TW202323369A

TW202323369A - 含有氟聚醚基的環氧化合物

Info

Publication number: TW202323369A
Application number: TW111136155A
Authority: TW
Inventors: 能勢雅聡
Original assignee: 日商大金工業股份有限公司
Priority date: 2021-10-08
Filing date: 2022-09-23
Publication date: 2023-06-16
Also published as: JP7239866B1; KR20240042099A; JP2023057030A; WO2023058419A1; CN118043377A

Abstract

本發明提供一種下式(1)或式(2)[式中各記號如說明書所述]表示的含有氟聚醚基的環氧化物。

Description

含有氟聚醚基的環氧化合物

本揭示係關於含有氟聚醚基的環氧化物及包含該含有氟聚醚基之環氧化物的組成物。

已知若將某種含氟化物用於基材的表面處理，可提供優良的撥水性、撥油性、防污性等。作為這樣的含氟化物，已知具有氟聚醚基作為功能性部位且具有環氧基作為反應性部位的含氟化物(專利文獻1)。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2014-80534號公報

上述專利文獻1所述之含氟化物雖可賦予基材撥水性，但要求更進一步提升撥水性。

本揭示之目的在於提供一種含有氟聚醚基的環氧化物，其可形成具有高撥水性之表面處理層。

本揭示包含以下的態樣。

[1]一種下式(1)或式(2)表示的化合物，

[式中，

R^A分別獨立地為R^F1-X^a-、R^E _m-X^b-或1價基，

R^F1為Rf¹-R^F-O_q-，

R^F2為-Rf² _p-R^F-O_q-，

Rf¹為可經1個以上的氟原子取代的C_1-16烷基，

Rf²為可經1個以上的氟原子取代的C_1-6伸烷基，

R^F分別獨立地為2價氟聚醚基，

p為0或1，

q分別獨立地為0或1，

X^a分別獨立地為單鍵或2價有機基，

R^E分別獨立地為含有環氧基之基，

X^b分別獨立地為含有矽氧烷鍵之2至9價基，

m分別獨立地為1至8的整數]。

[2]如[1]所述之化合物，其中，R^F分別獨立地為下式表示之基，

-(OC₆F₁₂)_a-(OC₅F₁₀)_b-(OC₄F₈)_c-(OC₃R^Fa ₆)_d-(OC₂F₄)_e-(OCF₂)_f-

[式中，

R^Fa在每次出現時分別獨立地為氫原子、氟原子或氯原子，

a、b、c、d、e及f分別獨立地為0至200的整數，a、b、c、d、e及f的和為1以上，標註a、b、c、d、e或f並以括弧括起的各重複單元在式中的存在順序為任意]。

[3]如[2]所述之化合物，其中，R^Fa為氟原子。

[4]如[1]至[3]中任一項所述之化合物，其中，R^F在每次出現時分別獨立地為下式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)、(f5)或(f6)表示之基，

-(OC₃F₆)_d-(OC₂F₄)_e- (f1)

[式中，d為1至200的整數，e為0或1]；

-(OC₄F₈)_c-(OC₃F₆)_d-(OC₂F₄)_e-(OCF₂)_f- (f2)

[式中，c及d分別獨立地為0至30的整數，

e及f分別獨立地為1至200的整數，

c、d、e及f的和為10至200的整數，

標註c、d、e或f並以括弧括起的各重複單元在式中的存在順序為任意]；

-(R⁶-R⁷)_g- (f3)

[式中，R⁶為OCF₂或OC₂F₄，

R⁷為選自OC₂F₄、OC₃F₆、OC₄F₈、OC₅F₁₀及OC₆F₁₂中之基，或是選自此等基中的2或3個基的組合，

g為2至100的整數]；

-(R⁶-R⁷)_g-R^r-(R^7’-R^6’)_g’- (f4)

[式中，R⁶為OCF₂或OC₂F₄，

R⁷為選自OC₂F₄、OC₃F₆、OC₄F₈、OC₅F₁₀及OC₆F₁₂中之基，或是獨立地選自此等基中的2或3個基的組合，

R^6’為OCF₂或OC₂F₄，

R^7’為選自OC₂F₄、OC₃F₆、OC₄F₈、OC₅F₁₀及OC₆F₁₂中之基，或是獨立地選自此等基中的2或3個基的組合，

g為2至100的整數，

g’為2至100的整數，

R^r為

(式中，*表示鍵結位置)]；

-(OC₆F₁₂)_a-(OC₅F₁₀)_b-(OC₄F₈)_c-(OC₃F₆)_d-(OC₂F₄)_e-(OCF₂)_f- (f5)

[式中，e為1以上200以下的整數，a、b、c、d及f分別獨立地為0以上200以下的整數，標註a、b、c、d、e或f並以括弧括起的各重複單元在式中的存在順序為任意]；

-(OC₆F₁₂)_a-(OC₅F₁₀)_b-(OC₄F₈)_c-(OC₃F₆)_d-(OC₂F₄)_e-(OCF₂)_f- (f6)

[式中，f為1以上200以下的整數，a、b、c、d及e分別獨立地為0以上200以下的整數，標註a、b、c、d、e或f並以括弧括起的各重複單元在式中的存在順序為任意]。

[5]如上述[1]至[4]中任一項所述之化合物，其中，Rf¹在每次出現時分別獨立地為C_1-16全氟烷基，

Rf²在每次出現時分別獨立地為C_1-6全氟伸烷基。

[6]如[1]至[5]中任一項所述之化合物，其中，X^a分別獨立地為下式表示之基，

-(CX¹²¹X¹²²)_x1-(X^a1)_y1-(CX¹²³X¹²⁴)_z1-

[式中，

X¹²¹至X¹²⁴分別獨立地為H、F、OH或-OSi(OR¹²¹)₃(式中，3個R¹²¹分別獨立地為碳數1至4的烷基)；

X^a1為-C(=O)NH-、-NHC(=O)-、-O-、-C(=O)O-、-OC(=O)-、-OC(=O)O-或-NHC(=O)NH-，

x1為0至10的整數，y1為0或1，z1為1至10的整數]。

[7]如[1]至[6]中任一項所述之化合物，其中，X^a分別獨立地為-(CH₂)_m22-(式中m22為1至3的整數)表示之基。

[8]如[1]至[7]中任一項所述之化合物，其中，R^E分別獨立地為下式表示之基，

-X^c-R^E1

[式中，

X^c為單鍵或2價基，

R^E1為環氧基或脂環族環氧基]。

[9]如[8]所述之化合物，其中，前述脂環族環氧基為下式表示之基，

[式中，n為1至5的整數]。

[10]如[8]或[9]所述之化合物，其中，X^c為下式表示之基，

-(C_aH_2a)_n1-(R⁵)_n2-

[式中，

a在每個(C_aH_2a)單元中分別獨立地為1至6的整數，

R⁵分別獨立地為-O-、-C(=O)NH-、-NHC(=O)-、-C(=O)O-、-OC(=O)-、-OC(=O)O-或-NHC(=O)NH-，

n1為0至6的整數，

n2為0至6的整數，

標註n1及n2並以括弧括起的各重複單元在式中的存在順序為任意]。

[11]如[8]至[10]中任一項所述之化合物，其中，X^c為下式表示之基，

-(C_aH_2a)_n3-(R⁵)_n2-(C_aH_2a)_n4-

[式中，

a在每個(C_aH_2a)單元中分別獨立地為1至6的整數，

R⁵為-O-，

n2為0或1，

n3為0或1，

n4為0或1，

n2、n3及n4中的至少一者為1]。

[12]如[1]至[11]中任一項所述之化合物，其中，X^b分別獨立地為下式表示之基，

-X^d-R^S-

[式中，

X^d為單鍵或2價基，

R^S為2至9價矽氧烷基]。

[13]如[12]所述之化合物，其中，R^S為下式(s1)、(s2)或(s3)表示之基，

[式中，

R³分別獨立地為氫原子或C_1-6烷基，

R⁴為單鍵、氫原子或C_1-6烷基，

m1為1至20的整數，

m2為1至8的整數，

m3為0至12的整數，

以括弧括起的各單元在式中的存在順序為任意，

標註*的鍵結鍵係鍵結於X^d]。

[14]如[12]或[13]所述之化合物，其中，R^S為下式(s1)或(s3’)表示之基，

[式中，

R³分別獨立地為氫原子或C_1-6烷基，

m1為1至20的整數，

m2為3至5的整數，

標註*的鍵結鍵係鍵結於X^d]。

[15]如[12]至[14]中任一項所述之化合物，其中，X^d為下式表示之基，

-(C_bH_2b)_r1-(R¹⁰)_r2-

[式中，

b在每個(C_bH_2b)單元中分別獨立地為1至6的整數，

R¹⁰分別獨立地為-O-、-C(=O)NH-、-NHC(=O)-、-C(=O)O-、-OC(=O)-、-OC(=O)O-或-NHC(=O)NH-，

r1為0至6的整數，

r2為0至6的整數，

標註r1及r2並以括弧括起的各重複單元在式中的存在順序為任意]。

[16]如[12]至[15]中任一項所述之化合物，其中，X^d為下式表示之基，

-C_bH_2b-

[式中，b為1至6的整數]。

[17]如[1]至[16]中任一項所述之化合物，其中，m分別獨立地為1至3的整數。

[18]如[1]至[17]中任一項所述之化合物，其中，R^A分別獨立地為R^E _m-X^b-。

[19]一種表面處理劑，係包含：1種以上的上述[1]至[18]中任一項所述之化合物。

[20]一種硬化性組成物，係包含：上述[1]至[18]中任一項所述之化合物、或上述 [19]所述之表面處理劑；以及形成基質的組成物。

[21]一種物品，係包含：基材、以及該基材的表面上的由上述[19]所述之表面處理劑或上述[20]所述之硬化性組成物所形成的層。

[22]如[21]所述之物品，其中，上述物品為光學構件。

本揭示的含有氟聚醚基的環氧化物可形成具有高撥水性的表面處理層。

在本說明書使用的情況中，所謂的「有機基」係指含碳之1價基。關於1價有機基，若未特別記載，則可為烴基或其衍生物。所謂的烴基之衍生物係指烴基的末端或分子鏈中具有1個以上的N、O、S、Si、醯胺、磺醯基、亞碸、矽氧烷、羰基、羰氧基等的基。又，所謂的「2價有機基」係指含有碳的2價基。此2價有機基並無特別限定，可列舉：進一步使1個氫原子從有機基脫離而成的2價基。

在本說明書中使用的情況，所謂的「烴基」係含有碳及氫之基，其係指使1個氫原子從烴脫離而成的基。此烴基並無特別限定，可列舉：可經1個以上的取代基取代的C_1-20烴基，例如脂肪族烴基、芳香族烴基等。上述「脂肪族烴基」可為直鏈狀、支鏈狀或環狀的任一者，亦可為飽和或不飽和的任一者。又，烴基亦可包含1個以上的環結構。

在本說明書使用的情況中，「烴基」的取代基並無特別限定，可列舉例如：鹵素原子；選自可經1個以上的鹵素原子取代的C_1-6烷基、C_2-6烯基、 C_2-6炔基、C_3-10環烷基、C_3-10不飽和環烷基、5至10員的雜環基、5至10員的不飽和雜環基、C_6-10芳基及5至10員的雜芳基中的1個以上的基。

