィルムを、温度25℃、湿度60%RHで2時間調湿した後、水に対する接触角を測定し、それらの値より表面自由エネルギーを算出した。
(3)光学フィルムの光学的均一性
(3−1)光学フィルムの輝度ムラ
透明粘着剤を用いて、実施例および比較例で得られた光学フィルムと、偏光板と、ガラス板(厚み:0.7mm)との積層体(ガラス板/偏光板/ガラス板/光学フィルム/偏光板/ガラス板)を形成した。このとき、2枚の偏光板はクロスニコルの状態で積層させた。この積層体に、高輝度白色LEDバックライトを用いて白色光を透過させた。透過光の出射面を、輝度測定カメラ(サイバット社製、商品名「PROMETRIC 1600」を用いて、画像撮影し、面内輝度を数値データ化した。
得られた面内輝度値のうち輝点部分を除外した上で、外観ムラの周期よりも大きい周期のうねりを補正して、輝度の標準偏差σ1を算出した。当該輝度の標準偏差σ1により、光学フィルムの輝度ムラ(より具体的には、第1の機能層の輝度ムラ)を評価した。
(3−2)第2の機能層の厚み精度
実施例および比較例で得られた光学フィルムにおいて、それぞれ無作為に選んだ10点の厚みを大塚電子社製、商品名「MCPD2000」で測定し、その測定値から第2の機能層の厚みの標準偏差σ2を算出した。
(4)フッ素系レベリング剤の分布1
実施例1および比較例1で得られた光学フィルムについて、飛行時間二次イオン質量分析計(TOF−SIMS)(ION−TOF社製、商品名「TOF−SIMS5」)を用いて、光学フィルム断面(第2の機能層表面〜深さ270nm)におけるフッ素イオン強度の分布を測定した。
(5)フッ素系レベリング剤の分布2
実施例1で得られた光学フィルムの第2の機能層表面から深さ270nmの範囲における、原子(F、C、N、O、Al、Si、Zr)の原子比率をアルバック・ファイ社製、商品名「Quantum2000」を用いてESCA分析した。
(6)屈折率変調領域の厚みL
実施例および比較例で得られた光学フィルムを液体窒素で冷却しながら、ミクロトームにて0.1μmの厚さにスライスし、測定試料とした。透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて、当該測定試料の第1の機能層(光拡散層)部分の微粒子の状態および当該微粒子とマトリクスとの界面の状態を観察し、微粒子とマトリクスとの界面が不明瞭な部分を屈折率変調領域と認定し、その平均厚みLをTEM画像から画像解析ソフトを用いて算出した。より具体的には、広視野(倍率300倍)の断面TEM画像で観察された範囲の中で一番大きい微粒子を選択し、選択した微粒子とマトリクスとの界面の拡大画像(倍率12000倍)で観察された厚みを画像解析ソフトで算出した。この解析を任意の5ヶ所で行い、その平均厚みを屈折率変調領域の厚みとした。微粒子とマトリクスとの界面が明瞭な場合は屈折率変調領域が形成されていないと認定した。
(7)光拡散半値角
実施例および比較例で得られた光学フィルムから基材フィルムおよび第2の機能層を剥離して得られた第1の機能層(光拡散層)の正面からレーザー光を照射し、拡散した光の拡散角度に対する拡散輝度を、ゴニオフォトメーターで1°おきに測定し、図5に示すように、レーザーの直進透過光を除く光拡散輝度の最大値から半分の輝度となる拡散角度を、拡散の両側で測定し、当該両側の角度を足したもの(図5の角度A+角度A´)を光拡散半値角とした。
(8)後方散乱率
上記(7)と同様にして第1の機能層(光拡散層)を得、当該第1の機能層を透明粘着剤を介して黒アクリル板(住友化学社製、商品名「SUMIPEX」(登録商標)、厚み2mm)の上に貼り合わせ、測定試料とした。この測定試料の積分反射率を分光光度計(日立計測器社製、商品名「U4100」)にて測定した。一方、第1の機能層(光拡散層)形成用塗工液から微粒子を除去した塗工液を用いて、基材と透明塗工層との積層体を作製して対照試料とし、上記と同様にして積分反射率(すなわち、表面反射率)を測定した。上記測定試料の積分反射率から上記対照試料の積分反射率(表面反射率)を差し引くことにより、第1の機能層(光拡散層)の後方散乱率を算出した。
超微粒子成分としてのジルコニアナノ粒子(平均粒径60nm、平均1次粒子径10nm、屈折率2.19)を62%含有するハードコート用樹脂(JSR社製、商品名「オプスターKZ6661」(MEK/MIBK含有))100部に、樹脂成分の前駆体としてのペンタエリスリトールトリアクリレート(大阪有機化学工業社製、商品名「ビスコート#300」、屈折率1.52)の50%メチルエチルケトン(MEK)溶液を11部、光重合開始剤(BASFジャパン社製、商品名「イルガキュア907」)を0.5部、光拡散性微粒子としてのポリメタクリル酸メチル(PMMA)微粒子(積水化成品工業社製、商品名「XX−131AA」、平均粒径2.5μm、屈折率1.495)を15部、および、反応性基を有さないフッ素系レベリング剤(DIC社製、商品名「メガファックTF−1661」)を上記の全固形分に対して0.5%、添加した。攪拌機(浅田鉄工株式会社、商品名「デスパ(DESPA)」を用いてこの混合物を分散処理し、上記の各成分が均一に分散した第1の機能層(光拡散層)形成用塗工液を調製した。この第1の機能層(光拡散層)形成用塗工液の固形分濃度は55%であった。当該第1の機能層(光拡散層)形成用塗工液を調製後ただちに、バーコーターを用いてTACフィルム(富士フィルム社製、商品名「フジタック」、厚み40μm)からなる基材フィルム上に塗工し、100℃にて1分間乾燥後、積算光量300mJの紫外線を照射し、厚み10μmの第1の機能層(光拡散層)を形成した。
ナノシリカ(屈折率1.49)含有多環アクリレート(JSR社製、商品名「KZ7540」)1.8%のMIBK溶液を、バーコーターを用いて上記で得られた第1の機能層(光拡散層)上に塗工し、100℃にて1分間乾燥後、積算光量300mJの紫外線を照射し、厚み110nmの第2の機能層(反射防止層)を形成した。
このようにして、基材フィルム(40μm)/第1の機能層(10μm)/第2の機能層(110nm)を有する光学フィルムを得た。
