JP2021138147A - 機能性膜 - Google Patents

機能性膜 Download PDF

Info

Publication number
JP2021138147A
JP2021138147A JP2021091484A JP2021091484A JP2021138147A JP 2021138147 A JP2021138147 A JP 2021138147A JP 2021091484 A JP2021091484 A JP 2021091484A JP 2021091484 A JP2021091484 A JP 2021091484A JP 2021138147 A JP2021138147 A JP 2021138147A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
layer
integer
ocf
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2021091484A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7137098B2 (ja
Inventor
恒雄 山下
Tsuneo Yamashita
恒雄 山下
英司 阪本
Eiji Sakamoto
英司 阪本
沙弥 新居
Saya Arai
沙弥 新居
淳史 坂倉
Junji Sakakura
淳史 坂倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daikin Industries Ltd filed Critical Daikin Industries Ltd
Publication of JP2021138147A publication Critical patent/JP2021138147A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7137098B2 publication Critical patent/JP7137098B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/26—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer
    • B32B3/30—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer characterised by a layer formed with recesses or projections, e.g. hollows, grooves, protuberances, ribs
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/04—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers only
    • C08G65/22—Cyclic ethers having at least one atom other than carbon and hydrogen outside the ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D151/00—Coating compositions based on graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D151/08—Coating compositions based on graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Coating compositions based on derivatives of such polymers grafted on to macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/16—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements having an anti-static effect, e.g. electrically conducting coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2325/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Derivatives of such polymers
    • C08J2325/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
    • C08J2325/04—Homopolymers or copolymers of styrene
    • C08J2325/06—Polystyrene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2451/00—Characterised by the use of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Derivatives of such polymers
    • C08J2451/08—Characterised by the use of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Derivatives of such polymers grafted on to macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Polyethers (AREA)

Abstract

【課題】所望の微細凹凸パターン構造を有し、優れた防汚性、撥水性及び撥油性を有する機能性膜を提供する。【解決手段】樹脂を含む層（Ａ）１２、及び、パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む層（Ｂ）１３を含む機能性膜であって、層（Ｂ）の層（Ａ）とは反対側の面に微細凹凸パターン構造を有しており、Ａｒ−ＧＣＩＢにより層（Ｂ）側からエッチングしながら、ＸＰＳによる分析結果が関係式（１）を充足し、かつ、炭素の１ｓスペクトルを測定した場合に、関係式（２）を充足することを特徴とする機能性膜である。関係式（１）：Ｄ１＜２×Ｘ１（式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ１はフッ素原子濃度が１ａｔｏｍ％以下になる深さ（ｎｍ））関係式（２）：Ｄ２＜２×Ｘ１（式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ２は結合エネルギー２９０〜３００ｅＶの範囲内にピークが検出されなくなる深さ（ｎｍ））【選択図】図１