以下說明本揭示的含有氟聚醚基的環氧化物。

本揭示提供下式(1)或式(2)表示的化合物，

[式中，

R^A分別獨立地為R^F1-X^a-、R^E _m-X^b-或1價基，

R^F1為Rf¹-R^F-O_q-，

R^F2為-Rf² _p-R^F-O_q-，

Rf¹為可經1個以上的氟原子取代的C_1-16烷基，

Rf²為可經1個以上的氟原子取代的C_1-6伸烷基，

R^F分別獨立地為2價氟聚醚基，

p為0或1，

q分別獨立地為0或1，

X^a分別獨立地為單鍵或2價有機基，

R^E分別獨立地為含有環氧基之基，

X^b分別獨立地為含有矽氧烷鍵之2至9價基，

m分別獨立地為1至8的整數]。

上述式(1)中，R^F1為Rf¹-R^F-O_q-。

上述式(2)中，R^F2為-Rf² _p-R^F-O_q-。

上述式中，Rf¹為可經1個以上的氟原子取代的C_1-16烷基。

上述可經1個以上的氟原子取代的C_1-16烷基中的「C_1-16烷基」可為直鏈，亦可為支鏈，較佳為直鏈或支鏈的C_1-6烷基(尤其是C_1-3烷基)，更佳為直鏈的C_1-6烷基(尤其是C_1-3烷基)。

上述Rf¹較佳為可經1個以上的氟原子取代的C_1-16烷基，更佳為CF₂H-C_1-15全氟伸烷基，再佳為C_1-16全氟烷基。

上述C_1-16全氟烷基可為直鏈，亦可為支鏈，較佳為直鏈或支鏈的C_1-6全氟烷基(尤其是C_1-3全氟烷基)，更佳為直鏈的C_1-6全氟烷基(尤其是C_1-3全氟烷基)，具體為-CF₃、-CF₂CF₃或CF₂CF₂CF₃。

上述式中，Rf²為可經1個以上的氟原子取代的C_1-6伸烷基。

上述可經1個以上的氟原子取代的C_1-6伸烷基中的「C_1-6伸烷基」可為直鏈，亦可為支鏈，較佳為直鏈或支鏈的C_1-3伸烷基，更佳為直鏈的C_1-3伸烷基。

上述Rf²較佳為可經1個以上的氟原子取代的C_1-6伸烷基，更佳為C_1-6全氟伸烷基，再佳為C_1-3全氟伸烷基。

上述C_1-6全氟伸烷基可為直鏈，亦可為支鏈，較佳為直鏈或支鏈的C_1-3全氟伸烷基，更佳為直鏈的C_1-3全氟伸烷基，具體為-CF₂-、-CF₂CF₂-或CF₂CF₂CF₂-。

上述式中，p為0或1。一態樣中，p為0。另一態樣中，p為1。

上述式中，q為0或1。一態樣中，q為0。另一態樣中，q為1。

上述式(1)及(2)中，R^F分別獨立地為2價氟聚醚基。

R^F較佳可包含下式表示之基，

-(OC_h1R^Fa _2h1)_h3-(OC_h2R^Fa _2h2-2)_h4-

[式中，

R^Fa在每次出現時分別獨立地為氫原子、氟原子或氯原子，

h1為1至6的整數，

h2為4至8的整數，

h3為0以上的整數，

h4為0以上的整數，

惟，h3與h4的總計為1以上，較佳為2以上，更佳為5以上，標註h3及h4並以括弧括起的各重複單元在式中的存在順序為任意]。

一態樣中，R^F可為直鏈狀或支鏈狀。R^F較佳為下式表示之基，

[式中，

R^Fa在每次出現時分別獨立地為氫原子、氟原子或氯原子，

R^Fa較佳為氫原子或氟原子，更佳為氟原子。

a、b、c、d、e及f較佳可分別獨立地為0至100的整數。

a、b、c、d、e及f的和較佳為5以上，更佳為10以上，例如亦可為15以上或20以上。a、b、c、d、e及f的和較佳為200以下，更佳為100以下，再佳為60以下，例如亦可為50以下或30以下。

此等重複單元可為直鏈狀，亦可為支鏈狀。例如，上述重複單元中，-(OC₆F₁₂)-亦可為-(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)-、-(OCF(CF₃)CF₂CF₂CF₂CF₂)-、-(OCF₂CF(CF₃)CF₂CF₂CF₂)-、-(OCF₂CF₂CF(CF₃)CF₂CF₂)-、-(OCF₂CF₂CF₂CF(CF₃)CF₂)-、-(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF(CF₃))-等。-(OC₅F₁₀)-亦可為-(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)-、-(OCF(CF₃)CF₂CF₂CF₂)-、-(OCF₂CF(CF₃)CF₂CF₂)-、-(OCF₂CF₂CF(CF₃)CF₂)-、-(OCF₂CF₂CF₂CF(CF₃))-等。-(OC₄F₈)-亦可為-(OCF₂CF₂CF₂CF₂)-、-(OCF(CF₃)CF₂CF₂)-、-(OCF₂CF(CF₃)CF₂)-、-(OCF₂CF₂CF(CF₃))-、-(OC(CF₃)₂CF₂)-、-(OCF₂C(CF₃)₂)-、-(OCF(CF₃)CF(CF₃))-、-(OCF(C₂F₅)CF₂)-及(OCF₂CF(C₂F₅))-的任一者。-(OC₃F₆)-(亦即，上述式中，R^Fa為氟原子)亦可為-(OCF₂CF₂CF₂)-、-(OCF(CF₃)CF₂)-及(OCF₂CF(CF₃))-的任一者。-(OC₂F₄)-亦可為-(OCF₂CF₂)-及(OCF(CF₃))-的任一者。

一態樣中，上述重複單元為直鏈狀。藉由使上述重複單元為直鏈狀，可提升表面處理層的表面平滑性、摩擦耐久性等。

一態樣中，上述重複單元為支鏈狀。藉由使上述重複單元為支鏈狀，可使表面處理層的動摩擦係數變大。

一態樣中，R^F可包含環結構。

上述環結構可為下述三員環、四員環、五員環或六員環。

[式中，*表示鍵結位置]

上述環結構較佳可為四員環、五員環或六員環，更佳為四員環或六員環。

具有環結構的重複單元，較佳可為下述單元。

[式中，*表示鍵結位置]

一態樣中，R^F分別獨立地為下式(f1)至(f6)中任一項表示之基。

-(OC₃F₆)_d-(OC₂F₄)_e- (f1)

[式中，d為1至200的整數，e為0或1]；

-(OC₄F₈)_c-(OC₃F₆)_d-(OC₂F₄)_e-(OCF₂)_f- (f2)

[式中，c及d分別獨立地為0以上30以下的整數，e及f分別獨立地為1以上200以下的整數，

c、d、e及f的和為2以上，

-(R⁶-R⁷)_g- (f3)

[式中，R⁶為OCF₂或OC₂F₄，

g為2至100的整數]；

-(R⁶-R⁷)_g-R^r-(R^7’-R^6’)_g·-- (f4)

[式中，R⁶為OCF₂或OC₂F₄，

R^6’為OCF₂或OC₂F₄，

g為2至100的整數，

g’為2至100的整數，

R^r為

(式中，*表示鍵結位置)]；

上述式(f1)中，d較佳為5至200，更佳為10至100，再佳為15至50，例如為25至35的整數。一態樣中，e為1。另一態樣中，e為0。上述式(f1)中的(OC₃F₆)較佳為(OCF₂CF₂CF₂)、(OCF₂CF(CF₃))或(OCF(CF₃)CF₂)表示之基，更佳為-(OCF₂CF₂CF₂)_d-表示之基。上述式(f1)中的(OC₂F₄)為(OCF₂CF₂)或(OCF(CF₃))表示之基，較佳為(OCF₂CF₂)表示之基。

上述式(f2)中，e及f分別獨立，較佳為5以上200以下，更佳為10至200的整數。又，c、d、e及f的和較佳為5以上，更佳為10以上，例如亦可為15以上或20以上。一態樣中，上述式(f2)較佳為-(OCF₂CF₂CF₂CF₂)_c-(OCF₂CF₂CF₂)_d-(OCF₂CF₂)_e-(OCF₂)_f-表示之基。另一態樣中，式(f2)亦可為-(OC₂F₄)_e-(OCF₂)_f-表示之基。

上述式(f3)中，R⁶較佳為OC₂F₄。上述(f3)中，R⁷較佳為選自OC₂F₄、OC₃F₆及OC₄F₈中之基，或是獨立地選自此等基中的2或3個基的組合；更佳為選自OC₃F₆及OC₄F₈中之基。獨立地選自OC₂F₄、OC₃F₆及OC₄F₈中的2或3個基的組合並無特別限定，可列舉例如：-OC₂F₄OC₃F₆-、-OC₂F₄OC₄F₈-、- OC₃F₆OC₂F₄-、-OC₃F₆OC₃F₆-、-OC₃F₆OC₄F₈-、-OC₄F₈OC₄F₈-、-OC₄F₈OC₃F₆-、-OC₄F₈OC₂F₄-、-OC₂F₄OC₂F₄OC₃F₆-、-OC₂F₄OC₂F₄OC₄F₈-、-OC₂F₄OC₃F₆OC₂F₄-、-OC₂F₄OC₃F₆OC₃F₆-、-OC₂F₄OC₄F₈OC₂F₄-、-OC₃F₆OC₂F₄OC₂F₄-、-OC₃F₆OC₂F₄OC₃F₆-、-OC₃F₆OC₃F₆OC₂F₄-及OC₄F₈OC₂F₄OC₂F₄-等。上述式(f3)中，g較佳為3以上，更佳為5以上的整數。上述g較佳為50以下的整數。上述式(f3)中，OC₂F₄、OC₃F₆、OC₄F₈、OC₅F₁₀及OC₆F₁₂可為直鏈或支鏈的任一者，較佳為直鏈。此態樣中，上述式(f3)較佳為-(OC₂F₄-OC₃F₆)_g-或(OC₂F₄-OC₄F₈)_g-。

上述式(f4)中，R⁶、R⁷及g具有與上述式(f3)的記載相同的意義、相同的態樣。R^6’、R^7’及g’分別具有與上述式(f3)所述之R⁶、R⁷及g相同的意義、相同的態樣。R^r較佳為

[式中，*表示鍵結位置]；

更佳為

[式中，*表示鍵結位置]。

上述式(f5)中，e較佳為1以上100以下，更佳為5以上100以下的整數。a、b、c、d、e及f的和較佳為5以上，更佳為10以上，例如10以上100以下。

上述式(f6)中，f較佳為1以上100以下，更佳為5以上100以下的整數。a、b、c、d、e及f的和較佳為5以上，更佳為10以上，例如10以上100以下。

一態樣中，上述R^F為上述式(f1)表示之基。

一態樣中，上述R^F為上述式(f2)表示之基。

一態樣中，上述R^F為上述式(f3)表示之基。

一態樣中，上述R^F為上述式(f4)表示之基。

一態樣中，上述R^F為上述式(f5)表示之基。

一態樣中，上述R^F為上述式(f6)表示之基。

上述R^F中，e相對於f的比(以下稱為「e/f比」)為0.1至10，較佳為0.2至5，更佳為0.2至2，再佳為0.2至1.5，再更佳為0.2至0.85。藉由將e/f比設為10以下，從該化合物所得之表面處理層的平滑性、摩擦耐久性及化學抗性(例如對於人工汗水的耐久性)更加提升。e/f比越小，表面處理層的平滑性及摩擦耐久性更進一步提升。另一方面，藉由將e/f比設為0.1以上，可更提高化合物的穩定性。e/f比越大，化合物的穩定性更進一步提升。