得られた光学フィルムを上記(1)〜(3)の評価に供した。結果を表1に示す。また、光学フィルムにおけるフッ素系レベリング剤の分布について上記(4)および(5)の評価に供した。評価(4)の結果を図6に、評価(5)の結果を図7に示す。なお、図6においては、色の濃淡がフッ素イオン強度を示し、色が薄いほど(白色に近いほど)、フッ素イオン強度が強いこと、すなわち、フッ素系レベリング剤の存在量が多いことを示す。また、図7においては、F、C、N、O、Al、SiおよびZrの合計に対する、フッ素原子(F)の原子比率を示す。
なお、表1に記載しない第1の機能層(光拡散層)の特性は以下のとおりであった:L=50nm、Δn=0.12、Δn/L=0.0024、光拡散半値角=60°、L/rP=0.04、後方散乱率=0.38%。さらに、第1の機能層(光拡散層)のマトリクスと光拡散性微粒子との界面近傍部分のTEM画像から3次元像を再構成し、当該3次元再構成像を二値化して画像処理を行い、光拡散性微粒子表面からの距離と超微粒子成分の分散濃度(存在比率)との関係を算出した。その結果、超微粒子成分の分散濃度の勾配が形成されていることを確認した。
反応性基を有さないフッ素系レベリング剤(DIC社製、商品名「メガファックTF−1661」)の添加量0.5%を、0.2%とした以外は実施例1と同様にして、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムを上記(1)〜(3)の評価に供した。結果を、表1に示す。
なお、表1に記載しない第1の機能層(光拡散層)の特性は以下のとおりであった:L=50nm、Δn=0.12、Δn/L=0.0024、光拡散半値角=60°、L/rP=0.04、後方散乱率=0.38%。
反応性基を有さないフッ素系レベリング剤(DIC社製、商品名「メガファックTF−1661」)に代えて、イソシアネート基を有するフッ素系レベリング剤(DIC社製、商品名「メガファックRS−721」:上記一般式(I)〜(III)で表される構成単位を有する)を用いた以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを得た。
得られた光学フィルムを上記(1)〜(3)の評価に供した。結果を表1に示す。また、光学フィルムにおけるフッ素系レベリング剤の分布について上記(4)の評価に供した。結果を図6に示す。
なお、表1に記載しない第1の機能層(光拡散層)の特性は以下のとおりであった:L=49nm、Δn=0.12、Δn/L=0.0024、光拡散半値角=60°、L/rP=0.04、後方散乱率=0.37%。
反応性基を有さないフッ素系レベリング剤(DIC社製、商品名「メガファックTF−1661」)に代えて、イソシアネート基を有するフッ素系レベリング剤(DIC社製、商品名「メガファックF479」:上記一般式(I)〜(III)で表される構成単位を有さない)を用いた以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを得た。
得られた光学フィルムを上記(1)〜(3)の評価に供した。結果を、表1に示す。
なお、表1に記載しない第1の機能層(光拡散層)の特性は以下のとおりであった:L=50nm、Δn=0.12、Δn/L=0.0024、光拡散半値角=60°、L/rP=0.04、後方散乱率=0.39%。
20 マトリクス
21 樹脂成分
22 超微粒子成分
30 光拡散性微粒子
40 屈折率変調領域
100 光学フィルム
110 基材フィルム
120 第1の機能層
130 第2の機能層
Claims (10)
- 基材フィルムの一方の面に、反応性基を有さないフッ素系レベリング剤を含む第1の塗工液を塗工して第1の機能層を形成する第1の塗工工程と、
該第1の機能層の表面に、第2の塗工液を塗工して第2の機能層を形成する第2の塗工工程とを含み、
該フッ素系レベリング剤が、
該第2の塗工液の塗布時には該第1の機能層表面に偏在し、該第2の塗工液の塗布後には該第2の塗工液に溶出し、形成される第2の機能層表面に偏在する、
光学フィルムの製造方法。 - 前記フッ素系レベリング剤が下記一般式(I)で表される構成単位、下記一般式(II)で表される構成単位および下記一般式(III)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む、請求項1に記載の光学フィルムの製造方法:
- 前記フッ素系レベリング剤の含有量が、前記第1の塗工液中の全固形分に対して、0.05重量%〜3重量%である、請求項1または2に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記第1の機能層が、光拡散層である、請求項1から3のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記第2の機能層が、反射防止層である、請求項1から4のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記光拡散層が、マトリクスと該マトリクス中に分散された光拡散性微粒子とを有し、
該マトリクスと該光拡散性微粒子との界面またはその近傍に、屈折率が実質的に連続的に変化する屈折率変調領域が形成され、かつ、下記式(3)および(4)を満足する、請求項4または5に記載の光学フィルムの製造方法:
Δn≧0.10 ・・・(3)
0.0006≦Δn/L≦0.01 ・・・(4)
ここで、Δnはマトリクスの平均屈折率nMと光拡散性微粒子の屈折率nPとの差の絶対値|nM−nP|であり、Lは屈折率変調領域の平均厚みである。 - nM>nPである、請求項6に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記光拡散層が式(5)を満足する、請求項6または7に記載の光学フィルムの製造方法:
0.01≦L/rP≦1.0 ・・・(5)
ここで、rPは前記光拡散性微粒子の半径である。 - 前記マトリクスが樹脂成分および超微粒子成分を含み、前記屈折率変調領域が、該マトリクス中の該超微粒子成分の分散濃度の実質的な勾配により形成されている、請求項6から8のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記光拡散層が式(1)を満足する、請求項9に記載の光学フィルムの製造方法:
|nP−nA|<|nP−nB|・・・(1)
ここで、nAはマトリクスの樹脂成分の屈折率を表し、nBはマトリクスの超微粒子成分の屈折率を表す。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011202290A JP6265316B2 (ja) | 2010-09-22 | 2011-09-15 | 光学フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010212689 | 2010-09-22 | ||
JP2010212689 | 2010-09-22 | ||
JP2011202290A JP6265316B2 (ja) | 2010-09-22 | 2011-09-15 | 光学フィルムの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012088693A true JP2012088693A (ja) | 2012-05-10 |
JP6265316B2 JP6265316B2 (ja) | 2018-01-24 |
Family
ID=45873846
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011202290A Expired - Fee Related JP6265316B2 (ja) | 2010-09-22 | 2011-09-15 | 光学フィルムの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6265316B2 (ja) |
KR (1) | KR101410186B1 (ja) |
CN (1) | CN103119480B (ja) |
TW (1) | TWI461726B (ja) |
WO (1) | WO2012039359A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014167666A1 (ja) * | 2013-04-10 | 2014-10-16 | 日東電工株式会社 | 光拡散素子 |
WO2020009083A1 (ja) * | 2018-07-03 | 2020-01-09 | 株式会社ダイセル | ペン入力デバイス用表面材及びペン入力デバイス |
JP2021138147A (ja) * | 2016-10-25 | 2021-09-16 | ダイキン工業株式会社 | 機能性膜 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2821850B1 (en) | 2012-02-27 | 2019-05-22 | Mitsubishi Electric Corporation | Screen, optical element, and display device |
JP2014085383A (ja) * | 2012-10-19 | 2014-05-12 | Cheil Industries Inc | 樹脂膜及び樹脂膜の製造方法 |
US20140322486A1 (en) * | 2013-04-30 | 2014-10-30 | Shigeto Kobori | Method for preparing modified silica film, coating liquid for the same and modified silica film prepared from the same |
JP2014213318A (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-17 | チェイル インダストリーズインコーポレイテッド | 改質シリカ膜の製造方法、塗工液、及び改質シリカ膜 |
KR102107563B1 (ko) * | 2013-08-08 | 2020-05-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 광학 필름, 이를 포함하는 표시 장치 및 광학 필름의 제조 방법 |
Citations (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11160505A (ja) * | 1997-09-25 | 1999-06-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 光拡散フィルム、その製造方法、拡散層付偏光板及び液晶表示装置 |
JP2003057415A (ja) * | 2001-08-21 | 2003-02-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光拡散フィルム、その製造方法、偏光板および液晶表示装置 |
JP2003307728A (ja) * | 2002-04-18 | 2003-10-31 | Nitto Denko Corp | 反射型液晶表示装置 |
JP2004038009A (ja) * | 2002-07-05 | 2004-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 液晶表示装置 |
JP2006227353A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗膜、光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板およびそれらを用いたディスプレイ装置 |
JP2006227279A (ja) * | 2005-02-17 | 2006-08-31 | Dainippon Printing Co Ltd | 光拡散シート及び透過型スクリーン |