Description

本発明は、機能性膜に関する。
微細凹凸パターン構造を有するフィルムは、反射防止フィルムとして利用されることが知られている。
特許文献１には、優れた反射防止性を有しつつ、防汚性及び耐擦傷性に優れた光学フィルムの製造方法として、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられた凹凸構造を表面に有する光学フィルムの製造方法であって、下層樹脂及び上層樹脂を塗布する工程（１）と、塗布された前記下層樹脂及び前記上層樹脂が積層された状態で、前記下層樹脂及び前記上層樹脂に金型を前記上層樹脂側から押し付け、前記凹凸構造を表面に有する樹脂層を形成する工程（２）と、前記樹脂層を硬化する工程（３）とを含み、前記下層樹脂は、フッ素原子を含有しない少なくとも一種の第一のモノマーを含み、前記上層樹脂は、フッ素原子を含有しない少なくとも一種の第二のモノマー、及び、フッ素含有モノマーを含み、前記第一のモノマー及び前記第二のモノマーの少なくとも一方は、前記フッ素含有モノマーと相溶する相溶性モノマーを含み、かつ、前記下層樹脂及び前記上層樹脂中に溶解することを特徴とする光学フィルムの製造方法が記載されている。
特許第５９５１１６５号公報
しかし、特許文献１に記載の製造方法により得られる光学フィルムでは、「下層樹脂及び上層樹脂が一体化し、両者の界面が存在しない」ことから、表面付近にフッ素原子が充分に存在せず、防汚性が充分とはいえなかった。また、下層樹脂及び上層樹脂が一体化することから、下層樹脂に期待される特性が充分に発揮されない問題もあった。
微細凹凸パターン構造を損なわず、しかも当該構造を設ける樹脂の特性を維持したまま、フィルムに優れた防汚性を付与する技術が求められる。
本発明は、上記現状に鑑み、微細凹凸パターン構造を有しており、機能性膜に機能を付与するための主材としての樹脂が有する特性が充分に発揮され、しかも、優れた防汚性、撥水性及び撥油性を有する機能性膜を提供することを目的とする。
本発明は、樹脂を含む層（Ａ）、及び、パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む層（Ｂ）を含む機能性膜であって、層（Ｂ）の層（Ａ）とは反対側の面に微細凹凸パターン構造を有しており、アルゴンガスクラスターイオンビームにより層（Ｂ）側からエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法により元素分析した場合に、関係式（１）を充足し、かつ、アルゴンガスクラスターイオンビームにより層（Ｂ）側からエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法により炭素の１ｓスペクトルを測定した場合に、関係式（２）を充足することを特徴とする機能性膜である。
関係式（１）：Ｄ１＜２×Ｘ１
（式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ１はフッ素原子濃度が１ａｔｏｍ％以下になる深さ（ｎｍ）を表す。）
関係式（２）：Ｄ２＜２×Ｘ１
（式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ２は結合エネルギー２９０〜３００ｅＶの範囲内にピークが検出されなくなる深さ（ｎｍ）を表す。）
関係式（１）において、更に、０．８×Ｘ１＜Ｄ１を充足することが好ましい。
関係式（２）において、更に、０．８×Ｘ１＜Ｄ２を充足することが好ましい。
層（Ａ）上に、層（Ｂ）が設けられていることが好ましい。
更に、基材（Ｓ）を含み、基材（Ｓ）上に、層（Ａ）が設けられており、層（Ａ）上に、層（Ｂ）が設けられていることが好ましい。
上記パーフルオロポリエーテル基は、
式：−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
で表されるポリエーテル鎖であることが好ましい。
層（Ｂ）に含まれる上記化合物が、パーフルオロポリエーテル基及び硬化性部位を有する化合物（Ｆ）を硬化させることにより得られる化合物、パーフルオロポリエーテル基及び加水分解可能な基を有する化合物（Ｇ）、及び、
式：Ｒ１１１−ＰＦＰＥ−Ｒ１１３
（式中、ＰＦＰＥはパーフルオロポリエーテル基、Ｒ１１１及びＲ１１３は、独立に、Ｆ、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のフッ素化アルキル基、炭素数１〜１６のフッ素化アルコキシ基、−Ｒ１１４−Ｘ１１１（Ｒ１１４は単結合又は二価の有機基、Ｘ１１１は−ＮＨ２、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、ハロゲン、リン酸、リン酸エステル、カルボン酸エステル、チオール、チオエーテル、アルキルエーテル（フッ素で置換されていてもよい）、アリール、アリールエーテル又はアミド））で表される化合物（Ｈ）からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
層（Ａ）に含まれる上記樹脂が、硬化性樹脂を硬化させることにより得られる樹脂、硬化性モノマーを硬化させることにより得られる樹脂、及び、含ケイ素化合物を用いて形成されたポリシロキサン構造を含む樹脂からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
本発明の機能性膜は、微細凹凸パターン構造を有しており、機能性膜に機能を付与するための主材としての樹脂の特性が充分に発揮され、しかも、優れた防汚性、撥水性及び撥油性を有する。
本発明の機能性膜の一実施態様の模式的断面図である。 機能性膜（比較）の一実施態様の模式的断面図である。 試験例４で作製した積層体の模式的断面図である。 試験例４で作製した機能性膜のスペクトルである。（ａ）は炭素の１ｓスペクトル、（ｂ）はスパッタ時間と原子濃度との関係を示すグラフである。また、（ａ）における時間（分）は、スパッタ時間を表す。 試験例５で作製した機能性膜のスペクトルである。（ａ）は炭素の１ｓスペクトル、（ｂ）はスパッタ時間と原子濃度との関係を示すグラフである。また、（ａ）における時間（分）は、スパッタ時間を表す。
以下、本発明を具体的に説明する。
本発明の機能性膜は、各種の機能を有する膜であり、例えば、撥水性、撥油性、防汚性、親水性、屈折率変動機能、紫外線吸収性、光安定性、生物特性、難燃性、帯電防止性、反射防止性等を有する膜である。特に、層（Ｂ）がパーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含むことから、防汚性、撥水性及び撥油性を有する。また、微細凹凸パターン構造を有していることから、反射防止性を有する。
本発明の機能性膜は、層（Ａ）及び層（Ｂ）を含み、層（Ｂ）の層（Ａ）とは反対側の面に微細凹凸パターン構造を有している。
上記「微細」という用語は、ナノメートルサイズを意味することが好ましく、パターンピッチが可視光の波長以下であることを意味することがより好ましい。上記可視光の波長は約７８０ｎｍである。このような微細な構造を有する場合、上記機能性膜を光学フィルムとして使用することが可能となる。
上記微細凹凸パターンとしては、パターンピッチが１０００〜１ｎｍであるパターンが好ましく、７８０〜２ｎｍであるパターンがより好ましく、５００〜２ｎｍであるパターンが更に好ましい。上記パターンピッチとは、隣接する凸部の頂部間の距離である。上記パターンピッチは、電子顕微鏡観察により測定できる。
上記微細凹凸パターンの深さは特に限定されないが、ナノメートルサイズであることが好ましく、可視光の波長以下であることがより好ましい。このような微細な構造を有する場合、上記機能性膜を光学フィルムとして使用することが可能となる。
上記微細凹凸パターンとしては、パターン深さが３０００〜３ｎｍであるパターンが好ましく、１０００〜３ｎｍであるパターンがより好ましい。上記パターン深さとは、凸部の頂部の高さと凹部の底部の高さとの差である。上記パターン深さは、電子顕微鏡観察により測定できる。
本発明の機能性膜は、アルゴンガスクラスターイオンビーム（Ａｒ−ＧＣＩＢ）により層（Ｂ）側からエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により元素分析した場合に、関係式（１）を充足することを特徴とする。
関係式（１）：Ｄ１＜２×Ｘ１
（式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ１はフッ素原子濃度が１ａｔｏｍ％以下になる深さ（ｎｍ）を表す。）
１ａｔｏｍ％以下の濃度のフッ素原子しか観測されないことは、その深さにおいて、パーフルオロポリエーテル基を有する化合物等の含フッ素化合物が含まれないことを意味する。
本発明の機能性膜は、本発明の所望の効果がより一層得られることから、関係式（１）において、更に、０．８×Ｘ１＜Ｄ１を充足することが好ましい。すなわち、本発明の機能性膜は、０．８×Ｘ１＜Ｄ１＜２×Ｘ１の関係を充足することが好ましい。
本発明の機能性膜は、更に、アルゴンガスクラスターイオンビーム（Ａｒ−ＧＣＩＢ）により層（Ｂ）側からエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により、炭素の１ｓスペクトルを測定した場合に、関係式（２）を充足する。
関係式（２）：Ｄ２＜２×Ｘ１
（式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ２は結合エネルギー２９０〜３００ｅＶの範囲内にピークが検出されなくなる深さ（ｎｍ）を表す。）
２９０〜３００ｅＶの範囲内に検出されるピークには、パーフルオロポリエーテル基に含まれる結合、例えば、−ＯＣ４Ｆ８Ｏ−、−ＯＣ３Ｆ６Ｏ−、−ＯＣ２Ｆ４Ｏ−、−ＯＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−等に含まれるＣＦ２結合やＯＣＦ２結合に由来するピークが含まれる。従って、結合エネルギー２９０〜３００ｅＶの範囲内にピークが検出されないことは、その深さにおいて、パーフルオロポリエーテル基を有する化合物が含まれないことを意味する。
本発明の機能性膜は、本発明の所望の効果がより一層得られることから、関係式（２）において、更に、０．８×Ｘ１＜Ｄ２を充足することが好ましい。すなわち、本発明の機能性膜は、０．８×Ｘ１＜Ｄ２＜２×Ｘ１の関係を充足することが好ましい。
本発明の機能性膜は、関係式（１）及び関係式（２）を充足するものであり、好適には、層（Ａ）及び層（Ｂ）の界面が明確に存在する。この構造によって、層（Ａ）に含まれる樹脂が本来有する機能が充分に発揮される。同時に、層（Ｂ）に含まれるパーフルオロポリエーテル基を有する化合物が微細凹凸パターン構造の表面近傍に高濃度に存在するので、優れた防汚性、撥水性及び撥油性を有する。
Ｄ１及びＤ２は次の条件で実施するＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定できる。
アルバック・ファイ社製ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅＩＩ
アルゴンガスクラスターイオンビーム
スパッタ条件５ｋＶ２０ｎＡ
Ｘ線ビーム径１００μｍ
測定範囲１０００μｍ×３００μｍ
光電子の取り出し角度４５度
上記ＸＰＳによる元素分析で得られた光電子スペクトルの強度から、フッ素原子を定量してフッ素原子濃度を求めることができる。上記フッ素原子濃度は、ＸＰＳにより測定されるすべての原子の定量値の合計を１００ａｔｏｍ％としたときの、フッ素原子の量の比率である。
また、上記ＸＰＳにより測定される炭素の１ｓスペクトルを波形解析することにより、２９０〜２９５ｅＶの範囲内のピークの有無を確認できる。上記波形解析は常法で実施でき、例えば、得られたスぺクトルをカーブフィッティングして、上記ピークについてピーク分離する。
本明細書において、「深さ」とは、上記機能性膜の層（Ｂ）の表面からの深さ方向の距離を意味する。予め、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により膜厚を特定したポリスチレンの層をＡｒ−ＧＣＩＢによりエッチングし、エッチング速度を求める。上述したＤ１及びＤ２は、フッ素原子が観測されなくなったエッチング時間及び２９０〜３００ｅＶの範囲内のピークが検出されなくなったエッチング時間を測定し、それぞれ、ポリスチレン換算で深さに換算することにより決定できる。
予め塗布した層（Ｂ）を乾燥し、硬化させた後、分光エリプソメーターにより膜厚を測定して、決定した条件を基準として、層（Ｂ）の膜厚Ｘ１（ｎｍ）を設定できる。
本発明の機能性膜は、アルゴンガスクラスターイオンビーム（Ａｒ−ＧＣＩＢ）により層（Ｂ）側から深さ０．５×Ｘ１までエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により元素分析した場合に、フッ素原子濃度が７５〜３０ａｔｍ％であることが好ましい。層（Ｂ）にフッ素原子が高濃度で含まれることにより、より一層優れた防汚性、撥水性及び撥油性が得られる。
本発明の機能性膜は、アルゴンガスクラスターイオンビーム（Ａｒ−ＧＣＩＢ）により層（Ｂ）側から深さ０．５×Ｘ１までエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により、炭素の１ｓスペクトルを測定した場合に、結合エネルギー２９０〜３００ｅＶの範囲内にピークが検出されることが好ましく、面積がＳ／Ｎ比３以上のピークが検出されることがより好ましい。層（Ｂ）にパーフルオロポリエーテル基を有する化合物が高濃度に含まれることにより、より一層優れた防汚性、撥水性及び撥油性が得られる。
層（Ｂ）の膜厚、すなわちＸ１としては、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、１ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましい。本発明によれば、層（Ｂ）をこのように薄く設けることができ、この場合、微細凹凸パターン構造が更に損なわれにくい。
層（Ｂ）は、更に明確な微細凹凸パターン構造を実現できることから、均一な膜厚を有していることが好ましい。膜厚の均一性は分光エリプソメーターにより測定できる。例えば、任意の領域について、分光エリプソメーターにより膜厚を測定した場合に、最大膜厚（ｄｍａｘ）と最小膜厚（ｄｍｉｎ）との比（ｄｍａｘ／ｄｍｉｎ）が２．０以下であることが好ましく、１．５以下であることがより好ましい。
層（Ａ）の膜厚としては、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以上が好ましく、１０００ｎｍ以上がより好ましい。本発明によれば、層（Ａ）をこのように厚く設けることができ、この場合、層（Ａ）に含まれる樹脂が本来有する機能がより一層発揮される。
本発明の機能性膜において、層（Ａ）上に、層（Ｂ）が設けられていることが好ましい。本発明の機能性膜において、層（Ｂ）が層（Ａ）上に直接又は他の層を介して設けられていてよいが、層（Ａ）上に直接設けられていることが好ましい。
本発明の機能性膜は、更に、基材（Ｓ）を含むことが好ましい。
基材（Ｓ）の厚みは、透明性及び加工性を確保する観点から、２０μｍ以上、２００μｍ以下であることが好ましく、４０μｍ以上、１００μｍ以下であることがより好ましい。
本発明の機能性膜が基材（Ｓ）を含む場合、基材（Ｓ）上に、層（Ａ）が設けられており、層（Ａ）上に、層（Ｂ）が設けられていることが好ましい。本発明の機能性膜において、層（Ａ）が基材（Ｓ）上に直接又は他の層を介して設けられており、層（Ｂ）が層（Ａ）上に直接又は他の層を介して設けられていてよいが、層（Ａ）が基材（Ｓ）上に直接設けられており、層（Ｂ）が層（Ａ）上に直接設けられていることが好ましい。
図１に、本発明の機能性膜の一実施態様の模式的断面図を示す。図１の機能性膜１０は、基材１１と、基材１１上に直接設けられた層１２と、層１２上に直接設けられた層１３と、を備えている。層１２は上記樹脂を含み、層１３は上記パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む。層１２と層１３とは明確な界面により仕切られており、この構成によって、各層を構成する材料の特性が充分に発揮される。
また、層１３がほぼ均一な膜厚を有する薄膜から形成されていることから、層１２及び層１３はほぼ同一の微細凹凸パターンを有している。すなわち、図１の機能性膜１０は、層１３の層１２とは反対側の面に微細凹凸パターン構造を有している。図２に比較態様として示す機能性膜２０のように、層２３が厚みが不均一な厚膜であったり、層２３の層２２とは反対側の面に微細凹凸パターン構造が形成されていなかったりすると、層２２が微細凹凸パターン構造を有していても、該構造に起因する効果が充分に発揮されない。図１の機能性膜１０は、層１３の層１２とは反対側の面に微細凹凸パターン構造を有していることから、反射防止性等の微細凹凸パターン構造による作用効果が充分に得られる。
基材（Ｓ）を構成する材料としては、シリコン、合成樹脂、ガラス、金属、セラミック等が挙げられる。
上記合成樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などのセルロース系樹脂、ポリエチレン、ポロプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エボキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ポリウレタン等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば２層以上の積層体として）用いることができる。
層（Ｂ）は、パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む。
上記パーフルオロポリエーテル基（ＰＦＰＥ）としては、
式：−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表されるポリエーテル鎖であることが好ましい。
Ｘ１０としては、Ｆが好ましい。
ｍ１１〜ｍ１６は、それぞれ、０〜２００の整数であることが好ましく、０〜１００の整数であることがより好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、合計で、１以上の整数であることが好ましく、５以上の整数であることがより好ましく、１０以上の整数であることが更に好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、合計で、２００以下の整数であることが好ましく、１００以下の整数であることがより好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、合計で、１０〜２００の整数であることが好ましく、１０〜１００の整数であることがより好ましい。
上記ポリエーテル鎖において、各繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ６Ｆ１２）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ５Ｆ１０）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。また、−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖である。上記ポリエーテル鎖は、好ましくは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖または−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖であり、より好ましくは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖である。ｍ１４は、５〜２００の整数であることが好ましく、１０〜２００の整数であることがより好ましい。
別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−（式中、ｍ１３およびｍ１４は、それぞれ、０〜３０の整数であり、ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数である。ｍ１３〜ｍ１６は、合計で、５以上の整数である。各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖である。ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、５〜２００の整数であることが好ましく、１０〜２００の整数であることがより好ましい。ｍ１３〜ｍ１６は、合計で、１０以上の整数であることが好ましい。上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１３−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−であることが好ましい。一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−（式中、ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数である。各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖であってもよい。ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、５〜２００の整数であることが好ましく、１０〜２００の整数であることがより好ましい。
さらに別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（Ｒｍ１−Ｒｍ２）ｍ１７−で表される基である。式中、Ｒｍ１は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、好ましくはＯＣ２Ｆ４である。式中、Ｒｍ２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒｍ１は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、および−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−等が挙げられる。上記ｍ１７は、２以上の整数であり、好ましくは３以上の整数であり、より好ましくは５以上の整数であり、１００以下の整数であり、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ポリエーテル鎖は、好ましくは、−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ３Ｆ６）ｍ１７−または−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ４Ｆ８）ｍ１７−である。
上記ポリエーテル鎖において、ｍ１６に対するｍ１５の比（以下、「ｍ１５／ｍ１６比」という）は、０．１〜１０であり、好ましくは０．２〜５であり、より好ましくは０．２〜２であり、さらに好ましくは０．２〜１．５であり、さらにより好ましくは０．２〜０．８５である。ｍ１５／ｍ１６比を１０以下にすることにより、表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｍ１５／ｍ１６比がより小さいほど、上記表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｍ１５／ｍ１６比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｍ１５／ｍ１６比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。
上記ポリエーテル鎖は、
式：−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＸ１１ ２）ｎ１１（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｎ１２（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｎ１３（ＯＣＦ２）ｎ１４（ＯＣ４Ｆ８）ｎ１５−
（式中、ｎ１１、ｎ１２、ｎ１３、ｎ１４及びｎ１５は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１１は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖、及び、
式：−（ＯＣ２Ｆ４−Ｒ２１）ｆ−
（式中、Ｒ２１は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であり、ｆは、２〜１００の整数である）で表される鎖
からなる群より選択される少なくとも１種の鎖であってもよい。
Ｘ１１としては、Ｆが好ましい。
ｎ１１〜ｎ１５は、それぞれ、０〜２００の整数であることが好ましい。ｎ１１〜ｎ１５は、合計で、２以上の整数であることが好ましく、５〜３００の整数であることがより好ましく、１０〜２００の整数であることが更に好ましく、１０〜１００の整数であることが特に好ましい。
Ｒ２１は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、および−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−等が挙げられる。上記ｆは、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、式：−（ＯＣ２Ｆ４−Ｒ２１）ｆ−は、好ましくは、式：−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ３Ｆ６）ｆ−または式：−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ４Ｆ８）ｆ−である。
本発明の化合物において、ポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。上記数平均分子量は、１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。
別の態様において、ポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜６，０００であり得る。
別の態様において、ポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００、より好ましくは６，０００〜１０，０００であり得る。
上記化合物としては、
パーフルオロポリエーテル基及び硬化性部位を有する化合物（Ｆ）を硬化させることにより得られる化合物、
パーフルオロポリエーテル基及び加水分解可能な基を有する化合物（Ｇ）、及び、
式：Ｒ１１１−ＰＦＰＥ−Ｒ１１３
（式中、ＰＦＰＥはパーフルオロポリエーテル基、Ｒ１１１及びＲ１１３は、独立に、Ｆ、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のフッ素化アルキル基、炭素数１〜１６のフッ素化アルコキシ基、−Ｒ１１４−Ｘ１１１（Ｒ１１４は単結合又は二価の有機基、Ｘ１１１は−ＮＨ２、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、ハロゲン、リン酸、リン酸エステル、カルボン酸エステル、チオール、チオエーテル、アルキルエーテル（フッ素で置換されていてもよい）、アリール、アリールエーテル又はアミド））で表される化合物（Ｈ）
からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記化合物としては、なかでも、層（Ａ）と層（Ｂ）とが強固に接着し、優れた耐久性を有する機能性膜が実現できることから、化合物（Ｆ）を硬化させることにより得られる化合物及び化合物（Ｇ）からなる群より選択される少なくとも１種がより好ましく、パーフルオロポリエーテル基及び硬化性部位を有する化合物（Ｆ）を硬化させることにより得られる化合物が更に好ましい。
化合物（Ｆ）は、パーフルオロポリエーテル基及び硬化性部位を有する。
上記硬化性部位としては、特に限定されるものではないが、例えば、アリル基、ケイヒ酸基、ソルビン酸基、アクリロイル基、メタクリロイル基等が挙げられる。
化合物（Ｆ）としては、成分（Ａ）：ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートと、成分（Ｂ）：活性水素及びパーフルオロポリエーテル基を有する化合物との反応物である炭素−炭素二重結合含有化合物（パーフルオロポリエーテル系化合物）が好ましい。
本明細書において、「活性水素」とは、イソシアネート基にプロトンとして供与され得る水素原子を意味する。
成分（Ｂ）は、活性水素含有基を有することができる。本明細書中、「活性水素含有基」とは、上記活性水素を含有する基を指し、例えば、−ＯＨ基、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ基、−ＳＨ基、−ＳＯ３Ｈ基、−ＳＯ２Ｈ基、−ＳＯＨ基、−ＮＨ２基、−ＮＨ−基、−ＳｉＨ基等が挙げられる。
成分（Ａ）は、ジイソシアネートを三量体化することにより得ることができるポリイソシアネートである。ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートは、これらが重合した重合体として存在していてもよい。
成分（Ａ）のジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートは、好ましくは、イソシアヌレート型ポリイソシアネートであり得る。イソシアヌレート型ポリイソシアネートは、これらが重合した重合体として存在していてもよい。すなわち、イソシアヌレート型ポリイソシアネートは、イソシアヌレート環を１つのみ有する単環式化合物であってもよく、この単環式化合物が重合して得られる多環式化合物であってもよく、これらの混合物であってもよい。イソシアヌレート型ポリイソシアネートのうち公知のものとしては、例えば、住友バイエルウレタン社製の「スミジュール（登録商標）Ｎ３３００」が挙げられる。
成分（Ａ）のジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートを得るために用いられるジイソシアネートとしては、特に限定されないが、イソシアネート基が脂肪族基に結合したジイソシアネート、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート；イソシアネート基が芳香族基に結合したジイソシアネート、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートが挙げられる。
成分（Ａ）ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートとしては、特に限定されるものではないが、下記の構造を有する化合物が挙げられる。
Figure 2021138147
上述したように、これらのポリイソシアネートは重合体として存在していてもよく、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型ポリイソシアネートである場合、下記構造を有する重合体として存在していてもよい。
Figure 2021138147
成分（Ｂ）は、成分（Ｂ１）：活性水素を有するパーフルオロポリエーテルと、成分（Ｂ２）：炭素−炭素二重結合を有する基及び活性水素を有するモノマーとを含む。
成分（Ｂ１）は、下記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物である。
Ｒｆ−ＰＦＰＥ−Ｚ−Ｘ （Ｂ１−ｉ）
Ｘ−Ｚ−ＰＦＰＥ−Ｚ−Ｘ （Ｂ１−ｉｉ）
上記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）中、Ｒｆは、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６の（例えば、直鎖状又は分枝鎖状の）アルキル基であり、好ましくは、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜３の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基である。Ｒｆは、直鎖状であることが好ましい。また、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよいアルキル基は、好ましくは、末端炭素原子がＣＦ２Ｈ−であり、かつ、他のすべての炭素原子がフッ素原子により全置換されているフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキル基であり、より好ましくはパーフルオロアルキル基であり、具体的には、−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、又は、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
上記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）中、ＰＦＰＥは、上記したパーフルオロポリエーテル基であり、式：−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−で表される基である。
上記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）中、Ｚは、各々独立して、二価の有機基である。Ｚは、好ましくはＲ１である。Ｒ１は、各々独立して、下記式：
−（Ｙ）ｆ−（ＣＲ３ ２）ｊ−
で表される基である。
本明細書において、「二価の有機基」は、炭素を含有する二価の基を意味する。二価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基から更に１つの水素原子を脱離させた二価の基が挙げられる。
本明細書中、炭化水素基は、炭素及び水素を含む基を意味する。炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分枝鎖状、及び、環状のうちのいずれであってもよく、飽和及び不飽和のうちのいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ以上の環構造を含んでいてもよい。なお、炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。
本明細書中、炭化水素基の置換基としては、特に限定されるものではないが、例えば、１つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、炭素数３〜１０の不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、炭素数６〜１０のアリール基、５〜１０員のヘテロアリール基等が挙げられる。
上記式中、Ｙは、二価の極性基であることが好ましい。二価の極性基としては、特に限定されないが、例えば、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＳ−、−ＳＣＯ−、−Ｏ−等が挙げられ、好ましくは、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ−、又は、−Ｏ−である。
上記式中、Ｒ３は、各出現において、各々独立して、水素原子又はフッ素原子である。
上記式中、ｆは、０〜５０の整数であり、好ましくは０〜２０の整数（例えば、１〜２０の整数）である。ｊは、０〜１００の整数であり、好ましくは０〜４０の整数（例えば、１〜４０の整数）である。ｆ及びｊの和は、１以上である。ｆ及びｊを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式中において任意である。
上記式で表されるＲ１は、好ましくは、各々独立して、下記式で表される基である。
−（Ｙ）ｆ−（ＣＦ２）ｇ−（ＣＨ２）ｈ−
上記式中、Ｙ及びｆは、上記のとおりである。ｇ及びｈは、各々独立して、０〜５０の整数であり、好ましくは０〜２０の整数（例えば、１〜２０の整数）である。ｆ、ｇ、及び、ｈの和は、１以上であり、好ましくは１〜１０である。ｆ、ｇ、及び、ｈは、０〜２の整数であることがより好ましく、ｆ＝０又は１、ｇ＝２、ｈ＝０又は１であることが更に好ましい。また、ｆ、ｇ、及び、ｈを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式中において任意である。
上記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）中、Ｘは、活性水素含有基である。Ｘは、好ましくは、各々独立して、−ＯＨ基、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ基、−ＳＨ基、−ＳＯ３Ｈ基、−ＳＯ２Ｈ基、−ＳＯＨ基、−ＮＨ２基、−ＮＨ−基、又は、−ＳｉＨ基であり、より好ましくは、−ＯＨ基、又は、−ＮＨ２基であり、更に好ましくは、−ＯＨ基である。
成分（Ｂ１）は、好ましくは、下記式（Ｂ１−ｉ’）及び（Ｂ１−ｉｉ’）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物であり、より好ましくは、下記式（Ｂ１−ｉ’）で表される少なくとも１種の化合物である。成分（Ｂ１）が下記式（Ｂ１−ｉ’）で表される少なくとも１種の化合物である場合、ＰＦＰＥは、好ましくは、下記式（Ｄ１）で表される基である。
Ｒｆ−ＰＦＰＥ−Ｒ−ＣＨ２ＯＨ （Ｂ１−ｉ’）
ＨＯＣＨ２−Ｒ１−ＰＦＰＥ−Ｒ１−ＣＨ２ＯＨ （Ｂ１−ｉｉ’）
上記式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、及び、Ｒ１は、上記のとおりである。
成分（Ｂ１）の活性水素を有するパーフルオロポリエーテルは、パーフルオロポリエーテル基に加えて、１つの分子末端に１つの活性水素含有基（例えば、水酸基）を有する、又は、２つの分子末端の各々に１つの活性水素含有基水酸基を有する化合物である。
成分（Ｂ１）の活性水素を有するパーフルオロポリエーテルの数平均分子量は、特に限定されないが、好ましくは５００〜１２０００であり、より好ましくは１０００〜１００００であり、更に好ましくは１５００〜８０００である。
上記数平均分子量は、１９Ｆ−ＮＭＲにより測定する。
成分（Ｂ２）の炭素−炭素二重結合を有する基及び活性水素を有するモノマーは、その分子末端に少なくとも１つ（好ましくは１つ）の活性水素含有基（好ましくは水酸基）を有する。
成分（Ｂ２）の炭素−炭素二重結合を有する基及び活性水素を有するモノマーは、好ましくは、炭素−炭素二重結合を有する基として、下記式で表される基を有する。
−ＯＣ（Ｏ）−ＣＲ２＝ＣＨ２
上記式中、Ｒ２は、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基であり、好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又はメチル基である。ここで、Ｒ２が水素原子又はメチル基である基、すなわち、−ＯＣ（Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ２、又は、−ＯＣ（Ｏ）−ＣＣＨ３＝ＣＨ２は、総称して「（メタ）アクリレート基」とも称される。
成分（Ｂ２）としては、特に限定されるものではないが、例えば、下記の化合物：
ＨＯ（ＣＨ２ＣＨ２）ｉＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。ｉは、２〜１０の整数である。）、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート；
ＣＨ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。）、例えば、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。）、例えば、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート；
Ｃ６Ｈ５ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。）、例えば、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート；
ＨＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２）３
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。）、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート；
Ｃ（ＣＨ２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２）３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２）２ＣＨ２ＯＨ
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。）、例えば、ジペンタエリスリトールポリアクリレート；
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ６Ｈ５ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。）、例えば、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸；
Ｈ（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。ｎは、１〜３０の整数である。）、例えば、ポリ（エチレングリコール）アクリレート；
Ｈ（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２）ｎＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。ｎは、１〜３０の整数である。）、例えば、ポリ（プロピレングリコール）アクリレート；
アリルアルコール；
ＨＯ（ＣＨ２）ｋＣＨ＝ＣＨ２
（上記式中、ｋは２〜２０の整数である。）；
（ＣＨ３）３ＳｉＣＨ（ＯＨ）ＣＨ＝ＣＨ２；及び、
スチリルフェノール
が挙げられる。
一態様において、成分（Ｂ）は、成分（Ｂ１）及び成分（Ｂ２）からなっていてもよい。
化合物（Ｆ）に含まれる炭素−炭素二重結合含有化合物は、一分子のトリイソシアネートに、異なる種類の成分（Ｂ１）由来の基を有していてもよい。また、一分子のトリイソシアネートに、異なる種類の（例えば、異なる数の炭素−炭素二重結合を有する）成分（Ｂ２）由来の基を有していてもよい。
化合物（Ｆ）は、１種以上の炭素−炭素二重結合含有化合物を含んでいてもよい。例えば、化合物（Ｆ）は、成分（Ａ）と、成分（Ｂ１）としての化合物Ｂ１及び成分（Ｂ２）としての化合物Ｂ２とを反応させた化合物、並びに、成分（Ａ）と、成分（Ｂ１）としての化合物Ｂ１’及び成分（Ｂ２）としての化合物Ｂ２’とを反応させた化合物の混合物であってもよい。これらの化合物は同時に合成されてもよく、別個に合成され、その後混合してもよい。
化合物（Ｆ）のうち公知のものとしては、例えば、ダイキン工業社製の「オプツール（登録商標）ＤＡＣ」及び「オプツールＤＡＣ−ＨＰ」、信越化学工業社製の「ＫＹ−１２０３」及び「ＫＮＳ５３００」、ＤＩＣ社製の「メガファック（登録商標）ＲＳ−７５」、「メガファックＲＳ−７２−Ｋ」、「メガファックＲＳ−７６−Ｅ」、「メガファックＲＳ−７６−ＮＳ」、「メガファックＲＳ−９０」、「ディフェンサ（登録商標）ＴＦ３０２８」、「ディフェンサＴＦ３００１」、及び、「ディフェンサＴＦ３０００」、新中村化学工業社製の「ＳＵＡ１９００Ｌ１０」及び「ＳＵＡ１９００Ｌ６」、ソルベイ社製の「フルオロリンク（登録商標）Ｐ５６」、「フルオロリンクＰ５４」、「フルオロリンクＦ１０」、「フルオロリンクＡ１０Ｐ」、「フルオロリンクＡＤ１７００」、「フルオロリンクＭＤ７００」、及び、「フルオロリンクＥ１０Ｈ」等が挙げられる。
化合物（Ｇ）は、パーフルオロポリエーテル基及び加水分解可能な基を有する。
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ２、−ＮＲ２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
化合物（Ｇ）は、下記式：
−ＳｉＲ１ ｎ１Ｒ２ ３−ｎ１
（式中、Ｒ１は、加水分解可能な基を表し；
Ｒ２は、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
ｎ１は、１〜３の整数である。）
で表される基を有することが好ましい。
化合物（Ｇ）は、下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）：
Figure 2021138147
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ１は、（−ＳｉＲ１ ｎ１Ｒ２ ３−ｎ１）単位毎に独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのｎ１が、１〜３の整数であり；
Ｘ１は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１−ＳｉＲ７１ ｐ１Ｒ７２ ｑ１Ｒ７３ ｒ１を表し；
Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表し；
Ｒａ’は、Ｒａと同意義であり；
Ｒａ中、Ｚ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し；
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、少なくとも１つのｑ１が１〜３の整数であり；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し；
Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ１、ｌ１およびｍ１の和は３であり；
Ｘ９は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
δは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
δ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒｄは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ２−ＣＲ８１ ｐ２Ｒ８２ ｑ２Ｒ８３ ｒ２を表し；
Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ’を表し；
Ｒｄ’は、Ｒｄと同意義であり；
Ｒｄ中、Ｚ２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
Ｒ８２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ８５ ｎ２Ｒ８６ ３−ｎ２を表し；
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表し；
Ｒ８５は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し；
Ｒ８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ２は、（−Ｙ−ＳｉＲ８５ ｎ２Ｒ８６ ３−ｎ２）単位毎に独立して、１〜３の整数を表し；
ただし、式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、少なくとも１つのｎ２は１〜３の整数であり；
Ｒ８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｅは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ８５ ｎ２Ｒ８６ ３−ｎ２を表し；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ｄ１）および（Ｄ２）において、少なくとも１つのｑ２は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ２は２または３である。ただし、ｋ２、ｌ２およびｍ２の和は３である。］
のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が好ましい。
以下、上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物について説明する。
式（Ａ１）および（Ａ２）：
Figure 2021138147
上記式中、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−
で表されるポリエーテル鎖である。Ｘ１０としては、Ｆが好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、それぞれ、０〜２００の整数であることが好ましく、０〜１００の整数であることがより好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、合計で、１以上の整数であることが好ましく、５以上の整数であることがより好ましく、１０以上の整数であることが更に好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、合計で、２００以下の整数であることが好ましく、１００以下の整数であることがより好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、合計で、１０〜２００の整数であることが好ましく、１０〜１００の整数であることがより好ましい。各繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ６Ｆ１２）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ５Ｆ１０）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。また、−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖である。上記ポリエーテル鎖は、好ましくは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖または−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖であり、より好ましくは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖である。ｍ１４は、５〜２００の整数であることが好ましく、１０〜２００の整数であることがより好ましい。
別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−（式中、ｍ１３およびｍ１４は、それぞれ、０〜３０の整数であり、ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数である。ｍ１３〜ｍ１６は、合計で、５以上の整数である。各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖である。ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、５〜２００の整数であることが好ましく、１０〜２００の整数であることがより好ましい。ｍ１３〜ｍ１６は、合計で、１０以上の整数であることが好ましい。上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１３−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−であることが好ましい。一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−（式中、ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数である。各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖であってもよい。ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、５〜２００の整数であることが好ましく、１０〜２００の整数であることがより好ましい。
さらに別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（Ｒｍ１−Ｒｍ２）ｍ１７−で表される基である。式中、Ｒｍ１は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、好ましくはＯＣ２Ｆ４である。式中、Ｒｍ２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒｍ１は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、および−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−等が挙げられる。上記ｍ１７は、２以上の整数であり、好ましくは３以上の整数であり、より好ましくは５以上の整数であり、１００以下の整数であり、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ポリエーテル鎖は、好ましくは、−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ３Ｆ６）ｍ１７−または−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ４Ｆ８）ｍ１７−である。
上記式中、Ｒｆは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。
上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ−Ｃ１−１５フルオロアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である。
該炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
上記式中、Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表す。
上記式中、Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を表す。
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ２、−ＮＲ２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
上記式中、Ｒ１１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。
上記式中、Ｒ１２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
上記式中、ｎ１は、（−ＳｉＲ１ ｎ１Ｒ２ ３−ｎ１）単位毎に独立して、０〜３の整数であり、好ましくは１〜３であり、より好ましくは３である。ただし、式中、すべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式中、少なくとも１つはＲ１が存在する。
上記式中、Ｘ１は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（即ち、αを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
上記式中、αは１〜９の整数であり、α’は１〜９の整数である。これらαおよびα’は、Ｘ１の価数に応じて変化し得る。式（Ａ１）においては、αおよびα’の和は、Ｘ１の価数と同じである。例えば、Ｘ１が１０価の有機基である場合、αおよびα’の和は１０であり、例えばαが９かつα’が１、αが５かつα’が５、またはαが１かつα’が９となり得る。また、Ｘ１が２価の有機基である場合、αおよびα’は１である。式（Ａ２）においては、αはＸ１の価数から１を引いた値である。
上記Ｘ１は、好ましくは２〜７価であり、より好ましくは２〜４価であり、さらに好ましくは２価の有機基である。
一の態様において、Ｘ１は２〜４価の有機基であり、αは１〜３であり、α’は１である。
別の態様において、Ｘ１は２価の有機基であり、αは１であり、α’は１である。この場合、式（Ａ１）および（Ａ２）は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）で表される。
Figure 2021138147
上記Ｘ１の例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ３１）ｐ’−（Ｘａ）ｑ’−
［式中：
Ｒ３１は、単結合、−（ＣＨ２）ｓ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ２）ｓ’−であり、
ｓ’は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘａは、−（Ｘｂ）ｌ’−を表し、
Ｘｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、−ＣＯＮＲ３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−、−ＮＲ３４−および−（ＣＨ２）ｎ’−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ’は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ’は、０、１または２であり、
ｑ’は、０または１であり、
ここに、ｐ’およびｑ’の少なくとも一方は１であり、ｐ’またはｑ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の基が挙げられる。ここに、Ｒ３１およびＸａ（典型的にはＲ３１およびＸａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
好ましくは、上記Ｘ１は、−（Ｒ３１）ｐ’−（Ｘａ）ｑ’−Ｒ３２−である。Ｒ３２は、単結合、−（ＣＨ２）ｔ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ２）ｔ’−である。ｔ’は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、Ｒ３２（典型的にはＲ３２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｒ３１−Ｘｃ−Ｒ３２−、または
−Ｘｄ−Ｒ３２−
［式中、Ｒ３１およびＲ３２は、上記と同意義である。］
であり得る。
より好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−
−Ｘｄ−、または
−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−
［式中、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
である。
上記式中、Ｘｃは、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−、
−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ３３）２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ３３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ’−Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）ｕ’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）ｕ’−Ｎ（Ｒ３４）−、または
−ＣＯＮＲ３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ３３）２−
［式中、Ｒ３３、Ｒ３４およびｍ’は、上記と同意義であり、
ｕ’は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘｃは、好ましくは−Ｏ−である。
上記式中、Ｘｄは、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ３４−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）ｕ’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）ｕ’−Ｎ（Ｒ３４）−、または
−ＣＯＮＲ３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ３３）２−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。
より好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−、または
−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。
さらにより好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ’−、
−（ＣＨ２）ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣＨ２）ｔ’−、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣＨ２）ｔ’−、または
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２ −（ＣＨ２）ｕ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣｖＨ２ｖ）−
［式中、Ｒ３３、ｍ’、ｓ’、ｔ’およびｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。
上記式中、−（ＣｖＨ２ｖ）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−であり得る。
上記Ｘ１基は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
別の態様において、Ｘ１基としては、例えば下記の基が挙げられる：
Figure 2021138147
Figure 2021138147
［式中、Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および
Figure 2021138147
（式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６のアルキル基またはＣ１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ２）ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合し、Ｅは、ＰＦＰＥと反対の基に結合する。］
上記Ｘ１の具体的な例としては、例えば：
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＯＣＨ２−、
−Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＯＣＦＨＣＦ２−、
Figure 2021138147
 などが挙げられる。
さらに別の態様において、Ｘ１は、式：−（Ｒ１６）ｘ−（ＣＦＲ１７）ｙ−（ＣＨ２）ｚ−で表される基である。式中、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｘ、ｙおよびｚの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
上記式中、Ｒ１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ２６−（式中、Ｒ２６は、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｒ１６は、酸素原子または２価の極性基である。
上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ２７）−、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ２７−（これらの式中、Ｒ２７は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。
上記式中、Ｒ１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。
この態様において、Ｘ１は、好ましくは、式：−（Ｏ）ｘ−（ＣＦ２）ｙ−（ＣＨ２）ｚ−（式中、ｘ、ｙおよびｚは、上記と同意義であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である）で表される基である。
上記式：−（Ｏ）ｘ−（ＣＦ２）ｙ−（ＣＨ２）ｚ−で表される基としては、例えば、−（Ｏ）ｘ’−（ＣＨ２）ｚ”−Ｏ−［（ＣＨ２）ｚ’’’−Ｏ−］ｚ””、および−（Ｏ）ｘ’−（ＣＦ２）ｙ”−（ＣＨ２）ｚ”−Ｏ−［（ＣＨ２）ｚ’’’−Ｏ−］ｚ””（式中、ｘ’は０または１であり、ｙ”、ｚ”およびｚ’’’は、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、ｚ””は、０または１である）で表される基が挙げられる。なお、これらの基は左端がＰＦＰＥ側に結合する。
別の好ましい態様において、Ｘ１は、−Ｏ−ＣＦＲ１３−（ＣＦ２）ｅ−である。
上記Ｒ１３は、それぞれ独立して、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表す。低級フルオロアルキル基は、例えば炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。
上記ｅは、それぞれ独立して、０または１である。
一の具体例において、Ｒ１３はフッ素原子であり、ｅは１である。
さらに別の態様において、Ｘ１基の例として、下記の基が挙げられる：
Figure 2021138147
［式中、
Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
各Ｘ１基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合する以下の基：
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または
Figure 2021138147
［式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６のアルキル基またはＣ１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥと反対の基（即ち、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）においては炭素原子、また、下記する式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）においてはＳｉ原子）に結合する−（ＣＨ２）ｎ”−（ｎ”は２〜６の整数）であり、存在する場合、残りは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ１−６アルコキシ基またはラジカル捕捉基もしくは紫外線吸収基であり得る。
ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類の残基が挙げられる。
紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。
好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基または紫外線吸収基としては、
Figure 2021138147
 が挙げられる。
この態様において、Ｘ１は、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基であり得る。
上記式中、ｔは、それぞれ独立して、１〜１０の整数である。好ましい態様において、ｔは１〜６の整数である。別の好ましい態様において、ｔは２〜１０の整数であり、好ましくは２〜６の整数である。
上記式中、Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。Ｘ２は、好ましくは、炭素数１〜２０のアルキレン基であり、より好ましくは、−（ＣＨ２）ｕ−（式中、ｕは、０〜２の整数である）である。
好ましい式（Ａ１）および（Ａ２）で示される化合物は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）：
Figure 2021138147
［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ１は、１〜３の整数であり、好ましくは３であり；
Ｘ１は、−Ｏ−ＣＦＲ１３−（ＣＦ２）ｅ−であり；
Ｒ１３は、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり；
ｅは、０または１であり；
Ｘ２は、−（ＣＨ２）ｕ−であり；
ｕは、０〜２の整数であり（ｕが０の場合Ｘ２は単結合である）；
ｔは、１〜１０の整数である。］
で表される化合物である。
上記式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物は、例えば、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端にヨウ素を導入した後、−ＣＨ２ＣＲ１２（Ｘ２−ＳｉＲ１ ｎ１Ｒ２ ３−ｎ１）−に対応するビニルモノマーを反応させることにより得ることができる。
式（Ｂ１）および（Ｂ２）：
Figure 2021138147
上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｒ１、Ｒ２およびｎ１は、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。
上記式中、Ｘ５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ５は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲ１ ｎ１Ｒ２ ３−ｎ１）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ５は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
上記式中のβは、１〜９の整数であり、β’は、１〜９の整数である。これらβおよびβ’は、Ｘ３の価数に応じて決定され、式（Ｂ１）において、βおよびβ’の和は、Ｘ５の価数と同じである。例えば、Ｘ５が１０価の有機基である場合、βおよびβ’の和は１０であり、例えばβが９かつβ’が１、βが５かつβ’が５、またはβが１かつβ’が９となり得る。また、Ｘ５が２価の有機基である場合、βおよびβ’は１である。式（Ｂ２）において、βはＸ５の価数の値から１を引いた値である。
上記Ｘ５は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。
一の態様において、Ｘ５は２〜４価の有機基であり、βは１〜３であり、β’は１である。
別の態様において、Ｘ５は２価の有機基であり、βは１であり、β’は１である。この場合、式（Ｂ１）および（Ｂ２）は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）で表される。
Figure 2021138147
上記Ｘ５の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。
中でも、好ましい具体的なＸ５は、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＯＣＨ２−、
−Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＯＣＦＨＣＦ２−、
Figure 2021138147
 などが挙げられる。
好ましい式（Ｂ１）および（Ｂ２）で示される化合物は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）：
Figure 2021138147
［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
ｎ１は、１〜３の整数であり、好ましくは３であり；
Ｘ５は、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−または−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−である］
で表される化合物である。
上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物は、公知の方法、例えば特許文献１に記載の方法またはその改良方法により製造することができる。例えば、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物は、下記式（Ｂ１−４）または（Ｂ２−４）：
Figure 2021138147
［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘ５’は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ９２は、単結合または２価の有機基である。］
で表される化合物を、ＨＳｉＭ３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、Ｒ１またはＲ２であり、Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基であり、Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基である）と反応させて、必要に応じて、上記ハロゲン原子を、Ｒ１またはＲ２に変換して、式（Ｂ１”）または（Ｂ２”）：
Figure 2021138147
［式中、ＰＦＰＥ、Ｒｆ、Ｘ５’、β、β’およびＲ９２は、上記と同意義であり；
ｎ１は、０〜３の整数である。］
で表される化合物として得ることができる。
式（Ｂ１”）または（Ｂ２”）において、Ｘ５’からＲ９２−ＣＨ２ＣＨ２−までの部分が、式（Ｂ１）または（Ｂ２）におけるＸ５に対応する。
式（Ｃ１）および（Ｃ２）：
Figure 2021138147
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）中、ＲｆおよびＰＦＰＥは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。
上記式中、Ｘ７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ７は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲａ ｋ１Ｒｂ ｌ１Ｒｃ ｍ１基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ７は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
上記式中のγは、１〜９の整数であり、γ’は、１〜９の整数である。これらγおよびγ’は、Ｘ７の価数に応じて決定され、式（Ｃ１）において、γおよびγ’の和は、Ｘ７の価数と同じである。例えば、Ｘ７が１０価の有機基である場合、γおよびγ’の和は１０であり、例えばγが９かつγ’が１、γが５かつγ’が５、またはγが１かつγ’が９となり得る。また、Ｘ７が２価の有機基である場合、γおよびγ’は１である。式（Ｃ１）において、γはＸ７の価数の値から１を引いた値である。
上記Ｘ７は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。
一の態様において、Ｘ７は２〜４価の有機基であり、γは１〜３であり、γ’は１である。
別の態様において、Ｘ７は２価の有機基であり、γは１であり、γ’は１である。この場合、式（Ｃ１）および（Ｃ２）は、下記式（Ｃ１’）および（Ｃ２’）で表される。
Figure 2021138147
上記Ｘ７の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。
中でも、好ましい具体的なＸ７は、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＯＣＨ２−、
−Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＯＣＦＨＣＦ２−、
Figure 2021138147
 などが挙げられる。
上記式中、Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１−ＳｉＲ７１ ｐ１Ｒ７２ ｑ１Ｒ７３ ｒ１を表す。
式中、Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。
上記Ｚ１は、好ましくは、２価の有機基であり、式（Ｃ１）または式（Ｃ２）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒａが結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。
上記Ｚ１は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｇ−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ−（式中、ｇは、１〜６の整数であり、ｈは、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
式中、Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表す。Ｒａ’は、Ｒａと同意義である。
Ｒａ中、Ｚ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒａにおいて、Ｒ７１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒａ中にＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒａ中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒａ中において直鎖状に連結される−Ｚ１−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。
例えば、下記にＲａ中においてＺ１基（下記では単に「Ｚ」と示す）を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。
Figure 2021138147
上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒａ中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ３、Ｓｉ４およびＳｉ５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒａ中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒａ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。
好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒａ中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
Figure 2021138147
一の態様において、Ｒａ中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
式中、Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表す。
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、−Ｎ（Ｒ）２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
好ましくは、Ｒ７２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
式中、Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
式中、ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｐ１、ｑ１およびｒ１の和は３である。
好ましい態様において、Ｒａ中の末端のＲａ’（Ｒａ’が存在しない場合、Ｒａ）において、上記ｑ１は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。
好ましい態様において、Ｒａの末端部の少なくとも１つは、−Ｓｉ（−Ｚ１−ＳｉＲ７２ ｑＲ７３ ｒ）２または−Ｓｉ（−Ｚ１−ＳｉＲ７２ ｑＲ７３ ｒ）３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ１−ＳｉＲ７２ ｑＲ７３ ｒ）３であり得る。式中、（−Ｚ１−ＳｉＲ７２ ｑＲ７３ ｒ）の単位は、好ましくは（−Ｚ１−ＳｉＲ７２ ３）である。さらに好ましい態様において、Ｒａの末端部は、すべて−Ｓｉ（−Ｚ１−ＳｉＲ７２ ｑＲ７３ ｒ）３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ１−ＳｉＲ７２ ３）３であり得る。
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）においては、少なくとも１つのＲ７２が存在する。
上記式中、Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表す。
上記Ｒｂは、好ましくは、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、−Ｎ（Ｒ）２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）であり、好ましくは−ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。より好ましくは、Ｒｂは、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
上記式中、Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
式中、ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数である。ただし、ｋ１、ｌ１およびｍ１の和は、３である。
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物は、例えば、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端に水酸基を導入した後、末端に不飽和結合を有する基を導入し、この不飽和結合を有する基とハロゲン原子を有するシリル誘導体とを反応させ、さらにこのシリル基に末端に水酸基を導入し、導入した不飽和結合を有する基とシリル誘導体とを反応させることにより得ることができる。例えば、以下のようにして得ることができる。
好ましい式（Ｃ１）および（Ｃ２）で示される化合物は、下記式（Ｃ１”）および（Ｃ２”）：
Figure 2021138147
［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘ７は、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−または−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−を表し；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１−ＳｉＲ７１ ｐ１Ｒ７２ ｑ１Ｒ７３ ｒ１を表し；
Ｚ１は、Ｃ１−６アルキレン基を表し；
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表し；
Ｒａ’は、Ｒａと同意義であり；
Ｒａ中、Ｚ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し；
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数、好ましくは３であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、一のＲａにおいて、ｐ１、ｑ１およびｒ１の和は３である。］
で表される化合物である。
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物は、例えば以下のようにして製造することができる。下記式（Ｃ１−４）または（Ｃ２−４）：
Figure 2021138147
［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘ７’は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ９２は、単結合または２価の有機基である。］
で表される化合物を、ＨＳｉＲ９３ ｋ１Ｒｂ ｌ１Ｒｃ ｍ１（式中、Ｒ９３はハロゲン原子、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子、好ましくは塩素原子であり、Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し、Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し、ｋ１は１〜３の整数であり、ｌ１およびｍ１は、それぞれ独立して、０〜２の整数であり、ｋ１、ｌ１およびｍ１の和は３である。）で表される化合物と反応させて、式（Ｃ１−５）または（Ｃ２−５）：
Figure 2021138147
 ［式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒｂ、Ｒｃ、γ、γ’、Ｘ７’、ｋ１、ｌ１およびｍ１は、上記と同意義である。］
で表される化合物を得る。
得られた式（Ｃ１−５）または（Ｃ２−５）で表される化合物を、Ｈａｌ−Ｊ−Ｒ９４−ＣＨ＝ＣＨ２（式中、Ｈａｌはハロゲン原子（例えば、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ等）を表し、Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し、Ｒ９４は単結合または２価の有機基を表す。）で表される化合物と反応させて、式（Ｃ１−６）または（Ｃ２−６）：
Figure 2021138147
 ［式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｒ９２、Ｒ９４、Ｒｂ、Ｒｃ、γ、γ’、Ｘ７’、ｋ１、ｌ１およびｍ１は、上記と同意義である。］
で表される化合物を得る。
得られた式（Ｃ１−６）または（Ｃ２−６）で表される化合物を、ＨＳｉＭ３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、Ｒ７２またはＲ７３であり、Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し、Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。）と反応させて、必要に応じて、上記ハロゲン原子を、Ｒ７２またはＲ７３に変換して、式（Ｃ１’’’）または（Ｃ２’’’）：
Figure 2021138147
［式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ９２、Ｒ９４、Ｒｂ、Ｒｃ、γ、γ’、Ｘ７’、ｋ１、ｌ１およびｍ１は、上記と同意義であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数である。］
で表される化合物を得ることができる。
式（Ｃ１’’’）または（Ｃ２’’’）において、Ｘ７’からＲ９２−ＣＨ２ＣＨ２−までの部分が、式（Ｃ１）または（Ｃ２）におけるＸ７に対応し、−Ｒ９４−ＣＨ２ＣＨ２−が式（Ｃ１）または（Ｃ２）におけるＺに対応する。
式（Ｄ１）および（Ｄ２）：
Figure 2021138147
上記式（Ｄ１）および（Ｄ２）中、ＲｆおよびＰＦＰＥは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。
上記式中、Ｘ９は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ９は、式（Ｄ１）および（Ｄ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供する部（即ち、δを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ９は、式（Ｄ１）および（Ｄ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
上記式中、δは１〜９の整数であり、δ’は１〜９の整数である。これらδおよびδ’は、Ｘ９の価数に応じて変化し得る。式（Ｄ１）においては、δおよびδ’の和は、Ｘ９の価数と同じである。例えば、Ｘ９が１０価の有機基である場合、δおよびδ’の和は１０であり、例えばδが９かつδ’が１、δが５かつδ’が５、またはδが１かつδ’が９となり得る。また、Ｘ９が２価の有機基である場合、δおよびδ’は１である。式（Ｄ２）においては、δはＸ９の価数から１を引いた値である。
上記Ｘ９は、好ましくは２〜７価であり、より好ましくは２〜４価であり、さらに好ましくは２価の有機基である。
一の態様において、Ｘ９は２〜４価の有機基であり、δは１〜３であり、δ’は１である。
別の態様において、Ｘ９は２価の有機基であり、δは１であり、δ’は１である。この場合、式（Ｄ１）および（Ｄ２）は、下記式（Ｄ１’）および（Ｄ２’）で表される。
Figure 2021138147
上記Ｘ９の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。
中でも、好ましい具体的なＸ９は、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＯＣＨ２−、
−Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＯＣＦＨＣＦ２−、
Figure 2021138147
 などが挙げられる。
上記式中、Ｒｄは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ２−ＣＲ８１ ｐ２Ｒ８２ ｑ２Ｒ８３ ｒ２を表す。
式中、Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。
上記Ｚ２は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｇ−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ−（式中、ｇは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
式中、Ｒ８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ’を表す。Ｒｄ’は、Ｒｄと同意義である。
Ｒｄ中、Ｚ２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。即ち、上記Ｒｄにおいて、Ｒ８１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒｄ中にＺ２基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒｄ中のＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」とは、Ｒｄ中において直鎖状に連結される−Ｚ２−Ｃ−の繰り返し数と等しくなる。これは、式（Ｃ１）および（Ｃ２）におけるＲａに関する記載と同様である。
好ましい態様において、「Ｒｄ中のＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
一の態様において、Ｒｄ中のＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
式中、Ｒ８２は、−Ｙ−ＳｉＲ８５ ｎ２Ｒ８６ ３−ｎ２を表す。
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表す。
好ましい態様において、Ｙは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｇ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ’−（式中、ｇ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）、または−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ’−（式中、ｉ’は、０〜６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
一の態様において、Ｙは、Ｃ１−６アルキレン基、−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ’−または−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ’−であり得る。Ｙが上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
上記Ｒ８５は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表す。
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、−Ｎ（Ｒ）２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
好ましくは、Ｒ８５は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはエチル基またはメチル基、特にメチル基を表す）である。
上記Ｒ８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
ｎ２は、（−Ｙ−ＳｉＲ８５ ｎ２Ｒ８６ ３−ｎ２）単位毎に独立して、１〜３の整数を表し、好ましくは２または３、より好ましくは３である。
上記Ｒ８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
式中、ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｐ２、ｑ２およびｒ２の和は３である。
好ましい態様において、Ｒｄ中の末端のＲｄ’（Ｒｄ’が存在しない場合、Ｒｄ）において、上記ｑ２は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。
好ましい態様において、Ｒｄの末端部の少なくとも１つは、−Ｃ（−Ｙ−ＳｉＲ８５ ｑ２Ｒ８６ ｒ２）２または−Ｃ（−Ｙ−ＳｉＲ８５ ｑ２Ｒ８６ ｒ２）３、好ましくは−Ｃ（−Ｙ−ＳｉＲ８５ ｑ２Ｒ８６ ｒ２）３であり得る。式中、（−Ｙ−ＳｉＲ８５ ｑ２Ｒ８６ ｒ２）の単位は、好ましくは（−Ｙ−ＳｉＲ８５ ３）である。さらに好ましい態様において、Ｒｄの末端部は、すべて−Ｃ（−Ｙ−ＳｉＲ８５ ｑ２Ｒ８６ ｒ２）３、好ましくは−Ｃ（−Ｙ−ＳｉＲ８５ ３）３であり得る。
上記式中、Ｒｅは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ８５ ｎ２Ｒ８６ ３−ｎ２を表す。ここに、Ｙ、Ｒ８５、Ｒ８６およびｎ２は、上記Ｒ８２における記載と同意義である。
上記式中、Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
式中、ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｋ２、ｌ２およびｍ２の和は３である。
一の態様において、少なくとも１つのｋ２は２または３であり、好ましくは３である。
一の態様において、ｋ２は２または３であり、好ましくは３である。
一の態様において、ｌ２は２または３であり、好ましくは３である。
上記式（Ｄ１）および（Ｄ２）中、少なくとも１つのｑ２は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ２は２または３である。即ち、式中、少なくとも２つの−Ｙ−ＳｉＲ８５ ｎ２Ｒ８６ ３−ｎ２基が存在する。
式（Ｄ１）または式（Ｄ２）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、公知の方法を組み合わせることにより製造することができる。例えば、Ｘが２価である式（Ｄ１’）で表される化合物は、限定するものではないが、以下のようにして製造することができる。
ＨＯ−Ｘ−Ｃ（ＹＯＨ）３（式中、ＸおよびＹは、それぞれ独立して、２価の有機基である。）で表される多価アルコールに、二重結合を含有する基（好ましくはアリル）、およびハロゲン（好ましくはブロモ）を導入して、Ｈａｌ−Ｘ−Ｃ（Ｙ−Ｏ−Ｒ−ＣＨ＝ＣＨ２）３（式中、Ｈａｌはハロゲン、例えばＢｒであり、Ｒは二価の有機基、例えばアルキレン基である。）で表される二重結合含有ハロゲン化物を得る。次いで、末端のハロゲンと、ＲＰＦＰＥ−ＯＨ（式中、ＲＰＦＰＥは、パーフルオロポリエーテル基含有基である。）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アルコールとを反応させて、ＲＰＦＰＥ−Ｏ−Ｘ−Ｃ（Ｙ−Ｏ−Ｒ−ＣＨ＝ＣＨ２）３を得る。次いで、末端の−ＣＨ＝ＣＨ２と、ＨＳｉＣｌ３およびアルコールまたはＨＳｉＲ８５ ３と反応させて、ＲＰＦＰＥ−Ｏ−Ｘ−Ｃ（Ｙ−Ｏ−Ｒ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＳｉＲ８５ ３）３を得ることができる。
上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０２〜１×１０５の数平均分子量を有し得る。上記数平均分子量は、好ましくは２，０００〜３０，０００、より好ましくは３，０００〜１０，０００、さらに好ましくは３，０００〜８，０００であり得る。
上記数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）分析により測定する。
上記パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物におけるＰＦＰＥ部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，５００〜１０，０００、さらに好ましくは３，０００〜８，０００であり得る。
化合物（Ｈ）は、式：Ｒ１１１−ＰＦＰＥ−Ｒ１１３
（式中、ＰＦＰＥはパーフルオロポリエーテル基、Ｒ１１１及びＲ１１３は、独立に、Ｆ、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のフッ素化アルキル基、炭素数１〜１６のフッ素化アルコキシ基、−Ｒ１１４−Ｘ１１１（Ｒ１１４は単結合又は二価の有機基、Ｘ１１１は−ＮＨ２、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、ハロゲン、リン酸、リン酸エステル、カルボン酸エステル、チオール、チオエーテル、アルキルエーテル（フッ素で置換されていてもよい）、アリール、アリールエーテル又はアミド））で表される。
Ｘ１１１としては、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、チオール（−ＳＨ）、−ＣＨ＝ＣＨ２及び−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。上記二価の有機基としては、アルキレン基、フッ素化アルキレン基、又は、それらの末端に酸素原子が結合した基等が挙げられる。上記二価の有機基の炭素数は特に限定されないが、例えば、１〜１６であってよい。
Ｒ１１１及びＲ１１３としては、独立に、Ｆ、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のフッ素化アルキル基又は−Ｒ１１４−Ｘ１１１（Ｒ１１４及びＸ１１１は上述のとおり）が好ましく、Ｆ、炭素数１〜３の完全フッ素化アルキル基又は−Ｒ１１４−Ｘ１１１（Ｒ１１４及びＸ１１１は上述のとおり）がより好ましい。
ｍとしては、３００以下の整数が好ましく、１００以下の整数がより好ましい。
ＰＦＰＥとしては、例えば、
式：−（ＣＸ１１２ ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１１１（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｎ１１２（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１１３（ＣＦ２Ｏ）ｎ１１４（Ｃ４Ｆ８Ｏ）ｎ１１５−
（ｎ１１１、ｎ１１２、ｎ１１３、ｎ１１４及びｎ１１５は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１１２はＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表されるもの、
式：−（ＯＣ２Ｆ４−Ｒ１１８）ｆ−
（Ｒ１１８は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であり、ｆは、２〜１００の整数である）で表されるもの
等が挙げられる。
ｎ１１１〜ｎ１１５は、それぞれ、０〜２００の整数であることが好ましい。ｎ１１１〜ｎ１１５は、合計で、１以上であることが好ましく、５〜３００であることがより好ましく、１０〜２００であることが更に好ましく、１０〜１００であることが特に好ましい。
Ｒ１１８は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、および−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−等が挙げられる。上記ｆは、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、式：−（ＯＣ２Ｆ４−Ｒ１１８）ｆ−は、好ましくは、式：−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ３Ｆ６）ｆ−または式：−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ４Ｆ８）ｆ−である。
化合物（Ｈ）は、重量平均分子量が５００〜１０００００であることが好ましく、５００００以下がより好ましく、１００００以下が更に好ましく、６０００以下が特に好ましい。上記重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、測定することができる。
市販されている化合物（Ｈ）としては、商品名デムナム（ダイキン工業社製）、フォンブリン（ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン社製）、バリエルタ（ＮＯＫクリューバー社製）、クライトックス（デュポン社製）などが挙げられる。
層（Ａ）は、樹脂を含む。上記樹脂は、上記機能性膜に機能を付与するための主材としての樹脂であり、上記樹脂の種類によって、上記機能性膜の機能が決まる。
上記樹脂としては、硬化性樹脂を硬化させることにより得られる樹脂、硬化性モノマーを硬化させることにより得られる樹脂、及び、含ケイ素化合物を用いて形成されたポリシロキサン構造を含む樹脂からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
上記硬化性樹脂は、フッ素原子を含有しないことが好ましい。上記硬化性モノマーは、フッ素原子を含有しないことが好ましい。
上記硬化性樹脂は、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれであってもよく、耐熱性、強度を有する樹脂であれば特に制限されないが、光硬化性樹脂が好ましく、紫外線硬化性樹脂がより好ましい。
上記硬化性樹脂としては、例えば、アクリル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、ポリアミド系ポリマー、ポリイミド系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、環状ポリオレフィン系ポリマー、含フッ素ポリオレフィン系ポリマー（ＰＴＦＥ等）、含フッ素環状非結晶性ポリマー（サイトップ（登録商標）、テフロン（登録商標）ＡＦ等）などが挙げられる。工程（２）を実施した後に紫外線硬化等の操作を行う場合には、透明性を有する樹脂が好ましい。
上記硬化性樹脂又は上記硬化性樹脂を構成するモノマーとして具体的には、例えば、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、酢酸ビニル、ビニルピバレート、各種（メタ）アクリレート類：フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロール、プロパントリアクリレート、ペンタアエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、エトキシエチルアクリレート、メトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、テトラヒドロフルフリールアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリオキシエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、ジメチルアミノエチルメタクリレートシリコン系のアクリレート、無水マレイン酸、ビニレンカーボネート、鎖状側鎖ポリアクリレート、環状側鎖ポリアクリレートポリノルボルネン、ポリノルボルナジエン、ポリカーボネート、ポリスルホン酸アミド、含フッ素環状非結晶性ポリマー（サイトップ（登録商標）、テフロン（登録商標）ＡＦ等）等が挙げられる。
上記硬化性モノマーは、光硬化性モノマー、熱硬化性モノマーのいずれであってもよいが、紫外線硬化性モノマーが好ましい。
上記硬化性モノマーとしては、例えば、（ａ）ウレタン（メタ）アクリレート、（ｂ）エポキシ（メタ）アクリレート、（ｃ）ポリエステル（メタ）アクリレート、（ｄ）ポリエーテル（メタ）アクリレート、（ｅ）シリコン（メタ）アクリレート、（ｆ）（メタ）アクリレートモノマーなどが挙げられる。
上記硬化性モノマーとして具体的には、以下の例が挙げられる。
（ａ）ウレタン（メタ）アクリレートとしては、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代表されるポリ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕イソシアヌレートが挙げられる。
（ｂ）エポキシ（メタ）アクリレートはエポキシ基に（メタ）アクリロイル基を付加したものであり、出発原料としてビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、フェノールノボラック、脂環化合物を用いたものが一般的である。
（ｃ）ポリエステル（メタ）アクリレートのポリエステル部を構成する多価アルコールとしては、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどが挙げられ、多塩基酸としては、フタル酸、アジピン酸、マレイン酸、トリメリット酸、イタコン酸、コハク酸、テレフタル酸、アルケニルコハク酸などが挙げられる。
（ｄ）ポリエーテル（メタ）アクリレートとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
（ｅ）シリコン（メタ）アクリレートは、分子量１，０００〜１０，０００のジメチルポリシロキサンの片末端、あるいは、両末端を（メタ）アクリロイル基で変性したものであり、例えば、以下の化合物などが例示される。
Figure 2021138147
（ｆ）（メタ）アクリレートモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、３−メチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチル−ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（１，１−ジメチル−３−オキソブチル）（メタ）アクリルレート、２−アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどが例示される。
上記硬化性樹脂及び硬化性モノマーの内、市場から入手可能で好ましいものとしては以下のものが挙げられる。
上記硬化性樹脂としては、シリコン樹脂類、ＰＡＫ−０１、ＰＡＫ−０２（東洋合成化学社製）、ナノインプリント樹脂ＮＩＦシリーズ（旭硝子社製）、ナノインプリント樹脂ＯＣＮＬシリーズ（東京応化工業社製）、ＮＩＡＣ２３１０（ダイセル化学工業社製）、エポキシアクリレート樹脂類ＥＨ−１００１、ＥＳ−４００４、ＥＸ−Ｃ１０１、ＥＸ−Ｃ１０６、ＥＸ−Ｃ３００、ＥＸ−Ｃ５０１、ＥＸ−０２０２、ＥＸ−０２０５、ＥＸ−５０００など（共栄社化学社製）、ヘキサメチレンジイソシアネート系ポリイソシアネート類、スミジュールＮ−７５、スミジュールＮ３２００、スミジュールＨＴ、スミジュールＮ３３００、スミジュールＮ３５００（住友バイエルンウレタン社製）などが挙げられる。
上記硬化性モノマーの内、シリコンアクリレート系樹脂類としては、サイラプレーンＦＭ−０６１１、サイラプレーンＦＭ−０６２１、サイラプレーンＦＭ−０６２５、両末端型（メタ）アクリル系のサイラプレーンＦＭ−７７１１、サイラプレーンＦＭ−７７２１及びサイラプレーンＦＭ−７７２５等、サイラプレーンＦＭ−０４１１、サイラプレーンＦＭ−０４２１、サイラプレーンＦＭ−０４２８、サイラプレーンＦＭ−ＤＡ１１、サイラプレーンＦＭ−ＤＡ２１、サイラプレーン−ＤＡ２５、片末端型（メタ）アクリル系のサイラプレーンＦＭ−０７１１、サイラプレーンＦＭ−０７２１、サイラプレーンＦＭ−０７２５、サイラプレーンＴＭ−０７０１及びサイラプレーンＴＭ−０７０１Ｔ（ＪＣＮ社製）等が挙げられる。
多官能アクリレート類としては、Ａ−９３００、Ａ−９３００−１ＣＬ、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭＴ（新中村工業社製）等が挙げられる。
多官能メタクリレート類としてＴＭＰＴ（新中村工業社製）等が挙げられる。
アルコキシシラン基含有（メタ）アクリレートとしては、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリクロロシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリイソプロポキシシラン（別名（トリイソプロポキシシリル）プロピルメタクリレート（略称：ＴＩＳＭＡ）および（トリイソプロポキシシリル）プロピルアクリレート）、３−（メタ）アクリルオキシイソブチルトリクロロシラン、３−（メタ）アクリルオキシイソブチルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシイソブチルトリイソプロポキ３−（メタ）アクリルオキシイソブチルトリメトキシシランシシラン等が挙げられる。
上述したとおり、本発明の機能性膜では、層（Ａ）に含まれる樹脂が機能性膜に機能を付与するための主材としての樹脂である。本発明の機能性膜は上述した構成を備えることから、層（Ａ）に含まれる樹脂が本来有する特性が充分に発揮される。上記特性とは、透明性、低散乱性、低反射性、耐擦傷性、可撓性等が挙げられ、なかでも、透明性、耐擦傷性であることが好ましい。これらの特性を有する樹脂としては、アクリル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリイミド系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、環状ポリオレフィン系ポリマー等の樹脂を硬化させることにより得られる樹脂、多官能（メタ）アクリレート類、シリコン（メタ）アクリレート類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類等の硬化性モノマーを硬化させることにより得られる樹脂等が挙げられる。
上記樹脂は、硬化性樹脂及び架橋触媒を含む組成物を硬化させることにより得られる樹脂、並びに、硬化性モノマー及び架橋触媒を含む組成物を硬化させることにより得られる樹脂からなる群より選択される少なくとも１種であってもよい。
上記架橋触媒としては、ラジカル重合開始剤、酸発生剤等が例示される。
上記ラジカル重合開始剤は、熱や光によりラジカルを発生する化合物であり、ラジカル熱重合開始剤、ラジカル光重合開始剤が挙げられる。本発明においては、上記ラジカル光重合開始剤が好ましい。
上記ラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド類、ジクミルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド等のジアルキルパーオキシド類、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート等のパーオキシカーボネート類、ｔ−ブチルパーオキシオクトエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等のアルキルパーエステル類等のパーオキシド化合物、並びに、アゾビスイソブチロニトリルのようなラジカル発生性アゾ化合物等が挙げられる。
上記ラジカル光重合開始剤としては、例えば、ベンジル、ジアセチル等の−ジケトン類、ベンゾイン等のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、チオキサントン−４−スルホン酸等のチオキサントン類、ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、アセトフェノン、２−（４−トルエンスルホニルオキシ）−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン類、アントラキノン、１，４−ナフトキノン等のキノン類、２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル等のアミノ安息香酸類、フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン等のハロゲン化合物、アシルホスフィンオキシド類、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。
上記ラジカル光重合開始剤の市販品としては、以下のものが例示される。
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１：２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ２９５９：１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ １２７：２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７：２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９：２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ７８４：ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０２：エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ２６１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ５００、
ＤＡＲＯＣＵＲ １１７３：２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、
ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、
ＤＡＲＯＣＵＲ１１１６、ＤＡＲＯＣＵＲ２９５９、ＤＡＲＯＣＵＲ１６６４、ＤＡＲＯＣＵＲ４０４３、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ７５４ オキシフェニル酢酸：２−［２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステルとオキシフェニル酢酸、２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステルの混合物、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ５００：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４とベンゾフェノンとの混合物（１：１）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ １３００：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９とＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１との混合物（３：７）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８００：ＣＧＩ４０３とＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４との混合物（１：３）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８７０：ＣＧＩ４０３とＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４との混合物（７：３）、
ＤＡＲＯＣＵＲ ４２６５：ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯとＤＡＲＯＣＵＲ １１７３との混合物（１：１）。
なお、ＩＲＧＡＣＵＲＥはチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製であり、ＤＡＲＯＣＵＲはメルクジャパン社製である。
また、上記架橋触媒としてラジカル光重合開始剤を用いる場合には、増感剤として、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどを併用することもでき、重合促進剤として、ＤＡＲＯＣＵＲ ＥＤＢ（エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート）、ＤＡＲＯＣＵＲ ＥＨＡ（２−エチルヘキシル−４−ジメチルアミノベンゾエート）などを併用しても良い。
上記増感剤を用いる場合の増感剤の配合量としては、上記硬化性樹脂若しくは上記硬化性モノマー１００質量部に対して、０．１〜５質量部であることが好ましい。より好ましくは、０．１〜２質量部である。
また、上記重合促進剤を用いる場合の重合促進剤の配合量としては、上記硬化性樹脂若しくは上記硬化性モノマー１００質量部に対して、０．１〜５質量部であることが好ましい。より好ましくは、０．１〜２質量部である。
上記酸発生剤は、熱や光を加えることによって酸を発生する材料であり、熱酸発生剤、光酸発生剤が挙げられる。本発明においては、光酸発生剤が好ましい。
上記熱酸発生剤としては、例えば、ベンゾイントシレート、ニトロベンジルトシレート（特に、４−ニトロベンジルトシレート）、他の有機スルホン酸のアルキルエステル等が挙げられる。
上記光酸発生剤は、光を吸収する発色団と分解後に酸となる酸前駆体とにより構成されており、このような構造の光酸発生剤に特定波長の光を照射することで、光酸発生剤が励起し酸前駆体部分から酸が発生する。
上記光酸発生剤としては、例えば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ＣＦ３ＳＯ３、ｐ−ＣＨ３ＰｈＳＯ３、ｐ−ＮＯ２ＰｈＳＯ３（ただし、Ｐｈはフェニル基）等の塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスルホニルクロリド、またはスルホン酸エステル等が挙げられる。その他、光酸発生剤として、２−ハロメチル−５−ビニル−１，３，４−オキサジアゾール化合物、２−トリハロメチル−５−アリール−１，３，４−オキサジアゾール化合物、２−トリハロメチル−５−ヒドロキシフェニル−１，３，４−オキサジアゾール化合物なども挙げられる。
なお、上記有機ハロゲン化合物は、ハロゲン化水素酸（例えば、塩化水素）を形成する化合物である。
上記光酸発生剤の市販品として以下のものが例示される。
和光純薬工業社製のＷＰＡＧ−１４５［ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン］、ＷＰＡＧ−１７０［ビス（ｔ−ブチルスルホニル）ジアゾメタン］、ＷＰＡＧ−１９９［ビス（ｐ−トルエンスルホニル）ジアゾメタン］、ＷＰＡＧ−２８１［トリフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホネート］、ＷＰＡＧ−３３６［ジフェニル−４−メチルフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホネート］、ＷＰＡＧ−３６７［ジフェニル−２，４，６−トリメチルフェニルスルホニウム ｐ−トルエンスルホネート］、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ１０３［（５−プロピルスルホニルオキシミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル］、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ１０８［（５−オクチルスルホニルオキシミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル）］、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ１２１［（５−ｐ−トルエンスルホニルオキシミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル］、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ２０３、ＣＧＩ７２５、三和ケミカル社製のＴＦＥ−トリアジン［２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン］、ＴＭＥ−トリアジン［２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリ−クロロメチル）−ｓ−トリアジン］ＭＰ−トリアジン［２−（メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン］、ジメトキシ［２−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリ−クロロメチル）−ｓ−トリアジン］。
上記架橋触媒の配合量としては、上記硬化性樹脂若しくは上記硬化性モノマー１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。このような範囲であると、充分な硬化体が得られる。上記架橋触媒の配合量としてより好ましくは、０．３〜５質量部であり、更に好ましくは、０．５〜２質量部である。
また、上記架橋触媒として上記酸発生剤を用いる場合には、必要に応じて酸捕捉剤を添加することにより、上記酸発生剤から発生する酸の拡散を制御してもよい。
上記酸捕捉剤としては、特に制限されないが、アミン（特に、有機アミン）、塩基性のアンモニウム塩、塩基性のスルホニウム塩などの塩基性化合物が好ましい。これらの酸捕捉剤の中でも、有機アミンが、画像性能が優れる点でより好ましい。
上記酸捕捉剤としては、具体的には、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、１−ナフチルアミン、ピペリジン、ヘキサメチレンテトラミン、イミダゾール類、ヒドロキシピリジン類、ピリジン類、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、ピリジニウムｐ−トルエンスルホナート、２，４，６−トリメチルピリジニウムｐ−トルエンスルホナート、テトラメチルアンモニウムｐ−トルエンスルホナート、及びテトラブチルアンモニウムラクテート、トリエチルアミン、トリブチルアミン等が挙げられる。これらの中でも、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、１−ナフチルアミン、ピペリジン、ヘキサメチレンテトラミン、イミダゾール類、ヒドロキシピリジン類、ピリジン類、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、トリエチルアミン、トリブチルアミン等の有機アミンが好ましい。
上記酸捕捉剤の配合量は、上記酸発生剤１００質量部に対して、２０質量部以下であることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量部であり、更に好ましくは０．５〜５質量部である。
上記含ケイ素化合物としては、反応により、好ましくはゾル−ゲル反応により、ポリシロキサン構造を形成することができる含ケイ素化合物が好ましい。
一の態様において、上記含ケイ素化合物は、炭素とケイ素を含む有機ケイ素化合物であり得る。
上記有機ケイ素化合物としては、Ｓｉ−Ｈ結合を有するＳｉ−Ｈ化合物；アミノシラン化合物、シラザン、シリルアセトアミド、シリルイミダゾール等のＳｉ−Ｎ結合を有するＳｉ−Ｎ化合物；モノアルコキシシラン、ジアルコキシシラン、トリアルコキシシラン、テトラアルコキシシラン、シロキサン、シリルエステル、シラノール等のＳｉ−Ｏ結合を有するＳｉ−Ｏ化合物；モノクロロシラン、ジクロロシラン、トリクロロシラン、テトラクロロシラン等のＳｉ−Ｃｌ結合を有するＳｉ−Ｃｌ化合物等のハロゲノシラン、Ｓｉ−（Ｃ）４化合物、Ｓｉ−Ｓｉ結合を有するＳｉ−Ｓｉ化合物、ビニルシラン、アリルシラン、エチニルシラン等が挙げられる。すなわち、有機ケイ素化合物は、Ｓｉ−Ｈ化合物、Ｓｉ−Ｎ化合物、ハロゲノシラン、Ｓｉ−（Ｃ）４化合物、Ｓｉ−Ｓｉ化合物、ビニルシラン、アリルシラン、およびエチニルシランからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましい。上記有機ケイ素化合物としては、Ｓｉに、水素、酸素およびハロゲンからなる群より選択される少なくとも１種の原子が結合した化合物がより好ましい。
以下に、上記有機ケイ素化合物の具体例を示す。
〔Ｓｉ−Ｈ化合物〕
Figure 2021138147
Figure 2021138147
〔Ｓｉ−Ｎ化合物〕
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
〔Ｓｉ−Ｏ化合物〕
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
〔ハロゲノシラン〕
Ｓｉ−Ｃｌ化合物：
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Ｓｉ−Ｃｌ化合物以外のハロゲノシラン：
Figure 2021138147
〔Ｓｉ−（Ｃ）４化合物〕
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
〔Ｓｉ−Ｓｉ化合物〕
Figure 2021138147
〔ビニルシラン、アリルシラン、およびエチニルシラン〕
Figure 2021138147
Figure 2021138147
Figure 2021138147
上記有機ケイ素化合物は、下記式（２）：
｛Ｓｉ（Ｒａ１）ｓ（Ｒｂ１）ｔ（Ｒｃ１）ｕ（Ｒｄ１）ｖ（Ｒｅ１）ｗ｝ｘ （２）
［式中、Ｒａ１、Ｒｂ１、Ｒｃ１およびＲｄ１は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルコキシル基、炭素数１〜１０のアミノ基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数３〜１０のアリル基、または炭素数３〜１０のグリシジル基である。Ｒｅ１は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または、シラン結合である。ｓ、ｔ、ｕおよびｖは、それぞれ独立して、０または１であり、ｗは０〜４の整数であり、ｘは１〜２０である。ｘが１である場合、ｓ＋ｔ＋ｕ＋ｖは４であり、ｗは０である。ｘが２〜２０である場合、ｓ＋ｔ＋ｕ＋ｖは、それぞれ独立して、０〜４であり、ｗは、それぞれ独立して、０〜４であり、ｗが１以上の整数である場合、少なくとも２個のＳｉはＲｅ１を介して、直鎖、梯子型、環状、または複環状に結合している。）で表される化合物であることがより好ましい。Ｒａ１、Ｒｂ１、Ｒｃ１、およびＲｄ１は、Ｓｉに結合している１価の基である。Ｒｅ１は、２個のＳｉに結合している２価の基である。
式（２）中、Ｒａ１、Ｒｂ１、Ｒｃ１およびＲｄ１は、それぞれ独立して、少なくとも１つは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、または炭素数１〜１０のアミノ基であり、それ以外は炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数３〜１０のアリル基、または炭素数３〜１０のグリシジル基であることが好ましい。ｘが２〜２０である場合、ｓ＋ｔ＋ｕ＋ｖは、それぞれ独立して、１〜３であり、ｗは１〜３であることが好ましい。
式（２）中、Ｒａ１、Ｒｂ１、Ｒｃ１およびＲｄ１は、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜８のアリール基、炭素数１〜６のアルコキシ基、または、炭素数１〜６のアミノ基であることが好ましく、さらに好ましくは、炭素数１〜４のアルコキシ基である。
上記Ｒａ１、Ｒｂ１、Ｒｃ１およびＲｄ１において、アルキル基の炭素数は、１〜５であることが好ましい。上記アルキル基は鎖状でも、環状でも、分岐していてもよい。また、水素原子がフッ素原子等に置換されていてもよい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基等が挙げられるが、例えば、Ｒａ１、Ｒｂ１、Ｒｃ１またはＲｄ１としては、それぞれ、メチル基、エチル基、プロピル基、またはイソプロピル基であることが好ましい。より好ましくは、メチル基、エチル基であり得る。アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、またはジメチルフェニル基であることが好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素が好ましく、特に塩素が好ましい。
上記Ｒａ１、Ｒｂ１、Ｒｃ１およびＲｄ１において、アルコキシ基の炭素数は、１〜５であることが好ましい。上記アルコキシ基は鎖状でも、環状でも、分岐していてもよい。また、水素原子がフッ素原子等に置換されていてもよい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピロキシ基、またはブトキシ基が好ましく、より好ましくは、メトキシ基、またはエトキシ基である。
Ｒｅ１は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または、シラン結合である。Ｒｅ１としては、−Ｏ−、−ＮＨ−、または、−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。Ｒｅ１は、２個のＳｉに結合している２価の基であり、Ｒｅ１によって２以上のケイ素原子がＲｅ１を介して、直鎖、梯子型、環状、または複環状に結合することができる。ｘが２以上の整数である場合、ケイ素原子同士で結合していてもよい。好ましい含ケイ素化合物の具体例としては、上述したＳｉ−Ｈ化合物、Ｓｉ−Ｎ化合物、ハロゲノシラン、Ｓｉ−（Ｃ）４化合物、Ｓｉ−Ｓｉ化合物、ビニルシラン、アリルシラン、エチニルシラン等のＳｉを１個または２個以上含む化合物が挙げられる。
一の態様において、上記含ケイ素化合物は、式（３）：
ＳｉＲ５ ４ （３）
または式（４）：
ＳｉｙＯｚＲ６ ４ｙ−２ｚ （４）
で表される化合物である。
上記式（３）中、Ｒ５は、それぞれ独立して、ハロゲン原子または加水分解可能な基を表す。
上記式（４）中、Ｒ６は、それぞれ独立して、ハロゲン原子または加水分解可能な基を表す。ｙは２以上であり、ｚは１以上であり、４ｙ−２ｚは０より大きい。
本発明の機能性膜は、例えば、
層（Ａ）に含まれる樹脂及び溶剤を含む組成物を調製する工程（１）、
基材（Ｓ）上に、上記組成物を適用し、乾燥させることにより、基材（Ｓ）上に層（Ａ）が設けられた積層体（ａ）を得る工程（２）、
微細凹凸パターンを表面に有するモールド上に、層（Ｂ）を形成することにより、上記モールド上に層（Ｂ）が設けられた積層体（ｂ）を得る工程（３）、
積層体（ａ）の層（Ａ）面と、積層体（ｂ）の層（Ｂ）面とが接するように、積層体（ａ）及び（ｂ）を重ね合わせる工程（４）、及び、
上記モールドを層（Ｂ）から離型する工程（５）
を含む製造方法により、製造することができる。
層（Ａ）に含まれる樹脂が、硬化性樹脂を硬化させることにより得られる樹脂、硬化性モノマーを硬化させることにより得られる樹脂、又は、含ケイ素化合物を用いて形成されたポリシロキサン構造を含む樹脂である場合は、工程（１）で調製する組成物は、上述した硬化性樹脂、上述した硬化性モノマー及び含ケイ素化合物からなる群より選択される少なくとも１種を含む。
上記組成物は、溶剤を含む。上記組成物が溶剤を含むことから、工程（２）において、上記組成物の基材（Ｓ）への適用が容易である。上記溶剤としては、炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい））、ハイドロクロロフルオロカーボン（アサヒクリンＡＫ−２２５（商品名）等）、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのセロソルブ系溶剤；ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイソ酪酸エチルなどのエステル系溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどのプロピレングリコール系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２−ヘプタノンなどのケトン系溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール系溶剤；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテル、グリコール系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤が好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコールが特に好ましい。
上記組成物は、上述した架橋触媒、上述した増感剤、上述した酸補足剤等を含むこともできる。
工程（２）において、上記組成物を適用する方法としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、スリットコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、バーコーティング、ダイコーティング、スクリーン印刷および類似の方法が挙げられる。
工程（２）において、基材（Ｓ）に適用された組成物を乾燥させることが、機能性膜に機能を付与するための主材としての樹脂（層（Ａ）に含まれる樹脂）の特性を充分に発揮させ、優れた防汚性、撥水性及び撥油性を有する機能性膜を得るために、極めて重要である。上記組成物を乾燥させることにより、関係式（１）及び（２）を充足する機能性膜を製造でき、層（Ａ）と層（Ｂ）との明確な界面を形成できる。上記乾燥は、上記溶剤が５質量％以下になるまで除去できる条件で実施することが好ましく、上記溶剤を完全に除去できる条件実施することがより好ましい。上記乾燥は、例えば、２０〜５０℃で、１分〜１０分実施できる。乾燥時に減圧してもよい。
工程（３）では、微細凹凸パターンを表面に有するモールド上に、層（Ｂ）を形成することにより、上記モールド上に層（Ｂ）が設けられた積層体（ｂ）を得る。
上記モールドの材質としては、目的、必要に応じて適宜選択することができるが、例えば、金属、金属酸化物、石英、シリコーン等の高分子樹脂、半導体、絶縁体、又はこれらの複合体などが挙げられる。
上記モールドの形状は、特に限定されず、ロール状又は平板状であってよい。
層（Ｂ）は、化合物（Ｆ）、化合物（Ｇ）及び化合物（Ｈ）のうち、少なくとも１つの化合物並びに溶剤を含む組成物を適用することにより、形成できる。上記組成物を適用する方法としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、スリットコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、バーコーティング、ダイコーティング、スクリーン印刷および類似の方法が挙げられる。上記組成物を適用した後、乾燥させてもよい。
溶剤を含む組成物を使用することにより、非常に薄い層（Ｂ）であっても形成可能である。上記溶剤としては、工程（１）で調製する組成物のための溶剤として例示したものが挙げられる。
工程（４）では、積層体（ａ）の層（Ａ）面と、積層体（ｂ）の層（Ｂ）面とが接するように、積層体（ａ）及び（ｂ）を重ね合わせることにより、上記凹凸パンターンを転写する。
層（Ｂ）が化合物（Ｆ）を硬化させることにより得られる化合物を含み、層（Ａ）の構成材料と硬化方法が同一である場合は、工程（３）において、積層体（ａ）及び（ｂ）を重ね合わせた状態で、層（Ａ）及び層（Ｂ）を硬化させることができる。上記硬化は、重ね合わせた積層体（ａ）及び（ｂ）を加熱するか、光を照射することにより、実施できる。上記光としては、活性エネルギー線、例えば、３５０ｎｍ以下の波長領域の電磁波、つまり紫外光線、電子線、Ｘ線、γ線等が挙げられる。上記モールドを層（Ｂ）から離型する工程（５）を実施した後、層（Ａ）及び層（Ｂ）を硬化させてもよい。
工程（５）では、上記モールドを層（Ｂ）から離型して、微細凹凸パターンを有する機能性膜を得る、上記機能性膜は、上記モールドが有する微細凹凸パターンが反転した転写パターンを有する。層（Ｂ）がパーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含むことから、層（Ｂ）からの上記モールドの離型は極めて容易である。
上記機能性膜の用途としては、電子、光学、医療、化学分析、建材、自動車内外装などの幅広い用途が挙げられる。例えば、電子デバイスとしては、ＳＯＣ、ＣＭＯＳ、ＣＣＤ、ＮＡＮＤ型フラッシュメモリ、ＤＲＡＭ、発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザー、太陽電池、燃料電池、リチウムイオンバッテリーなどの集積回路や発畜電システムに利用できる。また、太陽光集光フィルム、液晶偏光板、ワイヤーグリッド偏光板など規則的な凹凸構造を持ったフィルムが製造できる。これらのデバイスから太陽光パネル、スマートフォン、フレキシブルディスプレイ、無線タグ、ウエアラブルなコンピュータ、赤外線センサー、自動運転アシストシステム、カーナビゲーションシステムなどが製造される。
また、光学デバイスとしては、液晶ディスプレイのカラーフィルタや有機ＥＬなどのディスプレイ用画素、光メモリ、光変調素子、光シャッター、第二次高調波（ＳＨＧ）素子、偏光素子、フォトニッククリスタル、レンズアレイ、エレクトロウエッティングなどに、磁気デバイスとしては次世代ハードディスクドライブ（ディスクリートトラック）、次次世代ハードディスクドライブ（パターンドメディア）、医療デバイスとしては、殺菌フィルム、ＤＮＡアレイ、タンパク質アレイなどのバイオチップなどに利用できる。化学分析デバイスとしては、微小化学プラント、微小化学分析システムなどのマイクロ化学チップに利用できる。建材としては遮光窓、セルフクリーニングフィルム、防曇フィルム、防霜フィルム、自動車内外装としてはインストールパネル、コンソールパネル、防曇ガラス、セルフクリーニングガラス、超撥水コーティングなどに利用できる。
つぎに本発明を試験例をあげて説明するが、本発明はかかる試験例のみに限定されるものではない。
試験例の各数値は以下の方法により測定した。
（膜厚の決定）
分光エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製のＶＡＳＥ ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ）を用いて、反射スペクトルデータを得ることにより、膜厚を求めた。
（Ｄ１及びＤ２の測定）
Ｘ線光電子分光法（アルバック・ファイ社製ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅＩＩ）を用いて、Ｘ線ビーム径１００μｍ、測定範囲１０００μｍ×３００μｍ、光電子の取り出し角度４５度の条件で測定した。
アルゴンガスクラスターイオンビーム（Ａｒ−ＧＣＩＢ）によりスパッタリングし上記Ｘ線光電子分光法により元素分析を行った。また、炭素の１ｓスペクトルを測定した。スパッタ条件はアルバック・ファイ社製ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅＩＩを用い、イオン源としてアルゴンガスクラスターイオンビーム、スパッタリング条件は加速電圧５ｋＶ、試料電流２０ｎＡ、ラスター領域２ｍｍ×２ｍｍ、スパッタリング時間８分で行った。
試験例１
シリコン基板上にキャスト成形したポリスチレン膜の膜厚をＡＦＭにより測定したところ８１ｎｍであった。本ポリスチレン膜を上記スパッタ条件によりスパッタリングしたところ、炭素１ｓスペクトルの減少が観測された。スパッタリング時間７分で基材のシリコン基板に到達し最表面のＳｉＯ２層を検出した。ポリスチレン膜の膜厚とスパッタリング時間から求めたスパッタリング速度は１１．６ｎｍ／分であった。
試験例２
オプツールＤＡＣ−ＨＰ（ダイキン工業社製）を固形分濃度０．０２５質量％となるように溶剤で希釈し試料液Ａとする。試料液Ａに固形分に対して２．０質量％の光重合開始剤を加えて、予め離型処理したガラス板上に、固形分が２５ｎｍの膜厚となる量をスピンコートにより塗布した。室温で１０分乾燥した後、３６５ｎｍの紫外光を照射して硬化膜Ａを得た。硬化膜Ａの５枚をエリプソメーターにより膜厚を測定した結果を表１に示す。
試験例３
上記のオプツールＤＡＣ−ＨＰ（ダイキン工業社製）の固形分濃度を０．０５質量％とした以外は同様に調製したものを試料液Ｂとする。固形分の膜厚が５０ｎｍの膜厚とした以外は試験例２と同様の操作を行い、硬化膜Ｂを得た。硬化膜Ｂの５枚をエリプソメーターにより膜厚を測定した結果を表１に示す。
Figure 2021138147
試験例４
図３に示す積層体３０を作製した。まず、試料液Ａを、予め離型処理したガラス板３１上に、固形分が２５ｎｍの膜厚となる量をスピンコートにより塗布した。室温で１０分乾燥し、塗布膜３２を形成した。ＰＡＫ−０２（東洋合成化学社製）にＰＡＫ−０２に対して２．０質量％の光重合開始剤を加え遮光下回転ミキサーにて攪拌した。これを厚さ２ｍｍの石英基板３４にバーコートにて膜厚が１０μｍとなるよう塗布し、塗布膜３３を形成した。塗布膜３２と塗布膜３３とを重ね、窒素雰囲気下３６５ｎｍのＵＶ光を含む光線を６００ｍＪ／ｃｍ2の強度で石英基板３４を上面として照射し、塗布膜３２及び塗布膜３３を硬化させた。ガラス板３１を剥がすことにより、硬化膜３２、硬化膜３３及び石英基板３４を有する機能性膜Ａを作製した。Ｘ線光電子分光法による機能性膜Ａのスペクトルを図４に示す。Ｄ１はポリスチレン換算で２３．２ｎｍであり、Ｄ２はポリスチレン換算で３４．８ｎｍであった。
試験例５
試料液Ｂを固形分が５０ｎｍの膜厚となる量を塗布した以外は試験例４と同様の操作を行い、機能性膜Ｂを得た。Ｘ線光電子分光法による機能性膜Ｂのスペクトルを図５に示す。Ｄ１はポリスチレン換算で４６．４ｎｍであり、Ｄ２はポリスチレン換算で５８．０ｎｍであった。
１０ 機能性膜
１１ 基材
１２ 樹脂を含む層
１３ パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む層
２０ 機能性膜（比較）
２１ 基材
２２ 樹脂を含む層
２３ パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む層
３０ 積層体
３１ ガラス板
３２ 塗布膜、硬化膜
３３ 塗布膜、硬化膜
３４ 石英基板

Claims (8)

  1. 樹脂を含む層（Ａ）、及び、パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む層（Ｂ）を含む機能性膜であって、
    層（Ｂ）の層（Ａ）とは反対側の面に微細凹凸パターン構造を有しており、
    アルゴンガスクラスターイオンビームにより層（Ｂ）側からエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法により元素分析した場合に、関係式（１）を充足し、かつ、
    アルゴンガスクラスターイオンビームにより層（Ｂ）側からエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法により炭素の１ｓスペクトルを測定した場合に、関係式（２）を充足する
    ことを特徴とする機能性膜。
    関係式（１）：Ｄ１＜２×Ｘ１
    （式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ１はフッ素原子濃度が１ａｔｏｍ％以下になる深さ（ｎｍ）を表す。）
    関係式（２）：Ｄ２＜２×Ｘ１
    （式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ２は結合エネルギー２９０〜３００ｅＶの範囲内にピークが検出されなくなる深さ（ｎｍ）を表す。）
  2. 関係式（１）において、更に、０．８×Ｘ１＜Ｄ１を充足する請求項１記載の機能性膜。
  3. 関係式（２）において、更に、０．８×Ｘ１＜Ｄ２を充足する請求項１又は２記載の機能性膜。
  4. 層（Ａ）上に、層（Ｂ）が設けられている
    請求項１、２又は３記載の機能性膜。
  5. 更に、基材（Ｓ）を含み、
    基材（Ｓ）上に、層（Ａ）が設けられており、
    層（Ａ）上に、層（Ｂ）が設けられている
    請求項１、２、３又は４記載の機能性膜。
  6. 前記パーフルオロポリエーテル基は、
    式：−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−
    （式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
    で表されるポリエーテル鎖である請求項１、２、３、４又は５記載の機能性膜。
  7. 層（Ｂ）に含まれる前記化合物が、
    パーフルオロポリエーテル基及び硬化性部位を有する化合物（Ｆ）を硬化させることにより得られる化合物、
    パーフルオロポリエーテル基及び加水分解可能な基を有する化合物（Ｇ）、及び、
    式：Ｒ１１１−ＰＦＰＥ−Ｒ１１３
    （式中、ＰＦＰＥはパーフルオロポリエーテル基、Ｒ１１１及びＲ１１３は、独立に、Ｆ、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のフッ素化アルキル基、炭素数１〜１６のフッ素化アルコキシ基、−Ｒ１１４−Ｘ１１１（Ｒ１１４は単結合又は二価の有機基、Ｘ１１１は−ＮＨ２、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、ハロゲン、リン酸、リン酸エステル、カルボン酸エステル、チオール、チオエーテル、アルキルエーテル（フッ素で置換されていてもよい）、アリール、アリールエーテル又はアミド））で表される化合物（Ｈ）
    からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１、２、３、４、５又は６記載の機能性膜。
  8. 層（Ａ）に含まれる前記樹脂が、硬化性樹脂を硬化させることにより得られる樹脂、硬化性モノマーを硬化させることにより得られる樹脂、及び、含ケイ素化合物を用いて形成されたポリシロキサン構造を含む樹脂からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の機能性膜。
JP2021091484A 2016-10-25 2021-05-31 機能性膜 Active JP7137098B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016209011 2016-10-25
JP2016209011 2016-10-25
JP2018547676A JP6939809B2 (ja) 2016-10-25 2017-10-24 機能性膜

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018547676A Division JP6939809B2 (ja) 2016-10-25 2017-10-24 機能性膜

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021138147A true JP2021138147A (ja) 2021-09-16
JP7137098B2 JP7137098B2 (ja) 2022-09-14

Family

ID=62023577

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018547676A Active JP6939809B2 (ja) 2016-10-25 2017-10-24 機能性膜
JP2021091484A Active JP7137098B2 (ja) 2016-10-25 2021-05-31 機能性膜

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018547676A Active JP6939809B2 (ja) 2016-10-25 2017-10-24 機能性膜

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10781335B2 (ja)
EP (1) EP3514580B1 (ja)
JP (2) JP6939809B2 (ja)
CN (1) CN109844574B (ja)
TW (1) TWI703039B (ja)
WO (1) WO2018079525A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20210214495A1 (en) * 2018-05-16 2021-07-15 Guangzhou Ur Materials Technology Co., Ltd. Silane compound containing perfluoropolyether group, preparation method therefor, surface treatment agent and product thereof
JP7114182B2 (ja) * 2018-09-25 2022-08-08 株式会社ディスコ 被着体に光学薄膜を貼り付けて形成する方法
KR102561500B1 (ko) * 2018-09-28 2023-08-01 다이킨 고교 가부시키가이샤 표면 처리제
WO2021251396A1 (ja) * 2020-06-12 2021-12-16 Ａｇｃ株式会社 含フッ素エーテル化合物及びその製造方法、化合物及びその製造方法、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、並びに物品及びその製造方法
KR20220105255A (ko) 2021-01-19 2022-07-27 삼성디스플레이 주식회사 지문방지 코팅용 화합물, 이를 포함하는 디스플레이 보호층 및 전자 장치
CN116239924B (zh) * 2022-11-10 2023-12-01 浙江巨化技术中心有限公司 一种电子级防护剂

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010044184A (ja) * 2008-08-12 2010-02-25 Mitsubishi Rayon Co Ltd 透明成形体
JP2012088693A (ja) * 2010-09-22 2012-05-10 Nitto Denko Corp 光学フィルムの製造方法
WO2014017396A1 (ja) * 2012-07-24 2014-01-30 日本化薬株式会社 感光性樹脂組成物及び反射防止フィルム
JP2014153524A (ja) * 2013-02-08 2014-08-25 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止物品及び画像表示装置
JP2014164102A (ja) * 2013-02-25 2014-09-08 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止物品及び画像表示装置
JP2015079262A (ja) * 2014-11-28 2015-04-23 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム
WO2015145703A1 (ja) * 2014-03-27 2015-10-01 日産自動車株式会社 防汚性表面構造体及び自動車部品
JP2016122140A (ja) * 2014-12-25 2016-07-07 日油株式会社 防眩性反射防止フィルム及びそれを用いた画像表示装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004128361A (ja) * 2002-10-04 2004-04-22 Daikin Ind Ltd 帯電性部材、帯電性部材製造方法及びエレクトレットマイクロホン・アセンブリーの製造方法
US20060194703A1 (en) * 2003-03-03 2006-08-31 Masayoshi Tatemoto Liquid fluoropolymer composition, process for producing organosol, film, and fuel cell
WO2011053004A2 (ko) * 2009-10-29 2011-05-05 주식회사 엘지화학 저반사 및 고접촉각을 갖는 기판 및 이의 제조방법
JP2011169987A (ja) * 2010-02-16 2011-09-01 Sony Corp 防眩性フィルムおよびその製造方法、紫外線硬化型樹脂組成物、ならびに表示装置
TWI415737B (zh) * 2010-06-07 2013-11-21 Mitsubishi Rayon Co 表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法
US20130330518A1 (en) * 2011-02-24 2013-12-12 Toray Industries, Inc. Transfer film
EP2827361A4 (en) * 2012-03-12 2015-04-15 Asahi Kasei E Materials Corp FORM, PAINT COATING AND METHOD OF MANUFACTURING THEREFOR AND MICRORELIEF STRUCTURE
CN104349892B (zh) 2012-06-15 2017-06-09 三菱丽阳株式会社 层积体
JP5940662B2 (ja) * 2012-06-22 2016-06-29 シャープ株式会社 反射防止フィルムの製造方法
JP5747928B2 (ja) * 2013-02-13 2015-07-15 大日本印刷株式会社 反射防止物品の製造方法
EP3029091B1 (en) * 2013-07-28 2020-03-25 Mitsubishi Chemical Corporation Coating film
JP5915715B2 (ja) * 2013-10-18 2016-05-11 ダイキン工業株式会社 表面処理組成物
JP2016083928A (ja) 2014-10-25 2016-05-19 株式会社リコー ノズル板、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置
KR102060872B1 (ko) 2015-04-30 2019-12-30 샤프 가부시키가이샤 광학 필름의 제조 방법 및 광학 필름

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010044184A (ja) * 2008-08-12 2010-02-25 Mitsubishi Rayon Co Ltd 透明成形体
JP2012088693A (ja) * 2010-09-22 2012-05-10 Nitto Denko Corp 光学フィルムの製造方法
WO2014017396A1 (ja) * 2012-07-24 2014-01-30 日本化薬株式会社 感光性樹脂組成物及び反射防止フィルム
JP2014153524A (ja) * 2013-02-08 2014-08-25 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止物品及び画像表示装置
JP2014164102A (ja) * 2013-02-25 2014-09-08 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止物品及び画像表示装置
WO2015145703A1 (ja) * 2014-03-27 2015-10-01 日産自動車株式会社 防汚性表面構造体及び自動車部品
JP2015079262A (ja) * 2014-11-28 2015-04-23 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム
JP2016122140A (ja) * 2014-12-25 2016-07-07 日油株式会社 防眩性反射防止フィルム及びそれを用いた画像表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP3514580A4 (en) 2020-06-10
TWI703039B (zh) 2020-09-01
JP6939809B2 (ja) 2021-09-22
WO2018079525A1 (ja) 2018-05-03
EP3514580A1 (en) 2019-07-24
JP7137098B2 (ja) 2022-09-14
TW201825293A (zh) 2018-07-16
US10781335B2 (en) 2020-09-22
US20190284431A1 (en) 2019-09-19
CN109844574A (zh) 2019-06-04
EP3514580B1 (en) 2023-03-01
CN109844574B (zh) 2021-08-24
JPWO2018079525A1 (ja) 2019-07-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6939809B2 (ja) 機能性膜
US11634608B2 (en) Compound having isocyanuric skeleton and composition in which said compound is included
CN114206985B (zh) 含氟异氰脲酸酯化合物
JP7125592B2 (ja) イソシアヌル骨格を有する新規化合物及びそれを含む組成物
JP6755951B2 (ja) 防汚性フィルムの製造方法
JP6653758B2 (ja) 防汚性フィルムの製造方法
KR102179803B1 (ko) 전사 패턴을 갖는 피전사물의 제조 방법
JP6903903B2 (ja) 積層体
TW202323369A (zh) 含有氟聚醚基的環氧化合物
KR20240023156A (ko) 플루오로폴리에테르기 함유 화합물을 포함하는 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210625

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220329

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220405

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220527

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220802

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220815

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7137098

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151