一態樣中，上述e/f比較佳為0.2至0.95，更佳為0.2至0.9。

一態樣中，耐熱性的觀點來看，上述e/f比較佳為1.0以上，更佳為1.0至2.0。

上述含有氟聚醚基的化合物中，R^F1及R^F2的數量平均分子量並無特別限定，例如為500至30,000，較佳為1,500至30,000，更佳為2,000至10,000。本說明書中，R^F1及R^F2的數量平均分子量係藉由¹⁹F-NMR測量的值。

另一態樣中，R^F1及R^F2的數量平均分子量為500至30,000，較佳為1,000至20,000，更佳為2,000至15,000，再更佳為2,000至10,000，例如可為3,000至6,000。

另一態樣中，R^F1及R^F2的數量平均分子量可為4,000至30,000，較佳為5,000至10,000，更佳為6,000至10,000。

上述式(1)及(2)中，X^a在每次出現時分別獨立地為單鍵或2價有機基。

X^a為鍵結於「式(1)及(2)的異三聚氰酸環」的單鍵或2價連結基。X^a較佳為單鍵、伸烷基、或包含選自由醚鍵及酯鍵所組成之群組中之至少一種鍵的2價基，更佳為單鍵、碳數1至10的伸烷基、或包含選自由醚鍵及酯鍵所組成之群組中之至少一種鍵的碳數1至10之2價烴基。

X^a再佳為下式表示之基，

-(CX¹²¹X¹²²)_x1-(X^a1)_y1-(CX¹²³X¹²⁴)_z1-

(式中，X¹²¹至X¹²⁴分別獨立地為H、F、OH或-OSi(OR¹²¹)₃(式中，3個R¹²¹分別獨立地為碳數1至4的烷基)；

上述X^a1為-C(=O)NH-、-NHC(=O)-、-O-、-C(=O)O-、-OC(=O)-、-OC(=O)O-或-NHC(=O)NH-(各鍵的左側係鍵結於CX¹²¹X¹²²)；

x1為0至10的整數，y1為0或1，z1為1至10的整數)。

X^a的左側係鍵結於異三聚氰酸環。

X^a1較佳為-O-或C(=O)O-。

X^a特佳為下式表示之基，

-(CF₂)_m11-(CH₂)_m12-O-(CH₂)_m13-

(式中，m11為1至3的整數，m12為1至3的整數，m13為1至3的整數)；

-(CF₂)_m14-(CH₂)_m15-O-CH₂CH(OH)-(CH₂)_m16-

(式中，m14為1至3的整數，m15為1至3的整數，m16為1至3的整數)；

-(CF₂)_m17-(CH₂)_m18-

(式中，m17為1至3的整數，m18為1至3的整數)；

-(CF₂)_m19-(CH₂)_m20-O-CH₂CH(OSi(OCH₃)₃)-(CH₂)_m21-

(式中，m19為1至3的整數，m20為1至3的整數，m21為1至3的整數)；或

-(CH₂)_m22-

(式中，m22為1至3的整數)。

X^a並無特別限定，具體可列舉：

-CH₂-、-C₂H₄-、-C₃H₆-、-C₄H₈-、-C₄H₈-O-CH₂-、-CO-O-CH₂-CH(OH)-CH₂-、-(CF₂)_n5-(n5為0至4的整數)、-(CF₂)_n5-(CH₂)_m5-(n5及m5分別獨立地為0至4的整數)、-CF₂CF₂CH₂OCH₂CH(OH)CH₂-、-CF₂CF₂CH₂OCH₂CH(OSi(OCH₃)₃)CH₂-等。

上述式(1)及(2)中，R^E分別獨立地為含有環氧基之基。

R^E較佳係分別獨立地為下式表示之基，

-X^c-R^E1

[式中，

X^c為單鍵或2價基，

R^E1為環氧基或脂環族環氧基]。

上述脂環族環氧基較佳為下式表示之基，

[式中，n為1至5的整數，較佳為1至3的整數]。

較佳的態樣中，上述脂環族環氧基為

特佳為

上述X^c為單鍵或2價基。

一態樣中，X^c為下式表示之基，

-(C_aH_2a)_n1-(R⁵)_n2-

[式中，

a在每個(C_aH_2a)單元中分別獨立地為1至6的整數，

n1為0至6的整數，

n2為0至6的整數，

此處，X^c係以右側鍵結於R^E1。

(C_aH_2a)可為直鏈，亦可為支鏈，較佳為直鏈。

a為1至6的整數，較佳為1至4的整數。

R⁵分別獨立地為-O-、-C(=O)NH-、-NHC(=O)-、-C(=O)O-、-OC(=O)-、-OC(=O)O-或-NHC(=O)NH-，較佳為-O-、-C(=O)NH-、-NHC(=O)-、-C(=O)O-或-OC(=O)-，更佳為-O-。

n1為0至6的整數，較佳為1至3的整數，更佳為1或2。

一態樣中，n1為0。

另一態樣中，n1為1。

另一態樣中，n1為2。

n2為0至6的整數，較佳為0至2的整數，更佳為0或1。

一態樣中，n2為0。

另一態樣中，n2為1。

一態樣中，n1為1，n2為0。

另一態樣中，n1為2，n2為1。

較佳的態樣中，X^c為下式表示之基，

-(C_aH_2a)_n3-(R⁵)_n2-(C_aH_2a)_n4-

[式中，

a在每個(C_aH_2a)單元中分別獨立地為1至6的整數，較佳為1至4的整數，

R⁵為-O-，

n2為0或1，

n3為0或1，

n4為0或1，

n2、n3及n4中的至少一者為1]。

一態樣中，n2為0，n3為1，n4為0。

另一態樣中，n2為1，n3為1，n4為1。

上述式(1)及(2)中，X^b分別獨立地為含有矽氧烷鍵之2至9價基。

X^b較佳係分別獨立地為下式表示之基，

-X^d-R^S-

[式中，

X^d為單鍵或2價基，

R^S為2至9價矽氧烷基]。

R^S較佳為下式(s1)、(s2)或(s3)表示之基，

[式中，

R³分別獨立地為氫原子或C_1-6烷基，

R⁴為單鍵、氫原子或C_1-6烷基，

m1為1至20的整數，

m2為1至8的整數，

m3為0至12的整數，

以括弧括起的各單元在式中的存在順序為任意]。

R^s中，*的部分係鍵結於X^d，其他鍵結鍵係鍵結於R^E。

R³分別獨立地為氫原子或C_1-6烷基，較佳為C_1-6烷基。

R⁴為單鍵、氫原子或C_1-6烷基，較佳為C_1-6烷基。在其為單鍵的情況下，與R⁴鍵結之Si係直接鍵結於R^E。

上述R³及R⁴中的C_1-6烷基可為直鏈，亦可為支鏈，較佳為直鏈。

上述C_1-6烷基較佳為C_1-4烷基，更佳為甲基。

m1為1至20的整數，較佳為1至10的整數，更佳為1至6的整數，再佳為1至3的整數。

一態樣中，m1為1。

另一態樣中，m1為2至10的整數，更佳為2至6的整數，再佳為2或3。

m2為1至8的整數，較佳為1至6的整數，更佳為3至5的整數。

一態樣中，m2為3或4，較佳為3。

m3為0至12的整數，較佳為0至6的整數，更佳為0至4的整數。

一態樣中，m3為0。

另一態樣中，m3為1至12的整數，較佳為1至6的整數，更佳為1至4的整數。

一態樣中，m2為3或4，較佳為3，m3為0。

較佳的態樣中，R^S為下式(s1)或(s3’)表示之基，

[式中，

R³分別獨立地為氫原子或C_1-6烷基，較佳為C_1-6烷基，更佳為甲基，

m1為1至20的整數，較佳為1至10的整數，更佳為1至6的整數，再佳為1至3的整數，

m2為3至5的整數，較佳為3或4，更佳為3]。

R^s中，*的部分係鍵結於X^d，其他鍵結鍵係鍵結於R^E。

X^d為下式表示之基，

-(C_bH_2b)_r1-(R¹⁰)_r2-

[式中，

b在每個(C_bH_2b)單元中分別獨立地為1至6的整數，

r1為0至6的整數，

r2為0至6的整數，

(C_bH_2b)可為直鏈，亦可為支鏈，較佳為直鏈。

b為1至6的整數，較佳為2至4的整數。

R¹⁰分別獨立地為-O-、-C(=O)NH-、-NHC(=O)-、-C(=O)O-、-OC(=O)-、-OC(=O)O-或-NHC(=O)NH-，較佳為-O-、-C(=O)NH-、-NHC(=O)-、-C(=O)O-或-OC(=O)-，更佳為-O-。

r1為0至6的整數，較佳為1或2，更佳為1。

r2為0至6的整數，較佳為0或1，更佳為0。

一態樣中，r1為1，r2為0。

較佳的態樣中，X^d為下式表示之基，

-C_bH_2d-

[式中，

b為1至6的整數，較佳為2至4的整數]。

上述式(1)及(2)中，m為1至8的整數，較佳為1至6的整數，更佳為1至4的整數。

一態樣中，m為1。

另一態樣中，m為2至4的整數，較佳為3或4，更佳為3。

上述式(1)及(2)中，R^A分別獨立地為R^F1-X^a-、R^E _m-X^b-或1價基。此1價基為R^F1-X^a-及R^E _m-X^b-以外的基。R^A為R^F1-X^a-時，式(1)及(2)中存在2個R^F1-X^a-，此等可相同或不同。同樣地，R^A為R^E _m-X^b-時，式(1)及(2)中存在2個以上的R^E _m-X^b-，此等可相同或不同。

上述1價基較佳為氫原子或1價有機基，更佳為氫原子或C_1-6烷基。

一態樣中，R^A為R^F1-X^a-。藉由將R^A設為R^F1-X^a-，則由本揭示的化合物所得之表面處理層的初始接觸角可變更高。

另一態樣中，R^A為R^E _m-X^b-。藉由將R^A設為R^E _m-X^b-，則由本揭示的化合物所得之表面處理層的耐久性可變更高。

另一態樣中，R^A為1價基。

上述式(1)及(2)表示的含有氟聚醚基的環氧化物之數量平均分子量並無特別限定，例如為1,000至30,000，較佳為2,000至20,000，更佳為2,500至6,000，再佳為2,500至5,000。本說明書中，含有氟聚醚基的環氧化物之數量平均分子量係藉由¹⁹F-NMR測量的值。藉由將含有氟聚醚基的環氧化物的數量平均分子量設為上述範圍內，而使含有氟聚醚基的環氧化物對於溶劑的溶解性提升。又，由該化合物所得之表面處理層的初始接觸角及摩擦耐久性係可提升。