JP2007051203A (ja) * | 2005-08-17 | 2007-03-01 | Fujifilm Corp | 含フッ素共重合体、該含フッ素共重合体を含有する皮膜形成用組成物、この皮膜形成用組成物を用いた反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた偏光板、並びに該反射防止フィルム又は該偏光板を用いた画像表示装置 |
JP2007069471A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板および表示装置 |
JP2007219485A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-08-30 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
WO2007099615A1 (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-07 | Shimadzu Corporation | 光学的測定の解析方法 |
JP2008026883A (ja) * | 2006-06-19 | 2008-02-07 | Fujifilm Corp | 光学フィルム |
JP2009053691A (ja) * | 2007-08-02 | 2009-03-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法 |
JP2009070814A (ja) * | 2007-08-21 | 2009-04-02 | Fujifilm Corp | 散乱部材を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
JP2009080256A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 防眩フィルム |
JP2009180830A (ja) * | 2008-01-29 | 2009-08-13 | Nippon Zeon Co Ltd | 輝度向上フィルム及び液晶表示装置 |
JP2009203364A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-09-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 硬化性樹脂組成物及び該組成物からなる保護膜 |
JP2009227930A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Mitsumura Printing Co Ltd | カラーフィルター作製用インキ組成物 |
JP2009244383A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | 液晶表示装置 |
JP2010079101A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
JP2010077243A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Jsr Corp | 光拡散粒子、その製造方法、光拡散粒子組成物、及び光拡散フィルム |
JP2010181727A (ja) * | 2009-02-06 | 2010-08-19 | Fujifilm Corp | 反射防止ハードコートフィルムの製造方法、反射防止ハードコートフィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
WO2012036270A1 (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-22 | 日東電工株式会社 | 光拡散素子、光拡散素子付偏光板、偏光素子、およびこれらを用いた液晶表示装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006330705A (ja) | 2005-04-28 | 2006-12-07 | Fujifilm Holdings Corp | 光拡散フィルム、反射防止フィルム、並びにそのような光拡散フィルムまたは反射防止フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置 |
CN101400492B (zh) * | 2006-03-20 | 2012-07-25 | 三井化学株式会社 | 光学膜及其制造方法 |
KR20080098466A (ko) * | 2007-05-05 | 2008-11-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 광학필름과 이를 이용한 편광판 및 디스플레이 장치와 그제조방법 |
TWI444649B (zh) * | 2007-05-05 | 2014-07-11 | Lg Display Co Ltd | 光學膜及其製造方法 |
KR100951509B1 (ko) * | 2007-05-16 | 2010-04-07 | 광 석 서 | 자외선 경화형 대전방지 코팅 조성물 |
TWI394985B (zh) * | 2008-05-07 | 2013-05-01 | Ind Tech Res Inst | 抗眩膜及其製造方法 |
KR20080101830A (ko) * | 2008-09-30 | 2008-11-21 | 광 석 서 | 자외선 경화형 대전방지 코팅 조성물 |
CN102326103A (zh) * | 2008-12-30 | 2012-01-18 | 3M创新有限公司 | 含氟聚合物多层光学膜及其制备和使用方法 |
TW201027132A (en) * | 2009-01-05 | 2010-07-16 | Kolon Inc | Light diffusion film |
-
2011