一態樣中，本揭示的化合物為式(1)表示的化合物。

另一態樣中，本揭示的化合物為式(2)表示的化合物。

另一態樣中，本揭示的化合物為式(1)表示的化合物及式(2)表示的化合物。亦即，係以式(1)表示的化合物及式(2)表示的化合物的混合物之形式來使用。

上述混合物中，相對於式(1)表示的化合物與式(2)表示的化合物的總和，式(2)表示的化合物較佳為0.1莫耳%以上35莫耳%以下。相對於式(1)表示的化合物與式(2)表示的化合物的總和，式(2)表示的化合物之含量的下限較佳可為0.1莫耳%，更佳為0.2莫耳%，再佳為0.5莫耳%，再更佳為1莫耳%，特佳為2莫耳%，尤佳可為5莫耳%。相對於式(1)表示的化合物與式(2)表示的化合物的總和，式(2)表示的化合物的含量之上限較佳可為35莫耳%，更佳為30莫耳%，再佳為20莫耳%，再更佳為15莫耳%或10莫耳%。相對於式(1)表示的化合物與式(2)表示的化合物的總和，式(2)表示的化合物較佳為0.1莫耳%以上30莫耳%以下，更佳為0.1莫耳%以上20莫耳%以下，再佳為0.2莫耳%以上10莫耳%以下，再更佳為0.5莫耳%以上10莫耳%以下，特佳為1莫耳%以上10莫耳%以下，例如2莫耳%以上10莫耳%以下或5莫耳%以上10莫耳%以下。藉由將式(2)表示的化合物設為此範圍內，可更進一步提升摩擦耐久性。

本揭示的含有氟聚醚基的環氧化物，例如可依據下述方法合成。

使下式(1a)或(2a)表示的化合物與下式(s1a)、(s2a)或(s3a)表示的化合物反應，而得到下式(1b)或(2b)表示的化合物，

[式中，

R^F1為Rf¹-R^F-O_q-，

R^F2為-Rf² _p-R^F-O_q-，

Rf¹為可經1個以上的氟原子取代的C_1-16烷基，

Rf²為可經1個以上的氟原子取代的C_1-6伸烷基，

R^F分別獨立地為2價氟聚醚基，

p為0或1，

q分別獨立地為0或1，

X^a分別獨立地為單鍵或2價有機基，

R^Aa為R^F1-X^a-或烯丙基]。

[式中，

R³分別獨立地為氫原子或C_1-6烷基，

R⁴為氫原子或C_1-6烷基，

m1為1至20的整數，

m2為1至8的整數，

m3為0至12的整數，

m4為2至9的整數，

以括弧括起的各單元在式中的存在順序為任意]；

[式中，

R^F1、R^F2及X^a與上述同義，

R^Sa為下式表示之基，

(式中，

R³、R⁴、m1、m2、m3及m4與上述同義)；

R^Ab為R^F1-X^a-、R^Sa-或烯丙基]。

然後，使上述所得之式(1b)或(2b)表示的化合物與下式(3)表示的化合物反應，可得到本揭示的式(1)或(2)表示的含有氟聚醚基的環氧化物；

式(3)：CH=CH₂-X^c’-R^E1

[式中，

X^c’為單鍵或2價基，

R^E1為環氧基或脂環族環氧基]。

本揭示的化合物可用於各種用途。其次，說明本揭示的化合物之用途的例子。

本揭示的化合物亦可與聚合性塗布劑單體一起使用。以「包含本揭示之化合物及聚合性塗布劑單體」為特徵的組成物亦為本發明之一(在本說明書中有時稱為組成物(a))。組成物(a)因為具有上述構成，故可得到一種塗膜，其對於水或正十六烷的靜態接觸角大且透明，脫模性優良，不易附著指紋且即使附著指紋亦可完全擦除。

上述聚合性塗布劑單體較佳為具有碳-碳雙鍵的單體。

上述聚合性塗布劑單體並無特別限定，係指含有某種化合物的組成物，該化合物係「單官能及/或多官能丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯(以下亦將丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯合稱為「(甲基)丙烯酸酯」)、單官能及/或多官能胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、單官能及/或多官能環氧(甲基)丙烯酸酯」。形成該基質的組成物並無特別限定，一般而言，係作為硬塗劑或抗反射劑的組成物，可列舉例如：含有多官能性(甲基)丙烯酸酯的硬塗劑、或含有含氟(甲基)丙烯酸酯的抗反射劑。就該硬塗劑而言，例如為由荒川化學工業股份有限公司販售的BEAMSET 502H、 504H、505A-6、550B、575CB、577、1402(商品名稱)，由Daicel-Cytec股份有限公司販售的EBECRYL40(商品名稱)，由橫濱橡膠股份有限公司販售的HR300系列(商品名稱)。就該抗反射劑而言，例如為由大金工業股份有限公司販售的OPTOOL AR-110(商品名稱)。

組成物(a)可更包含抗氧化劑、增黏劑、調平劑、消泡劑、抗靜電劑、防霧化劑、紫外線吸收劑、顏料、染料、二氧化矽等無機微粒子、鋁膏、滑石、玻璃料、金屬粉等填充劑、丁基化羥基甲苯(BHT)、酚噻嗪(PTZ)等聚合抑制劑等。

組成物(a)可更包含胺基甲酸酯化用的觸媒，例如錫系觸媒、鈦系觸媒、二氧化鋯系觸媒、鉍系觸媒、有機胺系觸媒。

上述錫系觸媒可列舉：二月桂酸二正丁基錫(IV)。

上述鈦系觸媒可列舉：二異丙氧基雙(乙基乙醯乙酸酯)鈦、四正丁氧化鈦、四-2-乙基己氧化鈦、四乙醯丙酮鈦。

上述二氧化鋯系觸媒可列舉：四乙醯丙酮鋯、四正丁氧化鋯、二丁氧基雙(乙基乙醯乙酸酯)鋯。

上述鉍系觸媒可列舉：參(2-乙基己酸酯)鉍。

上述有機胺系觸媒可列舉：二氮雜雙環十一烯。

組成物(a)較佳係更包含溶劑。上述溶劑可列舉：含氟之有機溶劑、或不含氟之有機溶劑。

上述含氟之有機溶劑可列舉例如：全氟己烷、全氟辛烷、全氟二甲基環己烷、全氟萘烷、全氟烷基乙醇、全氟苯、全氟甲苯、全氟烷胺(Fluorinert(商品名稱)等)、全氟烷醚、全氟丁基四氫呋喃、聚氟脂肪族烴(ASAHIKLIN AC6000(商品名稱))、氫氯氟烴(ASAHIKLIN AK-225(商品名稱)等)、氫氟醚(Novec(商品名稱)、HFE-7100(商品名稱)、HFE-7300(商品名稱)等)、1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷、含氟之醇、全氟烷基溴化物、全氟烷基碘化物、全氟聚醚(Krytox(商品名稱)、Demnum(商品名稱)、Fomblin(商品名稱)等)、1,3-雙三氟甲基苯、甲基丙烯酸2-(全氟烷基)乙酯、丙烯酸2-(全氟烷基)乙酯、全氟烷基乙烯、Fron 134a及六氟丙烯寡聚物。

上述不含氟之有機溶劑可列舉例如：丙酮、甲基異丁基酮、環己酮、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丁醚乙酸酯、二丙二醇二甲醚戊烷、己烷、庚烷、辛烷、二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、二氯乙烷、二硫化碳、苯、甲苯、二甲苯、硝基苯、二乙醚、二甲氧基乙烷、二甘二甲醚、三甘二甲醚、乙酸乙酯、乙酸丁酯、二甲基甲醯胺、二甲基亞碸、2-丁酮、乙腈、苯甲腈、丁醇、1-丙醇、2-丙醇、乙醇、甲醇及二丙酮醇。

其中，上述溶劑較佳為甲基異丁基酮、丙二醇單甲醚、十六烷、乙酸丁酯、丙酮、2-丁酮、環己酮、乙酸乙酯、二丙酮醇或2-丙醇。

上述溶劑可單獨使用1種，亦可將2種以上組合使用。

在組成物(a)中，上述溶劑較佳係在30至95質量%的範圍內使用。更佳為50至90質量%。

例如，藉由將組成物(a)塗布於基材，可形成防污層。又，亦可在塗布後藉由聚合而形成防污層。上述基材可列舉樹脂(尤其是非氟樹脂)。

本揭示的化合物可與硬化性樹脂或硬化性單體一起使用。以「包含上述化合物及硬化性樹脂或硬化性單體」為特徵的組成物亦為本發明之一(在本說明書中有時稱為組成物(b))。組成物(b)因具有上述構成，而可得到一種塗膜，其不易附著指紋且即使附著指紋亦可完全擦除。

上述硬化性樹脂可為光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂的任一者，只要是具有耐熱性、強度的樹脂，則無特別限制，較佳為光硬化性樹脂，更佳為紫外線硬化性樹脂。

上述硬化性樹脂可列舉例如：環氧系聚合物、丙烯酸系聚合物、聚碳酸酯系聚合物、聚酯系聚合物、聚醯胺系聚合物、聚醯亞胺系聚合物、聚醚碸系聚合物、環狀聚烯烴系聚合物、含氟之聚烯烴系聚合物(PTFE等)、含氟之環狀非結晶性聚合物(CYTOP(註冊商標)、TEFLON(註冊商標)AF等)等。

構成上述硬化性樹脂或上述硬化性樹脂的單體，具體上可列舉例如：環己基甲基乙烯醚、異丁基乙烯醚、環己基乙烯醚、乙基乙烯醚等烷基乙烯醚；環氧丙基乙烯醚、乙酸乙烯酯、三甲基乙酸乙烯酯；各種(甲基)丙烯酸酯類：丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸烯丙酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、新戊四醇三丙烯酸酯、二新戊四醇六丙烯酸酯、丙烯酸乙氧基乙酯、丙烯酸甲氧基乙酯、丙烯酸環氧丙酯、丙烯酸四氫呋喃酯、二乙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、聚氧基乙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯、4-羥基丁基乙烯醚、丙烯酸N,N-二乙胺基乙酯、丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯；N-乙烯基吡咯啶酮、甲基丙烯酸二甲基胺基乙酯矽系的丙烯酸酯、馬來酸酐、碳酸伸乙烯酯、鏈狀側鏈聚丙烯酸酯、環狀側鏈聚丙烯酸酯聚降莰烯、聚降冰片二烯、聚碳酸酯、聚磺酸醯胺；雙酚A二環氧丙醚、雙酚F二環氧丙醚、雙酚S二環氧丙醚、3,4- 環氧環己烷羧酸3,4-環氧環己基甲酯(CELLOXIDE 2021P(註冊商標))、1,2-六氫鄰苯二甲酸二環氧丙酯、4-乙烯基-1-環己烷二環氧化物、1,4-環己烷二甲醇二環氧丙醚、4-第三丁基苯基環氧丙醚、間、對-甲苯酚基環氧丙醚、苯基環氧丙醚、甲苯基環氧丙醚等環氧系單體；含氟之環狀非結晶性聚合物(CYTOP(註冊商標)、TEFLON(註冊商標)AF等)等。

上述硬化性單體可為光硬化性單體、熱硬化性單體的任一者，較佳為紫外線硬化性單體。

上述硬化性單體可列舉例如：(a)胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、(b)環氧(甲基)丙烯酸酯、(c)聚酯(甲基)丙烯酸酯、(d)聚醚(甲基)丙烯酸酯、(e)矽(甲基)丙烯酸酯、(f)(甲基)丙烯酸酯單體等。

上述硬化性單體具體上可列舉以下的例子。

(a)胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯可列舉：以參(2-羥基乙基)三聚異氰酸酯二丙烯酸酯、參(2-羥基乙基)三聚異氰酸酯三丙烯酸酯為代表的聚[(甲基)丙烯醯氧基烷基]三聚異氰酸酯。

(b)環氧(甲基)丙烯酸酯，係對於環氧基加成(甲基)丙烯醯基而成者，一般係使用雙酚A、雙酚F、苯酚酚醛清漆、脂環化合物作為起始原料者。

(c)構成聚酯(甲基)丙烯酸酯之聚酯部的多元醇可列舉：乙二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、二乙二醇、三羥甲基丙烷、二丙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、新戊四醇、二新戊四醇等；多元酸可列舉：鄰苯二甲酸、己二酸、馬來酸、苯偏三甲酸、伊康酸、琥珀酸、對苯二甲酸、烯基琥珀酸等。

(d)聚醚(甲基)丙烯酸酯可列舉：聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇-聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等。

(e)矽(甲基)丙烯酸酯係以(甲基)丙烯醯基對於分子量1,000至10,000的二甲基聚矽氧烷的單一末端或兩末端進行改質而成者，例如可例示以下的化合物等。

(f)(甲基)丙烯酸酯單體可例示：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸3-甲基丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基正己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸5-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸4-羥基環己酯、新戊二醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸3-氯基-2-羥基丙酯、(1,1-二甲基-3-側氧基丁基)(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-乙醯乙醯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、新戊二醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸3-氯基-2-羥基丙酯、丙三醇單(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、新戊四醇四丙烯酸酯等。

上述硬化性樹脂及硬化性單體之中，能夠從市面上購得的較佳者可列舉如下述者。

上述硬化性樹脂可列舉：矽樹脂類PAK-01、PAK-02(東洋合成化學公司製)、奈米壓印樹脂NIF系列(旭硝子公司製)、奈米壓印樹脂OCNL系列(東京應化工業公司製)、NIAC2310(Daicel Chemical Industries公司製)、環氧基丙烯酸酯樹脂類EH-1001、ES-4004、EX-C101、EX-C106、EX-C300、EX-C501、EX-0202、EX-0205、EX-5000等(共榮社化學公司製)、六亞甲基二異氰酸酯系聚異氰酸酯類、Sumidur N-75、Sumidur N3200、Sumidur HT、Sumidur N3300、Sumidur N3500(Sumitomo Bayer Urethane公司製)等。

上述硬化性單體可列舉：矽丙烯酸酯系樹脂類、多官能丙烯酸酯類、多官能甲基丙烯酸酯類、及包含烷氧基矽烷基之(甲基)丙烯酸酯。

矽丙烯酸酯系樹脂類可列舉：SILAPLANE FM-0611、SILAPLANE FM-0621、SILAPLANE FM-0625、兩末端型(甲基)丙烯酸系的SILAPLANE FM-7711、SILAPLANE FM-7721及SILAPLANE FM-7725等、SILAPLANE FM-0411、SILAPLANE FM-0421、SILAPLANE FM-0428、SILAPLANE FM-DA11、SILAPLANE FM-DA21、SILAPLANE-DA25、單一末端型(甲基)丙烯酸系的SILAPLANE FM-0711、SILAPLANE FM-0721、SILAPLANE FM-0725、SILAPLANE TM-0701及SILAPLANE TM-0701T(JCN公司製)等。

多官能丙烯酸酯類可列舉：A-9300、A-9300-1CL、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMM-3L、A-TMM-3LM-N、A-TMPT、A-TMMT(新中村工業公司製)等。

多官能甲基丙烯酸酯類可列舉TMPT(新中村工業公司製)等。

包含烷氧基矽烷基之(甲基)丙烯酸酯可列舉：3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三氯矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三異丙氧基矽烷(別名(三異丙氧基矽基)丙基甲基丙烯酸酯(簡稱：TISMA)及三異丙氧基矽基)丙基丙烯酸酯)、3-(甲基)丙烯醯氧基異丁基三氯矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基異丁基三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基異丁基三異丙氧基3-(甲基)丙烯醯氧基異丁基三甲氧基矽烷等。

組成物(b)亦以包含交聯觸媒為較佳。上述交聯觸媒可例示：自由基聚合起始劑、產酸劑等。

上述自由基聚合起始劑係藉由熱或光而產生自由基的化合物，可列舉：自由基熱聚合起始劑、自由基光聚合起始劑。在本發明中，較佳為上述自由基光聚合起始劑。

上述自由基熱聚合起始劑可列舉例如：苯甲醯基過氧化物、月桂醯基過氧化物等二醯基過氧化物類、二異丙苯基過氧化物、二-第三丁基過氧化物等二烷基過氧化物類、二異丙基過氧基二碳酸酯、雙(4-第三丁基環己基)過氧基二碳酸酯等過氧基碳酸酯類、過氧辛酸第三丁酯、過氧基苯甲酸第三丁酯等過氧酸烷酯類等過氧化物化合物、以及如偶氮雙異丁腈等自由基產生性偶氮化物等。

上述自由基光聚合起始劑可列舉例如：二苯乙二酮(benzil)、丁二酮(diacetyl)等二酮類；苯偶姻等醯偶姻類；苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚等醯偶姻醚類；噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、噻噸酮-4-磺酸等噻噸酮類；二苯甲酮、4,4’-雙(二甲胺基)二苯甲酮、4,4’-雙(二乙胺基)二苯甲酮等二苯甲酮類；苯乙酮、2-(4-甲苯磺醯氧基)-2-苯基苯乙酮、對二甲胺基苯乙酮、2,2’-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、對甲氧基苯乙酮、2-甲基[4-(甲基硫基)苯基]-2-嗎啉基-1-丙酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁-1-酮等苯乙酮類；蒽醌、1,4-萘醌等醌類；2-二甲基胺基苯甲酸乙酯、4-二甲基胺基苯甲酸乙酯、4-二甲基胺基苯甲酸(正丁氧基)乙酯、4-二甲基胺基苯甲酸異戊酯、4-二甲基胺基苯甲酸2-乙基己酯等胺基苯甲酸類；氯苯乙酮、三鹵甲基苯基碸等鹵化物；醯基氧化膦類、二-第三丁基過氧化物等過氧化物等。

上述自由基光聚合起始劑的市售產品係例示如下。

IRGACURE 651：2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮；

IRGACURE 184：1-羥基-環己基-苯基-酮；

IRGACURE 2959：1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙-1-酮；

IRGACURE 127：2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙-1-酮、

IRGACURE 907：2-甲基-1-(4-甲基硫基苯基)-2-嗎啉基丙-1-酮；

IRGACURE 369：2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-1-丁酮；

IRGACURE 379：2-(二甲胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-

啉基)苯基]-1-丁酮；

IRGACURE 819：雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物；

IRGACURE 784：雙(η 5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦；

IRGACURE OXE 01：1,2-辛二酮，1-[4-(苯基硫基)-,2-(O-苯甲醯基肟)]；

IRGACURE OXE 02：乙酮，1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(0-乙醯基肟)；

IRGACURE 261、IRGACURE 369、IRGACURE 500；

DAROCUR 1173：2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮；

DAROCUR TPO：2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物；

DAROCUR 1116、DAROCUR 2959、DAROCUR 1664、DAROCUR 4043；

IRGACURE 754氧基苯基乙酸：2-[2-側氧基-2-苯基乙醯氧基乙氧基]乙酯與氧基苯基乙酸、2-(2-羥基乙氧基)乙酯的混合物；

IRGACURE 500：IRGACURE 184與二苯甲酮的混合物(1：1)；

IRGACURE 1300：IRGACURE 369與IRGACURE 651的混合物(3：7)；

IRGACURE 1800：CGI403與IRGACURE 184的混合物(1：3)；

IRGACURE 1870：CGI403與IRGACURE 184的混合物(7：3)；

DAROCUR 4265：DAROCUR TPO與DAROCUR 1173的混合物(1：1)。

另外，IRGACURE為BASF公司製，DAROCUR為Merck Japan公司製。

又，在使用自由基光聚合起始劑作為上述交聯觸媒時，亦可併用二乙基噻噸酮、異丙基噻噸酮等作為敏化劑，並且亦可併用DAROCUR EDB(4-二甲基胺基苯甲酸乙酯)、DAROCUR EHA(4-二甲基胺基苯甲酸2-乙基己酯)等作為聚合促進劑。

使用上述敏化劑時，相對於上述硬化性樹脂或上述硬化性單體100質量份，敏化劑的摻合量較佳為0.1至5質量份。更佳為0.1至2質量份。

又，使用上述聚合促進劑時，相對於上述硬化性樹脂或上述硬化性單體100質量份，聚合促進劑的摻合量較佳為0.1至5質量份。更佳為0.1至2質量份。

上述產酸劑係藉由施加熱或光而產生酸的材料，可列舉：熱產酸劑、光產酸劑。在本發明中，較佳為光產酸劑。

上述熱產酸劑可列舉例如：苯偶姻甲苯磺酸酯、甲苯磺酸硝基苄基酯(尤其是甲苯磺酸4-硝基苄基酯)、其他有機磺酸的烷酯等。

上述光產酸劑係由「吸光之發色團」與「分解後成為酸之酸前驅物」所構成，藉由對於這種結構的光產酸劑照射特定波長的光，可激發光產酸劑而從酸前驅物部分來產生酸。

上述光產酸劑可列舉例如：重氮鹽、鏻鹽、鋶鹽、碘鹽、CF₃SO₃、p-CH₃PhSO₃、p-NO₂PhSO₃(其中，Ph為苯基)等鹽、有機鹵化合物、鄰醌二疊氮磺醯氯或磺酸酯等。此外，光產酸劑亦可列舉：2-鹵甲基-5-乙烯基-1,3,4-噁二唑化合物、2-三鹵甲基-5-芳基-1,3,4-噁二唑化合物、2-三鹵甲基-5-羥基苯基-1,3,4-噁二唑化合物等。另外，上述有機鹵化合物係形成氫鹵酸(例如氯化氫)的化合物。

上述光產酸劑的市售產品係例示如下。

和光純藥工業公司製的WPAG-145[雙(環己基磺醯基)重氮甲烷]、WPAG-170[雙(第三丁基磺醯基)重氮甲烷]、WPAG-199[雙(對甲苯磺醯基)重氮甲烷]、WPAG-281[三氟甲磺酸三苯基鋶]、WPAG-336[三氟甲磺酸三苯基鋶二苯基-4-甲基苯基鋶]、WPAG-367[對甲苯磺酸二苯基-2,4,6-三甲基苯基鋶]、Ciba Specialty Chemicals公司製的IRGACURE PAG103[(5-丙基磺醯氧基亞胺基-5H-噻吩-2-亞基)-(2-甲基苯基)乙腈]、IRGACURE PAG108[(5-辛基磺醯氧基亞胺基-5H-噻吩-2-亞基)-(2-甲基苯基)乙腈)]、IRGACURE PAG121[5-對甲苯磺醯氧基亞胺基-5H-噻吩-2-亞基-(2-甲基苯基)乙腈]、IRGACURE PAG203、CGI725、三和化學公司製的TFE-三嗪[2-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪]、TME-三嗪[2-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-雙(三-氯甲基)-s-三嗪]MP-三嗪[2-(甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪]、二甲氧基[2-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-4,6-雙(三-氯甲基)-s-三嗪]。

相對於上述硬化性樹脂或上述硬化性單體100質量份，上述交聯觸媒的摻合量較佳為0.1至10質量份。若在這樣的範圍內，可得到充分的硬化體。上述交聯觸媒的摻合量更佳為0.3至5質量份，再佳為0.5至2質量份。

又，使用上述產酸劑作為上述交聯觸媒時，可因應需求添加酸捕捉劑，藉此亦可控制由上述產酸劑所產生之酸的擴散。

上述酸捕捉劑並無特別限制，較佳為胺(尤其是有機胺)、鹼性的銨鹽、鹼性的鋶鹽等鹼性化合物。此等酸捕捉劑之中，從影像性能優良的觀點來看，更佳為有機胺。

上述酸捕捉劑具體可列舉：1,5-二氮雜雙環[4.3.0]-5-壬烯、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一烯、1,4-二氮雜雙環[2.2.2]辛烷、4-二甲基胺基吡啶、1-萘胺、哌啶、六亞甲基四胺、咪唑類、羥基吡啶類、吡啶類、4,4’-二胺基二苯醚、對甲苯磺酸吡啶鎓、對甲苯磺酸2,4,6-三甲基吡啶鎓、對甲苯磺酸四甲基銨及乳酸四丁基銨、三乙胺、三丁胺等。此等之中，較佳為1,5-二氮雜雙環[4.3.0]-5-壬烯、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一烯、1,4-二氮雜雙環[2.2.2]辛烷、4-二甲基胺基吡啶、1-萘胺、哌啶、六亞甲基四胺、咪唑類、羥基吡啶類、吡啶類、4,4’-二胺基二苯醚、三乙胺、三丁胺等有機胺。

相對於上述產酸劑100質量份，上述酸捕捉劑的摻合量較佳為20質量份以下，更佳為0.1至10質量份，再佳為0.5至5質量份。

組成物(b)亦可為含有溶劑者。上述溶劑可列舉：水溶性有機溶劑、有機溶劑(尤其是油溶性有機溶劑)、水等。

上述水溶性有機溶劑可列舉例如：丙酮、甲基乙基酮、甲基戊基酮、乙酸乙酯、丙二醇、丙烯二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)、二丙二醇、二丙二醇單甲醚、二丙二醇二甲醚、二丙二醇單甲醚乙酸酯、二丙二醇二乙酸酯、三丙二醇、3-甲氧基丁基乙酸酯(MBA)、1,3-丁二醇二乙酸酯、環己醇乙酸酯、二甲基甲醯胺、二甲基亞碸、甲基賽路蘇、賽路蘇乙酸酯、丁基賽路蘇、丁基卡必醇、卡必醇乙酸酯、乳酸乙酯、異丙醇、甲醇、乙醇等。

上述有機溶劑可列舉例如：氯仿、HFC141b、HCHC225、氫氟醚、戊烷、己烷、庚烷、辛烷、環己烷、苯、甲苯、二甲苯、石油醚、四氫呋喃、1,4-二

烷、甲基異丁基酮、乙酸丁酯、1,1,2,2-四氯乙烷、1,1,1-三氯乙烷、三氯乙烯、全氯乙烯、四氯二氟乙烷、三氯三氟乙烷等。此等溶劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用。

從阻劑組成物所包含之成分的溶解性、安全性的觀點來看，上述溶劑特佳為PGMEA、MBA。

上述溶劑在組成物(b)中較佳係在10至95質量%的範圍內使用。更佳為20至90質量%。

例如，藉由將組成物(b)塗布於基材，可形成阻劑膜。上述基材的材料可列舉合成樹脂等。

上述合成樹脂可列舉例如：三乙醯基纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(EVA)等聚烯烴、環狀聚烯烴、改質聚烯烴、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚碳酸酯、聚-(4-甲基戊烯-1)、離子聚合物、丙烯酸系樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸-苯乙烯共聚物(AS樹脂)、丁二烯-苯乙烯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物(EVOH)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚對苯二甲酸環己酯(PCT)等聚酯、聚醚、聚醚酮(PEK)、聚醚醚酮(PEEK)、聚醚醯亞胺、聚縮醛(POM)、聚伸苯醚、改質聚伸苯醚、聚芳酯、芳香族聚酯(液晶聚合物)、聚四氟乙烯、聚偏氟乙烯、其他氟系樹脂、苯乙烯系、聚烯烴系、聚氯乙烯系、聚胺基甲酸酯系、氟橡膠系、氯化聚乙烯系等各種熱塑性彈性體、環氧樹脂、酚樹脂、脲樹脂、三聚氰胺樹脂、不飽和聚酯、聚矽氧樹脂、聚胺基甲酸酯等或以此等為主的共聚物、摻合物、聚合物合金等，亦可將此等中的1種或2種以上予以組合(例如作為2層以上的積層體)來使用。

上述阻劑膜可用於奈米壓印(nanoimprint)。例如，藉由包含下述步驟的製造方法而可得到轉印有圖案的阻劑硬化物：將表面形成有微細圖案的模具按壓於上述阻劑膜而轉印微細圖案的步驟；使形成有該轉印圖案的上述阻劑膜硬化而得到具有轉印圖案之阻劑硬化物的步驟；及將該阻劑硬化物從模具脫模的步驟。

本揭示的化合物亦可與溶劑一起使用。以「包含上述化合物及溶劑」為特徵的組成物亦為本發明之一(本說明書中有時稱為組成物(c))。

組成物(c)中，上述化合物的濃度較佳為0.001至5.0質量%，更佳為0.005至1.0質量%，再佳為0.01至0.5質量%。

上述溶劑較佳為氟系溶劑。上述氟系非活性溶劑可列舉例如：全氟己烷、全氟甲基環己烷、全氟-1,3-二甲基環己烷、二氯五氟丙烷(HCFC-225)等。

組成物(c)較佳係含有含氟油。上述含氟油更佳為下式表示的化合物：

R¹¹¹-(R¹¹²O)_m-R¹¹³(R¹¹¹及R¹¹³獨立地為F、碳數1至16的烷基、碳數1至16的氟化烷基，-R¹¹⁴-X¹¹¹(R¹¹⁴為單鍵或碳數1至16的伸烷基，X¹¹¹為-NH₂、-OH、-COOH、-CH=CH₂、-OCH₂CH=CH₂、鹵素、磷酸、磷酸酯、羧酸酯、硫醇、硫醚、烷醚(亦可經氟取代)、芳基、芳醚、醯胺)，R¹¹²為碳數1至4的氟化伸烷基，m為2以上的整數)。

R¹¹¹及R¹¹³較佳係獨立地為F、碳數1至3的烷基、碳數1至3的氟化烷基或R¹¹⁴-X¹¹¹(R¹¹⁴及X¹¹¹如上所述)，更佳為F、碳數1至3的完全氟化烷基或R¹¹⁴-X¹¹¹(R¹¹⁴為單鍵或碳數1至3的伸烷基，X¹¹¹為-OH或OCH₂CH=CH₂)。

m較佳為300以下的整數，更佳為100以下的整數。

R¹¹²較佳為碳數1至4的完全氟化伸烷基。-R¹¹²O-可列舉例如下式表示者：

-(CX¹¹² ₂CF₂CF₂O)_n111(CF(CF₃)CF₂O)_n112(CF₂CF₂O)_n113(CF₂O)_n114(C₄F₈O)_n115-

(n111、n112、n113、n114及n115獨立地為0或1以上的整數，X¹¹²為H、F或Cl，各重複單元的存在順序為任意)，

式：-(OC₂F₄-R¹¹⁸)_f-

(R¹¹⁸為選自OC₂F₄、OC₃F₆及OC₄F₈中之基，f為2至100的整數)等。

n111至n115分別較佳為0至200的整數。n111至n115總計較佳為1以上，更佳為5至300，再佳為10至200，特佳為10至100。

R¹¹⁸為選自OC₂F₄、OC₃F₆及OC₄F₈中之基，或是獨立地選自此等基中的2或3個基的組合。獨立地選自OC₂F₄、OC₃F₆及OC₄F₈中的2或3個基的組合並無特別限定，可列舉例如：-OC₂F₄OC₃F₆-、-OC₂F₄OC₄F₈-、-OC₃F₆OC₂F₄-、-OC₃F₆OC₃F₆-、-OC₃F₆OC₄F₈-、-OC₄F₈OC₄F₈-、-OC₄F₈OC₃F₆-、-OC₄F₈OC₂F₄-、-OC₂F₄OC₂F₄OC₃F₆-、-OC₂F₄OC₂F₄OC₄F₈-、-OC₂F₄OC₃F₆OC₂F₄-、-OC₂F₄OC₃F₆OC₃F₆-、-OC₂F₄OC₄F₈OC₂F₄-、-OC₃F₆OC₂F₄OC₂F₄-、-OC₃F₆OC₂F₄OC₃F₆-、-OC₃F₆OC₃F₆OC₂F₄-及OC₄F₈OC₂F₄OC₂F₄-等。上述f為2至100的整數，較佳為2至50的整數。上述式中，OC₂F₄、OC₃F₆及OC₄F₈可為直鏈或支鏈的任一者，較佳為直鏈。此態樣中，式：-(OC₂F₄-R¹¹⁸)_f-較佳為式：-(OC₂F₄-OC₃F₆)_f-或式：-(OC₂F₄-OC₄F₈)_f-。

上述氟聚醚的重量平均分子量較佳為500至100000，更佳為50000以下，再佳為10000以下，特佳為6000以下。上述重量平均分子量可依據凝膠滲透層析法(GPC；Gel Permeation Chromatography)進行測量。

市售的上述氟聚醚可列舉：商品名稱DEMNUM(大金工業公司製)、Fomblin(Solvay Specialty Polymers Japan公司製)、BARRIERTA(NOK KLUBER公司製)、Krytox(杜邦公司製)等。

相對於本揭示之式(1)及(2)表示的化合物(若為2種以上的情況則為其總和)，上述含氟油例如可含有50質量%以下，較佳為30質量%以下。一態樣中，相對於本揭示的式(1)及(2)表示的化合物(若為2種以上的情況則為其總和)，上述含氟油例如可含有0.1質量%以上，較佳為1質量%以上，例如5質量%以上。

可使用組成物(c)在基材上形成脫模層。上述脫模層之製法可列舉：將上述基材浸漬於組成物(c)的方法、將上述基材暴露於組成物(c)的蒸氣而進行蒸鍍的方法、將上述組成物(c)印刷於上述基材的方法、使用噴墨將上述組成物(c)塗布於上述基材的方法等。亦可在上述浸漬、上述蒸鍍、上述印刷、上述塗布之後進行乾燥。可使用形成有凹凸圖案之模具作為上述基材，形成有脫模層的上述模具係可用於奈米壓印。

上述基材可列舉例如樹脂，例如聚矽氧等高分子樹脂等。

本揭示亦提供一種防污劑，其特徵為含有上述化合物或上述組成物。

上述防污劑可塗布於樹脂(尤其是非氟樹脂)而使用。

上述防污劑可使用於需要表面防污性、膨潤性的各種物品(尤其是光學材料)。物品的例子可列舉：PDP、LCD等顯示器之前表面保護板、抗反射板、偏光板、防眩板；折疊式顯示器、可捲式顯示器及彎曲顯示器之外蓋；行動電話、行動資訊終端等設備；觸控面板片；DVD碟、CD-R、MO等光碟；眼鏡鏡片；光纖；殼體；汽車之內裝物品(具體為汽車內部的坐墊及其內側、車內頂板、牆面及地板、儀表盤及其下部、駕駛座周邊的面板、開關、桿等、後車箱的內部)等。

光碟等光學材料較佳係在表面塗布被膜，該被膜係藉由在含有碳-碳雙鍵之組成物中或由含有碳-碳雙鍵之組成物所構成之聚合物中，以使含有碳-碳雙鍵之組成物及含有碳-碳雙鍵之單體的聚合物中的全氟聚醚(PFPE)含量成為0.01重量%至10重量%的方式添加而成的被膜。在為0.01重量%至10重量%時，可展現添加PFPE的特徵物性(防污等)，使表面硬度高且穿透率高。

本揭示亦為一種脫模劑，其特徵為包含本揭示的化合物或本揭示的組成物。

由上述脫模劑可在基材上形成脫模層。上述脫模層之製法可列舉：將上述基材浸漬於上述脫模劑的方法、將上述基材暴露於上述脫模劑之蒸氣而進行蒸鍍的方法、將上述組成物印刷於上述基材上的方法、使用噴墨將上述組成物塗布於上述基材上的方法等。亦可在上述浸漬、上述蒸鍍、上述印刷、上述塗布之後進行乾燥。可使用形成有凹凸圖案的模具作為上述基材，形成有脫模層的上述模具係可用於奈米壓印。

上述基材可列舉例如：金屬、金屬氧化物、石英、聚矽氧等高分子樹脂、半導體、絕緣體或此等之複合物等。

表面處理層的厚度並無特別限定。在為光學構件的情況下，從光學性能、表面平滑性、摩擦耐久性及防污性的觀點來看，表面處理層的厚度較佳為0.05至60μm，較佳為0.1至30μm，更佳為0.5至20μm的範圍。

上述本揭示的組成物(a)至(c)係作為所謂的表面處理劑來使用。

以上詳述使用本揭示之表面處理劑所得之物品。另外，本揭示的表面處理劑的用途、使用方法或物品的製造方法等並不限於上述例示者。

[實施例]

以下依據實施例說明本揭示，但本揭示不限於以下的實施例。另外，本實施例中，以下所示之聚合物的化學式皆顯示平均組成，構成全氟聚醚的重複單元((CF₂CF₂CF₂O)、(CF₂CF₂O)、(CF₂O))的存在順序為任意。

合成例1：包含PFPE之化合物(A)的製造

以CF₃CF₂CF₂O-(CF₂CF₂CF₂O)₂₅-CF₂CF₂CH₂OH為起始物質，依照WO 2018/056413 A1所述之方法，合成以下的含全氟聚醚(PFPE)之化合物(A)。

包含PFPE之化合物(A)：

合成例2：包含PFPE之化合物(B)的製造

使10.2g的包含PFPE之化合物(A)溶解於20g的六氟間二甲苯，加入1.16g的四甲基二矽氧烷，於25℃攪拌30分鐘。然後加入含有2%的1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷之Pt錯合物的二甲苯溶液0.10ml後，於60℃加熱攪拌5小時。之後進行活性碳處理，在減壓下餾除低沸點的揮發成分，得到10.1g的下述包含PFPE之化合物(B)。

包含PFPE之化合物(B)：

合成例3：包含PFPE之化合物(C)的製造

使10.0g的上述所得之包含PFPE之化合物(B)溶解於25g的六氟間二甲苯，加入0.96g的烯丙基環氧丙醚，於25℃攪拌30分鐘。然後，加入含有2%的1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷之Pt錯合物的二甲苯溶液0.10ml後，於70℃加熱攪拌5小時。之後進行活性碳處理，在減壓下餾除低沸點的揮發成分，藉此得到9.4g的下述包含PFPE之化合物(C)後，製備成以1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷與2-丁酮作為混合溶劑的20wt%溶液。

包含PFPE之化合物(C)：

合成例4：包含PFPE之化合物(D)的製造

加入0.63g的1,2-環氧-5-己烯以代替烯丙基環氧丙醚，除此之外，以與合成例3相同的方法得到9.1g的包含PFPE之化合物(D)後，製備成以1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷與2-丁酮作為混合溶劑的20wt%溶液。

包含PFPE之化合物(D)：

合成例5：包含PFPE之化合物(E)的製造

加入0.80g的1,2-環氧-4-乙烯基環己烷以代替烯丙基環氧丙醚，除此之外，以與合成例3相同的方法得到9.5g的包含PFPE之化合物(E)後，製備成以1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷與2-丁酮作為混合溶劑的20wt%溶液。

包含PFPE之化合物(E)：

合成例6：包含PFPE之化合物(F)的製造

使10.0g的包含PFPE之化合物(A)溶解於20g的六氟間二甲苯，加入4.39g的四甲基環四矽氧烷，於45℃攪拌30分鐘。然後，加入含有2%的1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷之Pt錯合物的二甲苯溶液0.14ml後，於75℃加熱攪拌5小時。之後進行活性碳處理，在減壓下餾除溶劑及過剩的四甲基環四矽氧烷，得到10.3g的下述包含PFPE之化合物(F)。

包含PFPE之化合物(F)：

合成例7：包含PFPE之化合物(G)的製造

使10.0g的包含PFPE之化合物(F)溶解於20g的六氟間二甲苯，加入2.67g的烯丙基環氧丙醚，於45℃攪拌30分鐘。然後，加入含有2%的1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷之Pt錯合物的二甲苯溶液0.18ml後，於80℃加熱攪拌5小時。之後進行活性碳處理，減壓餾除溶劑及過剩的烯丙基環氧丙醚。得到10.1g的下述包含PFPE之化合物(G)後，製備成以1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷與2-丁酮作為混合溶劑的20wt%溶液。

包含PFPE之化合物(G)：

合成例8：包含PFPE之化合物(H)的製造

以CF₃O-(CF₂CF₂O)_m(CF₂O)_n-CF₂CH₂OH(m=24，n=22)作為起始物質，依照WO 2018/056413 A1所述之方法，合成以下的包含全氟聚醚(PFPE)之化合物(H)。

包含PFPE之化合物(H)：

合成例9：包含PFPE之化合物(I)的製造

加入10.0g的包含PFPE之化合物(H)以代替10.0g的包含PFPE之化合物(A)，除此之外，以與合成例6相同的方法，得到10.2g的包含PFPE之化合物(I)。

包含PFPE之化合物(I)：

合成例10：包含PFPE之化合物(J)的製造

加入10.0g的包含PFPE之化合物(I)以代替10.0g的包含PFPE之化合物(F)，除此之外，以與合成例7相同的方法得到9.6g的包含PFPE之化合物(J)後，製備成以1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷與2-丁酮作為混合溶劑的20wt%溶液。

包含PFPE之化合物(J)：

合成例11：包含PFPE之化合物(K)的製造

以HOCH₂CF₂CF₂O-(CF₂CF₂CF₂O)₂₅-CF₂CF₂CH₂OH作為起始物質，依照WO 2018/056413 A1所述之方法，合成以下的包含全氟聚醚(PFPE)之化合物(K)。

包含PFPE之化合物(K)：

合成例12：包含PFPE之化合物(L)的製造

使9.0g的包含PFPE之化合物(K)溶解於18g的六氟間二甲苯，加入1.69g的四甲基二矽氧烷，於25℃攪拌30分鐘。然後加入含有2%的1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷之Pt錯合物的二甲苯溶液0.16ml後，於70℃加熱攪拌5小時。之後進行活性碳處理，在減壓下餾除低沸點的揮發成分，得到9.1g的下述包含PFPE之化合物(L)。

包含PFPE之化合物(L)：

合成例13：包含PFPE之化合物(M)的製造

使9.0g的上述所得之包含PFPE之化合物(L)溶解於18g的六氟間二甲苯，加入2.52g的烯丙基環氧丙醚，於25℃攪拌30分鐘。然後，加入含有2%的1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷之Pt錯合物的二甲苯溶液0.20ml後，於75℃加熱攪拌5小時。之後進行活性碳處理，在減壓下餾除低沸點的揮發成分，得到9.0g的下述包含PFPE之化合物(M)後，製備成以1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷與2-丁酮作為混合溶劑的20wt%溶液。

包含PFPE之化合物(M)：

比較化合物的合成例1

包含PFPE之化合物(N)的製備

以CF₃CF₂CF₂O-(CF₂CF₂CF₂O)₁₁-CF₂CF₂CH₂OH作為起始物質，依照WO 2018/056413 A1所述之方法，合成以下的包含全氟聚醚(PFPE)之化合物(N)。

包含PFPE之化合物(N)：

比較化合物的合成例2

包含PFPE之化合物(O)的製備

以HOCH₂CF₂O-(CF₂CF₂O)_m(CF₂O)_n-CF₂CH₂OH(m=24，n=22)作為起始物質，依照日本專利第5939712號所述之方法，合成以下的包含全氟聚醚(PFPE)之化合物(O)。

包含PFPE之化合物(O)：

<評價>

(丙酮的相溶性試驗)

將上述所得之包含PFPE之化合物(C)、(D)、(E)、(G)、(J)、(M)及包含PFPE之化合物(N)、(O)以使各固體成分濃度為4.0wt%的方式與丙酮混合，以旋轉攪拌機攪拌2小時，目視確認混合液的狀態。評價基準如下。結果顯示於下述表1。

○：透明且均勻地溶解。

×：確認到混濁。

(塗布劑的製作)

成膜條件(1)：

將CELLOXIDE 2021P(3,4-環氧環己烷羧酸3,4-環氧環己基甲酯，Daicel公司製)溶解於2-丁酮，更進一步於其溶液中分別以相對於CELLOXIDE 2021P經固體成分濃度換算為1.0%的方式添加包含PFPE之化合物(C)、(D)、(E)、(G)、(J)、(M)及包含PFPE之化合物(N)、(O)，再者，同樣地添加經固體成分濃度換算為2.0%的作為光產酸劑之CPI-200K(San-Apro股份有限公司製)，得到50質量%的包含PFPE之塗布劑。

CELLOXIDE 2021P：

成膜條件(2)：

將雙酚A二環氧丙醚溶解於2-丁酮，更進一步於其溶液中分別以相對於雙酚A二環氧丙醚經固體成分濃度換算為1.0%的方式添加包含PFPE之化合物(C)、(D)、(E)、(G)、(J)、(M)及包含PFPE之化合物(N)、(O)，再者，同樣地添加經固體成分濃度換算為2.0%的作為光產酸劑之CPI-200K(San-Apro股份有限公司製)，得到50質量%的包含PFPE之塗布劑。

(硬化膜的作成與特性評價)

在PET膜(東洋紡股份有限公司製，Cosmoshine A4160)上，分別載置由上述成膜條件(1)、(2)所得之包含PFPE之塗布劑，以棒塗法形成均勻的塗膜。使所得之塗膜在70℃乾燥10分鐘，在空氣中以600mJ/cm²的強度照射包含365nm之UV光的光線，得到硬化膜(表面處理層)。針對所得之各硬化膜，評估初始特性如下。

(硬化膜的外觀)

以目視確認硬化膜的外觀。評估基準如下。結果顯示於表1。

○：透明

×：白化

<觸感的評估>

以食指按壓硬化膜的表面層，左右來回反復摩擦，藉此而評估指尖的觸感。評估基準如下。結果顯示於表1。

◎：極度平滑的感觸。

○：平滑的感觸。

×：移動指尖時會卡住而有阻力感。

<防污性的評估>

(水的靜態接觸角)

水的靜態接觸角係使用全自動接觸角計DropMaster700(協和界面科學股份有限公司製)並依據下述方法進行測量。

(靜態接觸角的測量方法)

從微注射器將3μL的水予以滴落至水平放置之基板上，以影像顯微鏡(Video Microscope)拍攝滴落1秒後的靜止畫面，求出靜態接觸角。針對水的靜態接觸角之測量值，係測量基材表面處理層的不同5點，算出其平均值以使用。針對各包含PFPE之塗布劑的硬化膜，予以測量初始值。結果顯示於表1。

(指紋附著性)

以手指按壓硬化膜，以目視判定附著指紋的容易性。評估基準如下。結果顯示於表1。

○：不易附著指紋，或是即使附著指紋亦不明顯。

×：明顯附著指紋。

(指紋擦除性)

在上述指紋附著性試驗後，以Kim Wipe(商品名稱，十條Kimberley股份有限公司製)來回擦拭附著的指紋5次，以目視判定附著之指紋的擦除容易性。評估基準如下。結果顯示於表1。

○：可將指紋完全擦除。

×：指紋的擦拭痕跡擴大，難以去除。

(脫模性的評價)

硬化膜的脫模性係以膠帶剝離試驗進行評估。評估基準如下。結果顯示於表1。

○：可輕易剝離、或不黏著。

×：膠帶的黏著層係附著。

[表1]

從實施例的結果可知，具有由「分別含有本揭示之包含PFPE的化合物(C)、(D)、(E)、(G)、(J)、(M)的塗布劑」所得之硬化膜的處理基材，顯示出完整的外觀、良好的觸感、高度的防污性，亦即特優良的撥水性，且指紋附著性優良、指紋擦除性優良，而且脫模性亦優良。另一方面，從比較例可知，具有由「分別含有包含PFPE之化合物(N)、(O)的塗布劑」所得之硬化膜的處理基材，無法滿足實施例中所示的所有評估項目，尤其撥水性無法得到充分的性能。

[產業上的利用可能性]

本揭示的含有氟聚醚基的環氧化物可廣泛地使用於各式各樣的基材的表面處理，該基材係例如：折疊式顯示器、可捲式顯示器及彎曲顯示器之外蓋；行動電話、行動資訊終端等設備；觸控面板片；汽車的內裝物品(具體為汽車內部的坐墊與其內側、車內頂板、牆面及地板、儀表盤與其下部、駕駛座周邊的面板、開關、桿等、後車箱的內部)等。

Claims

一種下式(1)或式(2)表示的化合物，

式中，

R^A分別獨立地為R^F1-X^a-、R^E _m-X^b-、或1價基，

R^F1為Rf¹-R^F-O_q-，

R^F2為-Rf² _p-R^F-O_q-，

Rf¹為可經1個以上的氟原子取代的C_1-16烷基，

Rf²為可經1個以上的氟原子取代的C_1-6伸烷基，

R^F分別獨立地為2價氟聚醚基，

p為0或1，

q分別獨立地為0或1，

X^a分別獨立地為單鍵或2價有機基，

R^E分別獨立地為含有環氧基之基，

X^b分別獨立地為含有矽氧烷鍵之2至9價基，

m分別獨立地為1至8的整數。
如請求項1所述之化合物，其中，R^F分別獨立地為下式表示之基，

-(OC₆F₁₂)_a-(OC₅F₁₀)_b-(OC₄F₈)_c-(OC₃R^Fa ₆)_d-(OC₂F₄)_e-(OCF₂)_f-

式中，

R^Fa在每次出現時分別獨立地為氫原子、氟原子或氯原子，

a、b、c、d、e及f分別獨立地為0至200的整數，a、b、c、d、e及f的和為1以上，標註a、b、c、d、e或f並以括弧括起的各重複單元在式中的存在順序為任意。
如請求項2所述之化合物，其中，R^Fa為氟原子。
如請求項1至3中任一項所述之化合物，其中，R^F在每次出現時分別獨立地為下式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)、(f5)或(f6)表示之基，

-(OC₃F₆)_d-(OC₂F₄)_e- (f1)

式中，d為1至200的整數，e為0或1；

-(OC₄F₈)_c-(OC₃F₆)_d-(OC₂F₄)_e-(OCF₂)_f- (f2)

式中，c及d分別獨立地為0至30的整數，

e及f分別獨立地為1至200的整數，

c、d、e及f的和為10至200的整數，

標註c、d、e或f並以括弧括起的各重複單元在式中的存在順序為任意；

-(R⁶-R⁷)_g- (f3)

式中，R⁶為OCF₂或OC₂F₄，

R⁷為選自OC₂F₄、OC₃F₆、OC₄F₈、OC₅F₁₀及OC₆F₁₂中之基，或是選自此等基中的2或3個基的組合，

g為2至100的整數；

-(R⁶-R⁷)_g-R^r-(R^7’-R^6’)_g’- (f4)

式中，R⁶為OCF₂或OC₂F₄，

R⁷為選自OC₂F₄、OC₃F₆、OC₄F₈、OC₅F₁₀及OC₆F₁₂中之基，或是獨立地選自此等基中的2或3個基的組合，

R^6’為OCF₂或OC₂F₄，

R^7’為選自OC₂F₄、OC₃F₆、OC₄F₈、OC₅F₁₀及OC₆F₁₂中之基，或是獨立地選自此等基中的2或3個基的組合，

g為2至100的整數，

g’為2至100的整數，

R^r為

式中，*表示鍵結位置；

-(OC₆F₁₂)_a-(OC₅F₁₀)_b-(OC₄F₈)_c-(OC₃F₆)_d-(OC₂F₄)_e-(OCF₂)_f- (f5)

式中，e為1以上200以下的整數，a、b、c、d及f分別獨立地為0以上200以下的整數，標註a、b、c、d、e或f並以括弧括起的各重複單元在式中的存在順序為任意；

-(OC₆F₁₂)_a-(OC₅F₁₀)_b-(OC₄F₈)_c-(OC₃F₆)_d-(OC₂F₄)_e-(OCF₂)_f- (f6)

式中，f為1以上200以下的整數，a、b、c、d及e分別獨立地為0以上200以下的整數，標註a、b、c、d、e或f並以括弧括起的各重複單元在式中的存在順序為任意。
如請求項1至4中任一項所述之化合物，其中，Rf¹在每次出現時分別獨立地為C_1-16全氟烷基，

Rf²在每次出現時分別獨立地為C_1-6全氟伸烷基。
如請求項1至5中任一項所述之化合物，其中，X^a分別獨立地為下式表示之基，

-(CX¹²¹X¹²²)_x1-(X^a1)_y1-(CX¹²³X¹²⁴)_z1-

式中，

X¹²¹至X¹²⁴分別獨立地為H、F、OH或-OSi(OR¹²¹)₃，式中，3個R¹²¹分別獨立地為碳數1至4的烷基；

X^a1為-C(=O)NH-、-NHC(=O)-、-O-、-C(=O)O-、-OC(=O)-、-OC(=O)O-或-NHC(=O)NH-，

x1為0至10的整數，y1為0或1，z1為1至10的整數。
如請求項1至6中任一項所述之化合物，其中，X^a分別獨立地為-(CH₂)_m22-表示之基，式中，m22為1至3的整數。
如請求項1至7中任一項所述之化合物，其中，R^E分別獨立地為下式表示之基，

-X^c-R^E1

式中，

X^c為單鍵或2價基，

R^E1為環氧基或脂環族環氧基。
如請求項8所述之化合物，其中，前述脂環族環氧基為下式表示之基，

式中，n為1至5的整數。
如請求項8或9所述之化合物，其中，X^c為下式表示之基，

-(C_aH_2a)_n1-(R⁵)_n2-

式中，

a在每個(C_aH_2a)單元中分別獨立地為1至6的整數，

R⁵分別獨立地為-O-、-C(=O)NH-、-NHC(=O)-、-C(=O)O-、-OC(=O)-、-OC(=O)O-或-NHC(=O)NH-，

n1為0至6的整數，

n2為0至6的整數，

標註n1及n2並以括弧括起的各重複單元在式中的存在順序為任意。
如請求項8至10中任一項所述之化合物，其中，X^c為下式表示之基，

-(C_aH_2a)_n3-(R⁵)_n2-(C_aH_2a)_n4-

式中，

a在每個(C_aH_2a)單元中分別獨立地為1至6的整數，

R⁵為-O-，

n2為0或1，

n3為0或1，

n4為0或1，

n2、n3及n4中的至少一者為1。
如請求項1至11中任一項所述之化合物，其中，X^b分別獨立地為下式表示之基，

-X^d-R^S-

式中，

X^d為單鍵或2價基，

R^S為2至9價矽氧烷基。
如請求項12所述之化合物，其中，R^S為下式(s1)、(s2)或(s3)表示之基，

式中，

R³分別獨立地為氫原子或C_1-6烷基，

R⁴為單鍵、氫原子或C_1-6烷基，

m1為1至20的整數，

m2為1至8的整數，

m3為0至12的整數，

以括弧括起的各單元在式中的存在順序為任意，

標註*的鍵結鍵係鍵結於X^d。
如請求項12或13所述之化合物，其中，R^S為下式(s1)或(s3’)表示之基，

式中，

R³分別獨立地為氫原子或C_1-6烷基，

m1為1至20的整數，

m2為3至5的整數，

標註*的鍵結鍵係鍵結於X^d。
如請求項12至14中任一項所述之化合物，其中，X^d為下式表示之基，

-(C_bH_2b)_r1-(R¹⁰)_r2-

式中，

b在每個(C_bH_2b)單元中分別獨立地為1至6的整數，

R¹⁰分別獨立地為-O-、-C(=O)NH-、-NHC(=O)-、-C(=O)O-、-OC(=O)-、-OC(=O)O-或-NHC(=O)NH-，

r1為0至6的整數，

r2為0至6的整數，

標註r1及r2並以括弧括起的各重複單元在式中的存在順序為任意。
如請求項12至15中任一項所述之化合物，其中，X^d為下式表示之基，

-C_bH_2b-

式中，b為1至6的整數。
如請求項1至16中任一項所述之化合物，其中，m分別獨立地為1至3的整數。
如請求項1至17中任一項所述之化合物，其中，R^A分別獨立地為R^E _m-X^b-。
一種表面處理劑，係包含：1種以上的請求項1至18中任一項所述之化合物。
一種硬化性組成物，係包含：請求項1至18中任一項所述之化合物、或請求項19所述之表面處理劑；以及

形成基質的組成物。
一種物品，係包含：基材；以及該基材的表面上的由請求項19所述之表面處理劑或請求項20所述之硬化性組成物所形成的層。
如請求項21所述之物品，其中，上述物品為光學構件。