- 2011-09-15 JP JP2011202290A patent/JP6265316B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-09-16 KR KR1020137007060A patent/KR101410186B1/ko active IP Right Grant
- 2011-09-16 WO PCT/JP2011/071235 patent/WO2012039359A1/ja active Application Filing
- 2011-09-16 TW TW100133619A patent/TWI461726B/zh not_active IP Right Cessation
- 2011-09-16 CN CN201180045129.9A patent/CN103119480B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11160505A (ja) * | 1997-09-25 | 1999-06-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 光拡散フィルム、その製造方法、拡散層付偏光板及び液晶表示装置 |
JP2003057415A (ja) * | 2001-08-21 | 2003-02-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光拡散フィルム、その製造方法、偏光板および液晶表示装置 |
JP2003307728A (ja) * | 2002-04-18 | 2003-10-31 | Nitto Denko Corp | 反射型液晶表示装置 |
JP2004038009A (ja) * | 2002-07-05 | 2004-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 液晶表示装置 |
JP2006227279A (ja) * | 2005-02-17 | 2006-08-31 | Dainippon Printing Co Ltd | 光拡散シート及び透過型スクリーン |
JP2006227353A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗膜、光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板およびそれらを用いたディスプレイ装置 |
JP2007051203A (ja) * | 2005-08-17 | 2007-03-01 | Fujifilm Corp | 含フッ素共重合体、該含フッ素共重合体を含有する皮膜形成用組成物、この皮膜形成用組成物を用いた反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた偏光板、並びに該反射防止フィルム又は該偏光板を用いた画像表示装置 |
JP2007069471A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板および表示装置 |
JP2007219485A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-08-30 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
WO2007099615A1 (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-07 | Shimadzu Corporation | 光学的測定の解析方法 |
JP2008026883A (ja) * | 2006-06-19 | 2008-02-07 | Fujifilm Corp | 光学フィルム |
JP2009053691A (ja) * | 2007-08-02 | 2009-03-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法 |
JP2009070814A (ja) * | 2007-08-21 | 2009-04-02 | Fujifilm Corp | 散乱部材を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
JP2009080256A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 防眩フィルム |
JP2009180830A (ja) * | 2008-01-29 | 2009-08-13 | Nippon Zeon Co Ltd | 輝度向上フィルム及び液晶表示装置 |
JP2009203364A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-09-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 硬化性樹脂組成物及び該組成物からなる保護膜 |
JP2009227930A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Mitsumura Printing Co Ltd | カラーフィルター作製用インキ組成物 |
JP2009244383A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | 液晶表示装置 |
JP2010077243A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Jsr Corp | 光拡散粒子、その製造方法、光拡散粒子組成物、及び光拡散フィルム |
JP2010079101A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
JP2010181727A (ja) * | 2009-02-06 | 2010-08-19 | Fujifilm Corp | 反射防止ハードコートフィルムの製造方法、反射防止ハードコートフィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
WO2012036270A1 (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-22 | 日東電工株式会社 | 光拡散素子、光拡散素子付偏光板、偏光素子、およびこれらを用いた液晶表示装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014167666A1 (ja) * | 2013-04-10 | 2014-10-16 | 日東電工株式会社 | 光拡散素子 |
JP2021138147A (ja) * | 2016-10-25 | 2021-09-16 | ダイキン工業株式会社 | 機能性膜 |
JP7137098B2 (ja) | 2016-10-25 | 2022-09-14 | ダイキン工業株式会社 | 機能性膜 |
WO2020009083A1 (ja) * | 2018-07-03 | 2020-01-09 | 株式会社ダイセル | ペン入力デバイス用表面材及びペン入力デバイス |
JPWO2020009083A1 (ja) * | 2018-07-03 | 2021-08-02 | 株式会社ダイセル | ペン入力デバイス用表面材及びペン入力デバイス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103119480B (zh) | 2016-08-10 |
CN103119480A (zh) | 2013-05-22 |
JP6265316B2 (ja) | 2018-01-24 |
KR101410186B1 (ko) | 2014-06-19 |
KR20130050977A (ko) | 2013-05-16 |
WO2012039359A1 (ja) | 2012-03-29 |
TWI461726B (zh) | 2014-11-21 |
TW201221992A (en) | 2012-06-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6265316B2 (ja) | 光学フィルムの製造方法 | |
TWI534002B (zh) | 光學積層體及光學積層體之製造方法 | |
JP6153723B2 (ja) | 防眩性フィルムの製造方法、防眩性フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
JP6275935B2 (ja) | 光拡散素子、光拡散素子付偏光板、およびこれらを用いた液晶表示装置 | |
JP6048412B2 (ja) | 画像表示装置用防眩シート | |
KR20130041344A (ko) | 광확산 소자 및 광확산 소자를 가진 편광판 | |
JP5883598B2 (ja) | 光拡散素子および光拡散素子付偏光板の製造方法、ならびに、これらの方法で得られた光拡散素子および光拡散素子付偏光板 | |
KR20130041337A (ko) | 광확산 필름, 광확산 필름이 부착된 편광판, 액정 표시 장치 및 조명 기구 | |
JP5129379B2 (ja) | 光拡散素子 | |
WO2014167664A1 (ja) | 光拡散素子および光拡散素子の製造方法 | |
WO2014167666A1 (ja) | 光拡散素子 | |
WO2014167665A1 (ja) | 光拡散素子および光拡散素子の製造方法 | |
JP6049278B2 (ja) | 光拡散素子の製造方法および光拡散素子 | |
WO2014167663A1 (ja) | 光拡散素子の製造方法および光拡散素子 | |
JP7343273B2 (ja) | 防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、光学部材および画像表示装置 | |
TWI484227B (zh) | Light diffusion element | |
TWI452352B (zh) | A light diffusion element and a method for manufacturing the light diffusion element | |
CN114651197A (zh) | 防眩性膜、防眩性膜的设计方法、防眩性膜的制造方法、光学构件及影像显示设备 | |
JP2013195814A (ja) | 光拡散素子 | |
JP2013195812A (ja) | 光拡散素子および光拡散素子の製造方法 | |
JP2013195813A (ja) | 光拡散素子および光拡散素子の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140602 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150420 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150507 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170414 |
|
RD13 | Notification of appointment of power of sub attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433 Effective date: 20170829 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20170830 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20171002 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6265316 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |