JP7239866B1 - フルオロポリエーテル基含有エポキシ化合物 - Google Patents

Abstract

【課題】高い撥水性を有する表面処理層を与えることができるフルオロポリエーテル基含有エポキシ化合物の提供。【解決手段】具体的には、例えば下記構造式で表される化合物であり、パーフルオロエーテルポリマーとエポキシ基が置換したイソシアヌル酸構造で表されるフルオロポリエーテル基含有エポキシ化合物。TIFF0007239866000044.tif29124【選択図】なし

Description

本開示は、フルオロポリエーテル基含有エポキシ化合物及び該フルオロポリエーテル基含有エポキシ化合物を含有する組成物に関する。

ある種の含フッ素化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。このような含フッ素化合物として、機能性部位としてフルオロポリエーテル基を有し、反応性部位としてエポキシ基を有する含フッ素化合物（特許文献１）が知られている。

特開２０１４－８０５３４号公報

上記した特許文献１に記載の含フッ素化合物は、基材に撥水性を与えうるが、さらなる撥水性の向上が求められている。

本開示は、高い撥水性を有する表面処理層を与えることができるフルオロポリエーテル基含有エポキシ化合物を提供することを目的とする。

本開示は、以下の態様を含む。
［１］ 下記式（１）又は式（２）：

［式中：
Ｒ^Ａは、それぞれ独立して、Ｒ^Ｆ１－Ｘ^ａ－、Ｒ^Ｅ _ｍ－Ｘ^ｂ－、又は１価の基であり、
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり、
Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、
Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり、
ｐは、０又は１であり、
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
Ｘ^ａは、それぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり、
Ｒ^Ｅは、それぞれ独立して、エポキシ基を含有する基であり、
Ｘ^ｂは、それぞれ独立して、シロキサン結合を含む２～９価の基であり、
ｍは、それぞれ独立して、１～８の整数である。］
で表される化合物。
［２］ Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中：
Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］に記載の化合物。
［３］ Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、上記［２］に記載の化合物。
［４］ Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）又は（ｆ６）：
－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは、０又は１である。］、
－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり；
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇは、２～１００の整数である。］、
－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－ （ｆ４）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数であり、
ｇ’は、２～１００の整数であり、
Ｒ^ｒは、

（式中、＊は、結合位置を示す。）
である。］；
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］～［３］のいずれか１項に記載の化合物。
［５］ Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基であり、
Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基である、
上記［１］～［４］のいずれか１項に記載の化合物。
［６］ Ｘ^ａは、それぞれ独立して、下記式：
－（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｘ１－（Ｘ^ａ１）_ｙ１－（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｚ１－
［式中、
Ｘ^１２１～Ｘ^１２４は、それぞれ独立して、Ｈ、Ｆ、ＯＨ、又は、－ＯＳｉ（ＯＲ^１２１）_３（式中、３つのＲ^１２１は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基である。）であり、
Ｘ^ａ１は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、又は、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－であり、
ｘ１は０～１０の整数であり、ｙ１は０又は１であり、ｚ１は１～１０の整数である。］
で表される基である、上記［１］～［５］のいずれか１項に記載の化合物。
［７］ Ｘ^ａは、それぞれ独立して、－（ＣＨ_２）_ｍ２２－（式中、ｍ２２は１～３の整数である。）で表される基である、上記［１］～［６］のいずれか１項に記載の化合物。
［８］ Ｒ^Ｅは、それぞれ独立して、下記式：
－Ｘ^ｃ－Ｒ^Ｅ１
［式中、
Ｘ^ｃは、単結合、又は２価の基であり、
Ｒ^Ｅ１は、エポキシ基、又は脂環式エポキシ基である。］
で表される基である、上記［１］～［７］のいずれか１項に記載の化合物。
［９］ 前記脂環式エポキシ基は、下記式：

［式中、ｎは、１～５の整数である。］
で表される基である、上記［８］に記載の化合物。
［１０］ Ｘ^ｃは、下記式：
－（Ｃ_ａＨ_２ａ）_ｎ１－（Ｒ^５）_ｎ２－
［式中、
ａは、（Ｃ_ａＨ_２ａ）単位毎にそれぞれ独立して、１～６の整数であり、
Ｒ^５は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、又は、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－であり、
ｎ１は、０～６の整数であり、
ｎ２は、０～６の整数であり、
ｎ１及びｎ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［８］又は［９］に記載の化合物。
［１１］ Ｘ^ｃは、下記式：
－（Ｃ_ａＨ_２ａ）_ｎ３－（Ｒ^５）_ｎ２－（Ｃ_ａＨ_２ａ）_ｎ４－
［式中、
ａは、（Ｃ_ａＨ_２ａ）それぞれ独立して、１～６の整数であり、
Ｒ^５は、－Ｏ－であり、
ｎ２は、０又は１であり、
ｎ３は、０又は１であり、
ｎ４は、０又は１であり、
ｎ２、ｎ３及びｎ４の少なくとも１つは１である。］
で表される基である、上記［８］～［１０］のいずれか１項に記載の化合物。
［１２］ Ｘ^ｂは、それぞれ独立して、下記式：
－Ｘ^ｄ－Ｒ^Ｓ－
［式中、
Ｘ^ｄは、単結合、又は２価の基であり、
Ｒ^Ｓは、２～９価のシロキサン基である。］
で表される基である、上記［１］～［１１］のいずれか１項に記載の化合物。
［１３］ Ｒ^Ｓは、下記式（ｓ１）、（ｓ２）、又は（ｓ３）：

［式中、
Ｒ^３は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、
Ｒ^４は、単結合、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、
ｍ１は、１～２０の整数であり、
ｍ２は、１～８の整数であり、
ｍ３は、０～１２の整数であり、
括弧でくくられた各単位の存在順序は式中において任意であり、
＊を付した結合手が、Ｘ^ｄに結合する。］
で表される基である、上記［１２］に記載の化合物。
［１４］ Ｒ^Ｓは、下記式（ｓ１）又は（ｓ３’）：

［式中、
Ｒ^３は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、
ｍ１は、１～２０の整数であり、
ｍ２は、３～５の整数であり、
＊を付した結合手が、Ｘ^ｄに結合する。］
で表される基である、上記［１２］又は［１３］に記載の化合物。
［１５］ Ｘ^ｄは、下記式：
－（Ｃ_ｂＨ_２ｂ）_ｒ１－（Ｒ^１０）_ｒ２－
［式中、
ｂは、（Ｃ_ｂＨ_２ｂ）単位毎にそれぞれ独立して、１～６の整数であり、
Ｒ^１０は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、又は、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－であり
ｒ１は、０～６の整数であり、
ｒ２は、０～６の整数であり、
ｒ１及びｒ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１２］～［１４］のいずれか１項に記載の化合物。
［１６］ Ｘ^ｄは、下記式：
－Ｃ_ｂＨ_２ｂ－
［式中、
ｂは、１～６の整数である。］
で表される基である、上記［１２］～［１５］のいずれか１項に記載の化合物。
［１７］ ｍは、それぞれ独立して、１～３の整数である、上記［１］～［１６］のいずれか１項に記載の化合物。
［１８］ Ｒ^Ａは、それぞれ独立して、Ｒ^Ｅ _ｍ－Ｘ^ｂ－である、上記［１］～［１７］のいずれか１項に記載の化合物。
［１９］ １種又はそれ以上の上記［１］～［１８］のいずれか１項に記載の化合物を含む、表面処理剤。
［２０］ 上記［１］～［１８］のいずれか１項に記載の化合物または上記［１９］に記載の表面処理剤；および
マトリックスを形成する組成物
を含む、硬化性組成物。
［２１］ 基材と、該基材の表面に上記［１９］に記載の表面処理剤あるいは上記［２０］に記載の硬化性組成物により形成された層とを含む物品。
［２２］ 上記物品が光学部材である、上記［２１］に記載の物品。

本開示のフルオロポリエーテル基含有エポキシ化合物は、高い撥水性を有する表面処理層を与えることができる。

本明細書において用いられる場合、「有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に記載が無い限り、炭化水素基又はその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端又は分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、スルホキシド、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。また、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ_１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれであってもよく、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基及び５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。

以下、本開示のフルオロポリエーテル基含有エポキシ化合物について説明する。

本開示は、下記式（１）又は式（２）：

［式中：
Ｒ^Ａは、それぞれ独立して、Ｒ^Ｆ１－Ｘ^ａ－、Ｒ^Ｅ _ｍ－Ｘ^ｂ－、又は１価の基であり、
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり、
Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、
Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり、
ｐは、０又は１であり、
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
Ｘ^ａは、それぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり、
Ｒ^Ｅは、それぞれ独立して、エポキシ基を含有する基であり、
Ｘ^ｂは、それぞれ独立して、シロキサン結合を含む２～９価の基であり、
ｍは、それぞれ独立して、１～８の整数である。］
で表される化合物を提供する。

上記式（１）において、Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

上記式（２）において、Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

上記式において、Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基である。

上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基における「Ｃ_１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基である。

上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ－Ｃ_１－１５ペルフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－１６ペルフルオロアルキル基である。

上記Ｃ_１－１６ペルフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－６ペルフルオロアルキル基、特にＣ_１－３ペルフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６ペルフルオロアルキル基、特にＣ_１－３ペルフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_３、－ＣＦ_２ＣＦ_３、又はＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式において、Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基である。

上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基における「Ｃ_１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３アルキレン基である。

上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－３パーフルオロアルキレン基である。

上記Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基、具体的には－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、又はＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－である。

上記式において、ｐは、０又は１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

上記式において、ｑは、０又は１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

上記式（１）及び（２）において、Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。

Ｒ^Ｆは、好ましくは、下記：
－（ＯＣ_ｈ１Ｒ^Ｆａ _２ｈ１）_ｈ３－（ＯＣ_ｈ２Ｒ^Ｆａ _{２ｈ２－２}）_ｈ４－
［式中：
Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
ｈ１は、１～６の整数であり、
ｈ２は、４～８の整数であり、
ｈ３は、０以上の整数であり、
ｈ４は、０以上の整数であり、
だたし、ｈ３とｈ４の合成は、１以上、好ましくは２以上、より好ましくは５以上であり、ｈ３及びｈ４を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基を含み得る。

一の態様において、Ｒ^Ｆは、直鎖状、又は分枝鎖状であり得る。Ｒ^Ｆは、好ましくは、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中：
Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。

Ｒ^Ｆａは、好ましくは、水素原子又はフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下又は３０以下であってもよい。

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよい。例えば、上記繰り返し単位は、－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－（即ち、上記式中、Ｒ^Ｆａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。

一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩擦耐久性等を向上させることができる。

一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。

一の態様において、Ｒ^Ｆは、環構造を含み得る。

上記環構造は、下記三員環、四員環、五員環、又は六員環であり得る。

［式中、＊は、結合位置を示す。］

上記環構造は、好ましくは四員環、五員環、又は六員環、より好ましくは四員環、又は六員環であり得る。

環構造を有する繰り返し単位は、好ましくは、下記の単位であり得る。

［式中、＊は、結合位置を示す。］

一の態様において、Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）～（ｆ６）のいずれかで表される基である。
－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］；
－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数である。］；
－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－ （ｆ４）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数であり、
ｇ’は、２～１００の整数であり、
Ｒ^ｒは、

（式中、＊は、結合位置を示す。）
である。］；
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。一の態様において、ｅは、１である。別の態様において、ｅは０である。上記式（ｆ１）における（ＯＣ_３Ｆ_６）は、好ましくは、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））又は（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）で表される基であり、より好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－で表される基である。上記式（ｆ１）における（ＯＣ_２Ｆ_４）は、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）、又は（ＯＣＦ（ＣＦ_３））で表される基であり、好ましくは、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）で表される基である。

上記式（ｆ２）において、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基であってもよい。

上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、及びＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ－又は（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ－である。

上記式（ｆ４）において、Ｒ^６、Ｒ^７及びｇは、上記式（ｆ３）の記載と同意義であり、同様の態様を有する。Ｒ^６’、Ｒ^７’及びｇ’は、それぞれ、上記式（ｆ３）に記載のＲ^６、Ｒ^７及びｇと同意義であり、同様の態様を有する。Ｒ^ｒは、好ましくは、

［式中、＊は、結合位置を示す。］
であり、より好ましくは

［式中、＊は、結合位置を示す。］
である。

上記式（ｆ５）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

上記式（ｆ６）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ１）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ２）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ３）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ４）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ５）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ６）で表される基である。

上記Ｒ^Ｆにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５であり、さらにより好ましくは０．２～０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性及び耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性及び摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９５であり、より好ましくは０．２～０．９である。

一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０～２．０である。

上記フルオロポリエーテル基含有化合物において、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

別の態様において、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～６，０００であり得る。

別の態様において、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２の数平均分子量は、４，０００～３０，０００、好ましくは５，０００～１０，０００、より好ましくは６，０００～１０，０００であり得る。

上記式（１）及び（２）において、Ｘ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基である。

Ｘ^ａは、式（１）及び（２）のイソシアヌル環に結合する単結合又は２価の連結基である。Ｘ^ａとしては、単結合、アルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む２価の基が好ましく、単結合、炭素数１～１０のアルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１～１０の２価の炭化水素基がより好ましい。

Ｘ^ａとしては、下記式：
－（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｘ１－（Ｘ^ａ１）_ｙ１－（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｚ１－
（式中、Ｘ^１２１～Ｘ^１２４は、それぞれ独立して、Ｈ、Ｆ、ＯＨ、又は、－ＯＳｉ（ＯＲ^１２１）_３（式中、３つのＲ^１２１は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基である。）であり、
上記Ｘ^ａ１は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、又は、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－であり（各結合の左側がＣＸ^１２１Ｘ^１２２に結合する。）、
ｘ１は０～１０の整数であり、ｙ１は０又は１であり、ｚ１は１～１０の整数である。）
で表される基が更に好ましい。Ｘ^ａは、左側がイソシアヌル環に結合する。

Ｘ^ａ１としては、－Ｏ－又はＣ（＝Ｏ）Ｏ－が好ましい。

Ｘ^ａとしては、下記式：
－（ＣＦ_２）_ｍ１１－（ＣＨ_２）_ｍ１２－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｍ１３－
（式中、ｍ１１は１～３の整数であり、ｍ１２は１～３の整数であり、ｍ１３は１～３の整数である。）
で表される基、
－（ＣＦ_２）_ｍ１４－（ＣＨ_２）_ｍ１５－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）－（ＣＨ_２）_ｍ１６－
（式中、ｍ１４は１～３の整数であり、ｍ１５は１～３の整数であり、ｍ１６は１～３の整数である。）
で表される基、
－（ＣＦ_２）_ｍ１７－（ＣＨ_２）_ｍ１８－
（式中、ｍ１７は１～３の整数であり、ｍ１８は１～３の整数である。）
で表される基、
－（ＣＦ_２）_ｍ１９－（ＣＨ_２）_ｍ２０－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_３）－（ＣＨ_２）_ｍ２１－
（式中、ｍ１９は１～３の整数であり、ｍ２０は１～３の整数であり、ｍ２１は１～３の整数である。）
で表される基、又は、
－（ＣＨ_２）_ｍ２２－
（式中、ｍ２２は１～３の整数である。）
で表される基が特に好ましい。

Ｘ^ａとしては、特に限定されないが、具体的には、
－ＣＨ_２－、－Ｃ_２Ｈ_４－、－Ｃ_３Ｈ_６－、－Ｃ_４Ｈ_８－、－Ｃ_４Ｈ_８－Ｏ－ＣＨ_２－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２－、－（ＣＦ_２）_ｎ５－（ｎ５は０～４の整数である。）、－（ＣＦ_２）_ｎ５－（ＣＨ_２）_ｍ５－（ｎ５及びｍ５は、それぞれ独立して、０～４の整数である。）、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_３）ＣＨ_２－
等が挙げられる。

上記式（１）及び（２）において、Ｒ^Ｅは、それぞれ独立して、エポキシ基を含有する基である。

Ｒ^Ｅは、好ましくは、それぞれ独立して、下記式：
－Ｘ^ｃ－Ｒ^Ｅ１
［式中、
Ｘ^ｃは、単結合、又は２価の基であり、
Ｒ^Ｅ１は、エポキシ基、又は脂環式エポキシ基である。］
で表される基である。

上記脂環式エポキシ基は、好ましくは、下記式：

［式中、ｎは、１～５の整数、好ましくは１～３の整数である。］
で表される基である。

好ましい態様において、上記脂環式エポキシ基は、

であり、特に好ましくは、

である。

上記Ｘ^ｃは、単結合、又は２価の基である。

一の態様において、Ｘ^ｃは、下記式：
－（Ｃ_ａＨ_２ａ）_ｎ１－（Ｒ^５）_ｎ２－
［式中、
ａは、（Ｃ_ａＨ_２ａ）単位毎にそれぞれ独立して、１～６の整数であり、
Ｒ^５は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、又は、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－であり、
ｎ１は、０～６の整数であり、
ｎ２は、０～６の整数であり、
ｎ１及びｎ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。ここに、Ｘ^ｃは、右側がＲ^Ｅ１に結合する。

（Ｃ_ａＨ_２ａ）は、直鎖でも分枝鎖であってもよく、好ましくは直鎖である。

ａは、１～６の整数、好ましくは１～４の整数である。

Ｒ^５は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、又は、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－であり、好ましくは、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、又は－ＯＣ（＝Ｏ）－、より好ましくは－Ｏ－である。

ｎ１は、０～６の整数であり、好ましくは、１～３の整数であり、より好ましくは１又は２である。

一の態様において、ｎ１は０である。

別の態様において、ｎ１は１である。

別の態様において、ｎ１は２である。

ｎ２は、０～６の整数であり、好ましくは、０～２の整数であり、より好ましくは０又は１である。

一の態様において、ｎ２は０である。

別の態様において、ｎ２は１である。

一の態様において、ｎ１は１であり、ｎ２は０である。

別の態様において、ｎ１は２であり、ｎ２は１である。

好ましい態様において、Ｘ^ｃは、下記式：
－（Ｃ_ａＨ_２ａ）_ｎ３－（Ｒ^５）_ｎ２－（Ｃ_ａＨ_２ａ）_ｎ４－
［式中、
ａは、（Ｃ_ａＨ_２ａ）それぞれ独立して、１～６の整数、好ましくは１～４の整数であり、
Ｒ^５は、－Ｏ－であり、
ｎ２は、０又は１であり、
ｎ３は、０又は１であり、
ｎ４は、０又は１であり、
ｎ２、ｎ３及びｎ４の少なくとも１つは１である。］
で表される基である。

一の態様において、ｎ２は０であり、ｎ３は１であり、ｎ４は０である。

別の態様において、ｎ２は１であり、ｎ３は１であり、ｎ４は１である。

上記式（１）及び（２）において、Ｘ^ｂは、それぞれ独立して、シロキサン結合を含む２～９価の基である。

Ｘ^ｂは、好ましくは、それぞれ独立して、下記式：
－Ｘ^ｄ－Ｒ^Ｓ－
［式中、
Ｘ^ｄは、単結合、又は２価の基であり、
Ｒ^Ｓは、２～９価のシロキサン基である。］
で表される基である

Ｒ^Ｓは、好ましくは、下記式（ｓ１）、（ｓ２）、又は（ｓ３）：

［式中、
Ｒ^３は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、
Ｒ^４は、単結合、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、
ｍ１は、１～２０の整数であり、
ｍ２は、１～８の整数であり、
ｍ３は、０～１２の整数であり、
括弧でくくられた各単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。Ｒ^ｓは、＊の部分がＸ^ｄに結合し、他の結合手がＲ^Ｅに結合する。

Ｒ^３は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

Ｒ^４は、単結合、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、好ましくはＣ_１－６アルキル基である。単結合である場合、Ｒ^４が結合するＳｉは、直接Ｒ^Ｅに結合する。

上記Ｒ^３及びＲ^４におけるＣ_１－６アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは直鎖である。

上記Ｃ_１－６アルキル基は、好ましくはＣ_１－４アルキル基であり、より好ましくはメチル基である。

ｍ１は、１～２０の整数、好ましくは１～１０の整数、より好ましくは１～６の整数、さらに好ましくは１～３の整数である。

一の態様において、ｍ１は、１である。

別の態様において、ｍ１は、２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数、さらに好ましくは２又は３である。

ｍ２は、１～８の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは３～５の整数である。

一の態様において、ｍ２は、３又は４、好ましくは３である。

ｍ３は、０～１２の整数、好ましくは０～６の整数、より好ましくは０～４の整数である。

一の態様において、ｍ３は０である。

別の態様において、ｍ３は、１～１２の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～４の整数である。

一の態様において、ｍ２は、３又は４、好ましくは３であり、ｍ３は０である。

好ましい態様において、Ｒ^Ｓは、下記式（ｓ１）又は（ｓ３’）：

［式中、
Ｒ^３は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはメチル基であり、
ｍ１は、１～２０の整数、好ましくは１～１０の整数、より好ましくは１～６の整数、さらに好ましくは１～３の整数であり、
ｍ２は、３～５の整数、好ましくは３又は４、より好ましくは３である。］
で表される基である。Ｒ^ｓは、＊の部分がＸ^ｄに結合し、他の結合手がＲ^Ｅに結合する。

Ｘ^ｄは、下記式：
－（Ｃ_ｂＨ_２ｂ）_ｒ１－（Ｒ^１０）_ｒ２－
［式中、
ｂは、（Ｃ_ｂＨ_２ｂ）単位毎にそれぞれ独立して、１～６の整数であり、
Ｒ^１０は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、又は、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－であり
ｒ１は、０～６の整数であり、
ｒ２は、０～６の整数であり、
ｒ１及びｒ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。

（Ｃ_ｂＨ_２ｂ）は、直鎖でも分枝鎖であってもよく、好ましくは直鎖である。

ｂは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数である。

Ｒ^１０は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、又は、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－であり、好ましくは、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、又は－ＯＣ（＝Ｏ）－、より好ましくは－Ｏ－である。

ｒ１は、０～６の整数であり、好ましくは１又は２であり、より好ましくは１である。

ｒ２は、０～６の整数であり、好ましくは、０又は１であり、より好ましくは０である。

一の態様において、ｒ１は１であり、ｒ２は０である。

好ましい態様において、Ｘ^ｄは、下記式：
－Ｃ_ｂＨ_２ｄ－
［式中、
ｂは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数である。］
で表される基である。

上記式（１）及び（２）において、ｍは、１～８の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～４の整数である。

一の態様において、ｍは、１である。

別の態様において、ｍは、２～４の整数、好ましくは３又は４、より好ましくは３である。

上記式（１）及び（２）において、Ｒ^Ａは、それぞれ独立して、Ｒ^Ｆ１－Ｘ^ａ－、Ｒ^Ｅ _ｍ－Ｘ^ｂ－、又は１価の基である。かかる１価の基は、Ｒ^Ｆ１－Ｘ^ａ－、及びＲ^Ｅ _ｍ－Ｘ^ｂ－以外の基である。Ｒ^ＡがＲ^Ｆ１－Ｘ^ａ－である場合、式（１）及び（２）中にＲ^Ｆ１－Ｘ^ａ－が２つ存在するが、これらは同じであってもよく、異なっていてもよい。同様に、Ｒ^ＡがＲ^Ｅ _ｍ－Ｘ^ｂ－である場合、式（１）及び（２）中にＲ^Ｅ _ｍ－Ｘ^ｂ－が２つ以上存在するが、これらは同じであってもよく、異なっていてもよい。

上記１価の基は、好ましくは、水素原子、又は１価の有機基であり、より好ましくは水素原子又はＣ_１－６アルキル基である。

一の態様において、Ｒ^Ａは、Ｒ^Ｆ１－Ｘ^ａ－である。Ｒ^ＡをＲ^Ｆ１－Ｘ^ａ－とすることにより、本開示の化合物から得られる表面処理層の初期接触角がより高くなり得る。

別の態様において、Ｒ^Ａは、Ｒ^Ｅ _ｍ－Ｘ^ｂ－である。Ｒ^ＡをＲ^Ｅ _ｍ－Ｘ^ｂ－とすることにより、本開示の化合物から得られる表面処理層の耐久性がより高くなり得る。

別の態様において、Ｒ^Ａは、１価の基である。

上記式（１）及び（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有エポキシ化合物の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば１，０００～３０，０００、好ましくは２，０００～２０，０００、より好ましくは２，５００～６，０００、さらに好ましくは２，５００～５，０００である。本明細書において、フルオロポリエーテル基含有エポキシ化合物の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。フルオロポリエーテル基含有エポキシ化合物の数平均分子量を上記の範囲にすることにより、フルオロポリエーテル基含有エポキシ化合物の溶剤への溶解性が向上する。また、該化合物から得られる表面処理層の初期接触角及び摩擦耐久性が向上し得る。

一の態様において、本開示の化合物は、式（１）で表される化合物である。

別の態様において、本開示の化合物は、式（２）で表される化合物である。

別の態様において、本開示の化合物は、式（１）で表される化合物及び式（２）で表される化合物である。即ち、式（１）で表される化合物及び式（２）で表される化合物の混合物として用いられる。

上記混合物中、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対して、式（２）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３５モル％以下である。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の下限は、好ましくは０．１モル％、より好ましくは０．２モル％、さらに好ましくは０．５モル％、さらにより好ましくは１モル％、特に好ましくは２モル％、特別には５モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の上限は、好ましくは３５モル％、より好ましくは３０モル％、さらに好ましくは２０モル％、さらにより好ましくは１５モル％又は１０モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３０モル％以下、より好ましくは０．１モル％以上２０モル％以下、さらに好ましくは０．２モル％以上１０モル％以下、さらにより好ましくは０．５モル％以上１０モル％以下、特に好ましくは１モル％以上１０モル％以下、例えば２モル％以上１０モル％以下又は５モル％以上１０モル％以下である。式（２）で表される化合物をかかる範囲とすることにより、より摩擦耐久性を向上させることができる。

本開示のフルオロポリエーテル基含有エポキシ化合物は、例えば、下記のようにして合成することができる。

下記式（１ａ）又は（２ａ）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり、
Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、
Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり、
ｐは、０又は１であり、
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
Ｘ^ａは、それぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり、
Ｒ^Ａａは、Ｒ^Ｆ１－Ｘ^ａ－又はアリル基である。］
で表される化合物に、下記式（ｓ１ａ）、（ｓ２ａ）、又は（ｓ３ａ）：

［式中、
Ｒ^３は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、
Ｒ^４は、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、
ｍ１は、１～２０の整数であり、
ｍ２は、１～８の整数であり、
ｍ３は、０～１２の整数であり、
ｍ４は、２～９の整数であり、
括弧でくくられた各単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される化合物を反応させて、下記式（１ｂ）又は（２ｂ）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１、Ｒ^Ｆ２、及びＸ^ａは、上記と同意義であり、
Ｒ^Ｓａは、下記式：

（式中、
Ｒ^３、Ｒ^４、ｍ１、ｍ２、ｍ３、及びｍ４上記と同意義である。）
で表される基であり、
Ｒ^Ａｂは、Ｒ^Ｆ１－Ｘ^ａ－、Ｒ^Ｓａ－、又はアリル基である。］
で表される化合物を得る。

ついで、上記で得られた式（１ｂ）又は（２ｂ）で表される化合物に、下記式（３）：
ＣＨ＝ＣＨ_２－Ｘ^ｃ’－Ｒ^Ｅ１
［式中、
Ｘ^ｃ’は、単結合又は２価の基であり、
Ｒ^Ｅ１は、エポキシ基、又は脂環式エポキシ基である。］
で表される化合物を反応させて、本開示の式（１）又は（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有エポキシ化合物を得ることができる。

本開示の化合物は、種々の用途に使用し得る。次に、本開示の化合物の用途の例を説明する。

本開示の化合物は、重合性コーティング剤モノマーとともに使用できる。本開示の化合物、及び、重合性コーティング剤モノマーを含むことを特徴とする組成物も本発明の１つである（本明細書において組成物（ａ）ということがある）。組成物（ａ）は、上記構成を有することから、水又はｎ－ヘキサデカンに対する静的接触角が大きく、透明であり、離形性に優れ、指紋が付きにくく、指紋が付いても完全に拭き取ることができる塗膜が得られる。

上記重合性コーティング剤モノマーとしては、炭素－炭素二重結合を有するモノマーが好ましい。

上記重合性コーティング剤モノマーとしては、例えば、特に限定されるものではないが、単官能及び／又は多官能アクリレート及びメタクリレート（以下、アクリレート及びメタクリレートを合わせて、「（メタ）アクリレート」とも言う）、単官能及び／又は多官能ウレタン（メタ）アクリレート、単官能及び／又は多官能エポキシ（メタ）アクリレートである化合物を含有する組成物を意味する。当該マトリックスを形成する組成物としては、特に限定されるものではないが、一般的にハードコーティング剤又は反射防止剤とされる組成物であり、例えば多官能性（メタ）アクリレートを含むハードコーティング剤又は含フッ素（メタ）アクリレートを含む反射防止剤が挙げられる。当該ハードコーティング剤は、例えば、ビームセット５０２Ｈ、５０４Ｈ、５０５Ａ－６、５５０Ｂ、５７５ＣＢ、５７７、１４０２（商品名）として荒川化学工業株式会社から、ＥＢＥＣＲＹＬ４０（商品名）としてダイセルサイテック株式会社から、ＨＲ３００系（商品名）として横浜ゴム株式会社から市販されている。当該反射防止剤は、例えばオプツールＡＲ－１１０（商品名）としてダイキン工業株式会社から市販されている。

組成物（ａ）は、さらに、酸化防止剤、増粘剤、レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、防曇剤、紫外線吸収剤、顔料、染料、シリカなどの無機微粒子、アルミニウムペースト、タルク、ガラスフリット、金属粉などの充填剤、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、フェノチアジン（ＰＴＺ）などの重合禁止剤などを含んでいてもよい。

組成物（ａ）は、さらに、ウレタン化用の触媒、例えば、スズ系触媒、チタン系触媒、ジルコニア系触媒、ビスマス系触媒、有機アミン系触媒を含んでいてもよい。

上記スズ系触媒としては、ジラウリン酸ジ－ｎ－ブチルスズ（ＩＶ）が挙げられる。
上記チタン系触媒としては、チタンジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）、チタンテトラ－ｎ－ブトキシド、チタンテトラ－２－エチルヘキソキシド、チタンテトラアセチルアセトナートが挙げられる。
上記ジルコニア系触媒としては、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムテトラ－ｎ－ブトキシド、ジルコニウムジブトキシビス（エチルアセトアセテート）が挙げられる。
上記ビスマス系触媒としては、ビスマストリス（２－エチルヘキサノエート）が挙げられる。
上記有機アミン系触媒としては、ジアザビシクロウンデセンが挙げられる。

組成物（ａ）は、更に、溶媒を含むことが好ましい。上記溶媒としては、フッ素含有有機溶媒又はフッ素非含有有機溶媒が挙げられる。

上記フッ素含有有機溶媒としては、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロオクタン、パーフルオロジメチルシクロヘキサン、パーフルオロデカリン、パーフルオロアルキルエタノール、パーフルオロベンゼン、パーフルオロトルエン、パーフルオロアルキルアミン（フロリナート（商品名）等）、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロブチルテトラヒドロフラン、ポリフルオロ脂肪族炭化水素（アサヒクリンＡＣ６０００（商品名））、ハイドロクロロフルオロカーボン（アサヒクリンＡＫ－２２５（商品名）等）、ハイドロフルオロエーテル（ノベック（商品名）、ＨＦＥ－７１００（商品名）、ＨＦＥ－７３００（商品名）等）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、含フッ素アルコール、パーフルオロアルキルブロミド、パーフルオロアルキルヨージド、パーフルオロポリエーテル（クライトックス（商品名）、デムナム（商品名）、フォンブリン（商品名）等）、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン、メタクリル酸２－（パーフルオロアルキル）エチル、アクリル酸２－（パーフルオロアルキル）エチル、パーフルオロアルキルエチレン、フロン１３４ａ、及びヘキサフルオロプロペンオリゴマーが挙げられる。

上記フッ素非含有有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、二硫化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ダイグライム、トリグライム、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、２－ブタノン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ブタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、エタノール、メタノール、及びジアセトンアルコールが挙げられる。

なかでも、上記溶媒として、好ましくは、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサデカン、酢酸ブチル、アセトン、２－ブタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、ジアセトンアルコール又は２－プロパノールである。

上記溶媒は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

上記溶媒は組成物（ａ）中に、３０～９５質量％の範囲で用いられることが好ましい。より好ましくは５０～９０質量％である。

例えば、組成物（ａ）を基材に塗布することにより、防汚層を形成することができる。また、塗布した後、重合することによって、防汚層を形成することも可能である。上記基材としては、樹脂（特に、非フッ素樹脂）が挙げられる。

本開示の化合物は、硬化性樹脂又は硬化性モノマーとともに使用できる。上記の化合物、及び、硬化性樹脂又は硬化性モノマーを含むことを特徴とする組成物も本発明の１つである（本明細書において組成物（ｂ）ということがある）。組成物（ｂ）は、上記構成を有することから、指紋が付きにくく、指紋が付いても完全に拭き取ることができる塗膜が得られる。

上記硬化性樹脂は、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれであってもよく、耐熱性、強度を有する樹脂であれば特に制限されないが、光硬化性樹脂が好ましく、紫外線硬化性樹脂がより好ましい。

上記硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ系ポリマー、アクリル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、ポリアミド系ポリマー、ポリイミド系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、環状ポリオレフィン系ポリマー、含フッ素ポリオレフィン系ポリマー（ＰＴＦＥ等）、含フッ素環状非結晶性ポリマー（サイトップ（登録商標）、テフロン（登録商標）ＡＦ等）などが挙げられる。

上記硬化性樹脂又は上記硬化性樹脂を構成するモノマーとして具体的には、例えば、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル；グリシジルビニルエーテル、酢酸ビニル、ビニルピバレート；各種（メタ）アクリレート類：フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラウリルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、１，３－ブタンジオールジアクリレート、１，４－ブタンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロール、プロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、エトキシエチルアクリレート、メトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、テトラヒドロフルフリールアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリオキシエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチルアクリレート；Ｎ－ビニルピロリドン、ジメチルアミノエチルメタクリレートシリコン系のアクリレート、無水マレイン酸、ビニレンカーボネート、鎖状側鎖ポリアクリレート、環状側鎖ポリアクリレートポリノルボルネン、ポリノルボルナジエン、ポリカーボネート、ポリスルホン酸アミド；ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、３，４－エポキシシクロへキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（セロキサイド２０２１Ｐ（登録商標））、１，２－ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、４－ビニル－１－シクロヘキサンジエポキシド、１，４－シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルグリシジルエーテル、ｍ，ｐ－クレジルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル等のエポキシ系モノマー；含フッ素環状非結晶性ポリマー（サイトップ（登録商標）、テフロン（登録商標）ＡＦ等）等が挙げられる。

上記硬化性モノマーは、光硬化性モノマー、熱硬化性モノマーのいずれであってもよいが、紫外線硬化性モノマーが好ましい。

上記硬化性モノマーとしては、例えば、（ａ）ウレタン（メタ）アクリレート、（ｂ）エポキシ（メタ）アクリレート、（ｃ）ポリエステル（メタ）アクリレート、（ｄ）ポリエーテル（メタ）アクリレート、（ｅ）シリコン（メタ）アクリレート、（ｆ）（メタ）アクリレートモノマーなどが挙げられる。

上記硬化性モノマーとして具体的には、以下の例が挙げられる。
（ａ）ウレタン（メタ）アクリレートとしては、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代表されるポリ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕イソシアヌレートが挙げられる。
（ｂ）エポキシ（メタ）アクリレートはエポキシ基に（メタ）アクリロイル基を付加したものであり、出発原料としてビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、フェノールノボラック、脂環化合物を用いたものが一般的である。
（ｃ）ポリエステル（メタ）アクリレートのポリエステル部を構成する多価アルコールとしては、エチレングリコール、１，４－ブタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどが挙げられ、多塩基酸としては、フタル酸、アジピン酸、マレイン酸、トリメリット酸、イタコン酸、コハク酸、テレフタル酸、アルケニルコハク酸などが挙げられる。
（ｄ）ポリエーテル（メタ）アクリレートとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール－ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
（ｅ）シリコン（メタ）アクリレートは、分子量１，０００～１０，０００のジメチルポリシロキサンの片末端、あるいは、両末端を（メタ）アクリロイル基で変性したものであり、例えば、以下の化合物などが例示される。

（ｆ）（メタ）アクリレートモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ペンチル（メタ）アクリレート、３－メチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチル－ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５－ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６－ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３－クロロ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（１，１－ジメチル－３－オキソブチル）（メタ）アクリルレート、２－アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、２－メトキシエチル（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３－クロロ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、１，９－ノナンジオールジアクリレート、１，１０－デカンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどが例示される。

上記硬化性樹脂及び硬化性モノマーの内、市場から入手可能で好ましいものとしては以下のものが挙げられる。

上記硬化性樹脂としては、シリコン樹脂類ＰＡＫ－０１、ＰＡＫ－０２（東洋合成化学社製）、ナノインプリント樹脂ＮＩＦシリーズ（旭硝子社製）、ナノインプリント樹脂ＯＣＮＬシリーズ（東京応化工業社製）、ＮＩＡＣ２３１０（ダイセル化学工業社製）、エポキシアクリレート樹脂類ＥＨ－１００１、ＥＳ－４００４、ＥＸ－Ｃ１０１、ＥＸ－Ｃ１０６、ＥＸ－Ｃ３００、ＥＸ－Ｃ５０１、ＥＸ－０２０２、ＥＸ－０２０５、ＥＸ－５０００など（共栄社化学社製）、ヘキサメチレンジイソシアネート系ポリイソシアネート類、スミジュールＮ－７５、スミジュールＮ３２００、スミジュールＨＴ、スミジュールＮ３３００、スミジュールＮ３５００（住友バイエルンウレタン社製）などが挙げられる。

上記硬化性モノマーとして、シリコンアクリレート系樹脂類、多官能アクリレート類、多官能メタクリレート類及びアルコキシシラン基含有（メタ）アクリレートが挙げられる。

シリコンアクリレート系樹脂類としては、サイラプレーンＦＭ－０６１１、サイラプレーンＦＭ－０６２１、サイラプレーンＦＭ－０６２５、両末端型（メタ）アクリル系のサイラプレーンＦＭ－７７１１、サイラプレーンＦＭ－７７２１及びサイラプレーンＦＭ－７７２５等、サイラプレーンＦＭ－０４１１、サイラプレーンＦＭ－０４２１、サイラプレーンＦＭ－０４２８、サイラプレーンＦＭ－ＤＡ１１、サイラプレーンＦＭ－ＤＡ２１、サイラプレーン－ＤＡ２５、片末端型（メタ）アクリル系のサイラプレーンＦＭ－０７１１、サイラプレーンＦＭ－０７２１、サイラプレーンＦＭ－０７２５、サイラプレーンＴＭ－０７０１及びサイラプレーンＴＭ－０７０１Ｔ（ＪＣＮ社製）等が挙げられる。

多官能アクリレート類としては、Ａ－９３００、Ａ－９３００－１ＣＬ、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、Ａ－ＴＭＭＴ（新中村工業社製）等が挙げられる。

多官能メタクリレート類としてＴＭＰＴ（新中村工業社製）等が挙げられる。

アルコキシシラン基含有（メタ）アクリレートとしては、３－（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリクロロシシラン、３－（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３－（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリイソプロポキシシラン（別名（トリイソプロポキシシリル）プロピルメタクリレート（略称：ＴＩＳＭＡ）及びトリイソプロポキシシリル）プロピルアクリレート）、３－（メタ）アクリルオキシイソブチルトリクロロシラン、３－（メタ）アクリルオキシイソブチルトリエトキシシラン、３－（メタ）アクリルオキシイソブチルトリイソプロポキ３－（メタ）アクリルオキシイソブチルトリメトキシシラン等が挙げられる。

組成物（ｂ）は、架橋触媒を含むことも好ましい。上記架橋触媒としては、ラジカル重合開始剤、酸発生剤等が例示される。

上記ラジカル重合開始剤は、熱や光によりラジカルを発生する化合物であり、ラジカル熱重合開始剤、ラジカル光重合開始剤が挙げられる。本発明においては、上記ラジカル光重合開始剤が好ましい。

上記ラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド類、ジクミルパーオキシド、ジ－ｔ－ブチルパーオキシド等のジアルキルパーオキシド類、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス（４－ｔ－ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート等のパーオキシカーボネート類、ｔ－ブチルパーオキシオクトエート、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート等のアルキルパーエステル類等のパーオキシド化合物、並びに、アゾビスイソブチロニトリルのようなラジカル発生性アゾ化合物等が挙げられる。

上記ラジカル光重合開始剤としては、例えば、ベンジル、ジアセチル等の－ジケトン類、ベンゾイン等のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類、チオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、チオキサントン－４－スルホン酸等のチオキサントン類、ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、アセトフェノン、２－（４－トルエンスルホニルオキシ）－２－フェニルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノアセトフェノン、２，２’－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、ｐ－メトキシアセトフェノン、２－メチル［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノ－１－プロパノン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン等のアセトフェノン類、アントラキノン、１，４－ナフトキノン等のキノン類、２－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸（ｎ－ブトキシ）エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル等のアミノ安息香酸類、フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン等のハロゲン化合物、アシルホスフィンオキシド類、ジ－ｔ－ブチルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。

上記ラジカル光重合開始剤の市販品としては、以下のものが例示される。
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１：２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４：１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ２９５９：１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ １２７：２－ヒロドキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７：２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９：２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９：２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９：ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ７８４：ビス（η５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）－ビス（２，６－ジフルオロ－３－（１Ｈ－ピロール－１－イル）－フェニル）チタニウム、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１：１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０２：エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（０－アセチルオキシム）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ２６１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ５００、
ＤＡＲＯＣＵＲ １１７３：２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、
ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ：２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイド、
ＤＡＲＯＣＵＲ１１１６、ＤＡＲＯＣＵＲ２９５９、ＤＡＲＯＣＵＲ１６６４、ＤＡＲＯＣＵＲ４０４３、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ７５４ オキシフェニル酢酸：２－［２－オキソ－２－フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステルとオキシフェニル酢酸、２－（２－ヒドロキシエトキシ）エチルエステルの混合物、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ５００：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４とベンゾフェノンとの混合物（１
：１）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ １３００：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９とＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１との混合物（３：７）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８００：ＣＧＩ４０３とＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４との混合物（１：３）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８７０：ＣＧＩ４０３とＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４との混合物（７：３）、
ＤＡＲＯＣＵＲ ４２６５：ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯとＤＡＲＯＣＵＲ １１７３との混合物（１：１）。
なお、ＩＲＧＡＣＵＲＥはＢＡＳＦ社製であり、ＤＡＲＯＣＵＲはメルクジャパン社製である。

また、上記架橋触媒としてラジカル光重合開始剤を用いる場合には、増感剤として、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどを併用することもでき、重合促進剤として、ＤＡＲＯＣＵＲ ＥＤＢ（エチル－４－ジメチルアミノベンゾエート）、ＤＡＲＯＣＵＲ ＥＨＡ（２－エチルヘキシル－４－ジメチルアミノベンゾエート）などを併用してもよい。

上記増感剤を用いる場合の増感剤の配合量としては、上記硬化性樹脂若しくは上記硬化性モノマー１００質量部に対して、０．１～５質量部であることが好ましい。より好ましくは、０．１～２質量部である。

また、上記重合促進剤を用いる場合の重合促進剤の配合量としては、上記硬化性樹脂若しくは上記硬化性モノマー１００質量部に対して、０．１～５質量部であることが好ましい。より好ましくは、０．１～２質量部である。

上記酸発生剤は、熱や光を加えることによって酸を発生する材料であり、熱酸発生剤、光酸発生剤が挙げられる。本発明においては、光酸発生剤が好ましい。

上記熱酸発生剤としては、例えば、ベンゾイントシレート、ニトロベンジルトシレート（特に、４－ニトロベンジルトシレート）、他の有機スルホン酸のアルキルエステル等が挙げられる。

上記光酸発生剤は、光を吸収する発色団と分解後に酸となる酸前駆体とにより構成されており、このような構造の光酸発生剤に特定波長の光を照射することで、光酸発生剤が励起し酸前駆体部分から酸が発生する。

上記光酸発生剤としては、例えば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ＣＦ_３ＳＯ_３、ｐ－ＣＨ_３ＰｈＳＯ_３、ｐ－ＮＯ_２ＰｈＳＯ_３（ただし、Ｐｈはフェニル基）等の塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン－ジアジドスルホニルクロリド、又はスルホン酸エステル等が挙げられる。その他、光酸発生剤として、２－ハロメチル－５－ビニル－１，３，４－オキサジアゾール化合物、２－トリハロメチル－５－アリール－１，３，４－オキサジアゾール化合物、２－トリハロメチル－５－ヒドロキシフェニル－１，３，４－オキサジアゾール化合物なども挙げられる。なお、上記有機ハロゲン化合物は、ハロゲン化水素酸（例えば、塩化水素）を形成する化合物である。

上記光酸発生剤の市販品として以下のものが例示される。
和光純薬工業社製のＷＰＡＧ－１４５［ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン］、ＷＰＡＧ－１７０［ビス（ｔ－ブチルスルホニル）ジアゾメタン］、ＷＰＡＧ－１９９［ビス（ｐ－トルエンスルホニル）ジアゾメタン］、ＷＰＡＧ－２８１［トリフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホネート］、ＷＰＡＧ－３３６［ジフェニル－４－メチルフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホネート］、ＷＰＡＧ－３６７［ジフェニル－２，４，６－トリメチルフェニルスルホニウム ｐ－トルエンスルホネート］、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ１０３［（５－プロピルスルホニルオキシミノ－５Ｈ－チオフェン－２－イリデン）－（２－メチルフェニル）アセトニトリル］、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ１０８［（５－オクチルスルホニルオキシミノ－５Ｈ－チオフェン－２－イリデン）－（２－メチルフェニル）アセトニトリル）］、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ１２１［５－ｐ－トルエンスルホニルオキシミノ－５Ｈ－チオフェン－２－イリデン－（２－メチルフェニル）アセトニトリル］、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ２０３、ＣＧＩ７２５、三和ケミカル社製のＴＦＥ－トリアジン［２－［２－（フラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン］、ＴＭＥ－トリアジン［２－［２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリ－クロロメチル）－ｓ－トリアジン］ＭＰ－トリアジン［２－（メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン］、ジメトキシ［２－［２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル］－４，６－ビス（トリ－クロロメチル）－ｓ－トリアジン］。

上記架橋触媒の配合量としては、上記硬化性樹脂若しくは上記硬化性モノマー１００質量部に対して、０．１～１０質量部であることが好ましい。このような範囲であると、充分な硬化体が得られる。上記架橋触媒の配合量としてより好ましくは、０．３～５質量部であり、更に好ましくは、０．５～２質量部である。

また、上記架橋触媒として上記酸発生剤を用いる場合には、必要に応じて酸捕捉剤を添加することにより、上記酸発生剤から発生する酸の拡散を制御してもよい。

上記酸捕捉剤としては、特に制限されないが、アミン（特に、有機アミン）、塩基性のアンモニウム塩、塩基性のスルホニウム塩などの塩基性化合物が好ましい。これらの酸捕捉剤の中でも、有機アミンが、画像性能が優れる点でより好ましい。

上記酸捕捉剤としては、具体的には、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］－５－ノネン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４－ジメチルアミノピリジン、１－ナフチルアミン、ピペリジン、ヘキサメチレンテトラミン、イミダゾール類、ヒドロキシピリジン類、ピリジン類、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、ピリジニウムｐ－トルエンスルホナート、２，４，６－トリメチルピリジニウムｐ－トルエンスルホナート、テトラメチルアンモニウムｐ－トルエンスルホナート、及びテトラブチルアンモニウムラクテート、トリエチルアミン、トリブチルアミン等が挙げられる。これらの中でも、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］－５－ノネン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４－ジメチルアミノピリジン、１－ナフチルアミン、ピペリジン、ヘキサメチレンテトラミン、イミダゾール類、ヒドロキシピリジン類、ピリジン類、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、トリエチルアミン、トリブチルアミン等の有機アミンが好ましい。

上記酸捕捉剤の配合量は、上記酸発生剤１００質量部に対して、２０質量部以下であることが好ましく、より好ましくは０．１～１０質量部であり、更に好ましくは０．５～５質量部である。

組成物（ｂ）は、溶媒を含むものであってもよい。上記溶媒としては、水溶性有機溶媒、有機溶媒（特に、油溶性有機溶媒）、水等が挙げられる。

上記水溶性有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、酢酸エチル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジアセテート、トリプロピレングリコール、３－メトキシブチルアセテート（ＭＢＡ）、１，３－ブチレングリコールジアセテート、シクロヘキサノールアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール、カルビトールアセテート、乳酸エチル、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノールなどが挙げられる。

上記有機溶媒としては、例えば、クロロホルム、ＨＦＣ１４１ｂ、ＨＣＨＣ２２５、ハイドロフルオロエーテル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、石油エーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル、１，１，２，２－テトラクロロエタン、１，１，１－トリクロロエタン、トリクロロエチレン、パークロロエチレン、テトラクロロジフルオロエタン、トリクロロトリフルオロエタンなどが挙げられる。これら溶媒は単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。

上記溶媒としては、レジスト組成物に含まれる成分の溶解性、安全性の観点から、特にＰＧＭＥＡ、ＭＢＡが好ましい。

上記溶媒は組成物（ｂ）中に、１０～９５質量％の範囲で用いられることが好ましい。より好ましくは２０～９０質量％である。

例えば、組成物（ｂ）を基材に塗布することにより、レジスト膜を形成できる。上記基材の材料としては、合成樹脂等が挙げられる。

上記合成樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などのセルロース系樹脂、ポリエチレン、ポロプロピレン、エチレン－プロピレン共重合体、エチレン－酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリ－（４－メチルペンテン－１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル－スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン－スチレン共重合体、エチレン－ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エボキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ポリウレタン等、又はこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種又は２種以上を組み合わせて（例えば２層以上の積層体として）用いることができる。

上記レジスト膜は、ナノインプリントに使用可能である。たとえば、上記レジスト膜に、微細パターンを表面に形成したモールドを押し付けて微細パターンを転写する工程、該転写パターンが形成された上記レジスト膜を硬化させて転写パターンを有するレジスト硬化物を得る工程、及び、該レジスト硬化物をモールドから離型する工程、を含む製造方法により、パターン転写されたレジスト硬化物を得ることができる。

本開示の化合物は、溶媒とともに使用できる。上記の化合物、及び、溶媒を含むことを特徴とする組成物も本発明の１つである（本明細書において組成物（ｃ）ということがある）。

組成物（ｃ）において、上記化合物の濃度としては、０．００１～５．０質量％が好ましく、０．００５～１．０質量％がより好ましく、０．０１～０．５質量％が更に好ましい。

上記溶媒としては、フッ素系溶媒が好ましい。上記フッ素系不活性溶剤としては、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン、ジクロロペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ－２２５）等を挙げることができる。

組成物（ｃ）は、含フッ素オイルを含むことも好ましい。上記含フッ素オイルとしては、
式：Ｒ^１１１－（Ｒ^１１２Ｏ）_ｍ－Ｒ^１１３
（Ｒ^１１１及びＲ^１１３は、独立に、Ｆ、炭素数１～１６のアルキル基、炭素数１～１６のフッ素化アルキル基、－Ｒ^１１４－Ｘ^１１１（Ｒ^１１４は単結合又は炭素数１～１６のアルキレン基、Ｘ^１１１は－ＮＨ_２、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、－ＣＨ＝ＣＨ_２、－ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２、ハロゲン、リン酸、リン酸エステル、カルボン酸エステル、チオール、チオエーテル、アルキルエーテル（フッ素で置換されていてもよい）、アリール、アリールエーテル、アミド）、Ｒ^１１２は炭素数１～４のフッ素化アルキレン基、ｍは２以上の整数）で表される化合物がより好ましい。

Ｒ^１１１及びＲ^１１３としては、独立に、Ｆ、炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のフッ素化アルキル基又はＲ^１１４－Ｘ^１１１（Ｒ^１１４及びＸ^１１１は上記のとおり）が好ましく、Ｆ、炭素数１～３の完全フッ素化アルキル基又はＲ^１１４－Ｘ^１１１（Ｒ^１１４は単結合又は炭素数１～３のアルキレン基、Ｘ^１１１は－ＯＨ又はＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）がより好ましい。

ｍとしては、３００以下の整数が好ましく、１００以下の整数がより好ましい。

Ｒ^１１２としては、炭素数１～４の完全フッ素化アルキレン基が好ましい。－Ｒ^１１２Ｏ－としては、例えば、
式：－（ＣＸ^１１２ _２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１１１（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１１２（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１１３（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１１４（Ｃ_４Ｆ_８Ｏ）_ｎ１１５－
（ｎ１１１、ｎ１１２、ｎ１１３、ｎ１１４及びｎ１１５は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ^１１２はＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表されるもの、
式：－（ＯＣ_２Ｆ_４－Ｒ^１１８）_ｆ－
（Ｒ^１１８は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であり、ｆは、２～１００の整数である）で表されるもの
等が挙げられる。

ｎ１１１～ｎ１１５は、それぞれ、０～２００の整数であることが好ましい。ｎ１１１～ｎ１１５は、合計で、１以上であることが好ましく、５～３００であることがより好ましく、１０～２００であることが更に好ましく、１０～１００であることが特に好ましい。

Ｒ^１１８は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、及びＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－等が挙げられる。上記ｆは、２～１００の整数、好ましくは２～５０の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、式：－（ＯＣ_２Ｆ_４－Ｒ^１１８）_ｆ－は、好ましくは、式：－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_３Ｆ_６）_ｆ－又は式：－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_４Ｆ_８）_ｆ－である。

上記フルオロポリエーテルは、重量平均分子量が５００～１０００００であることが好ましく、５００００以下がより好ましく、１００００以下が更に好ましく、６０００以下が特に好ましい。上記重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、測定することができる。

市販されている上記フルオロポリエーテルとしては、商品名デムナム（ダイキン工業社製）、フォンブリン（ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン社製）、バリエルタ（ＮＯＫクリューバー社製）、クライトックス（デュポン社製）などが挙げられる。

上記含フッ素オイルは、本開示の式（１）及び（２）で表される化合物（２種以上の場合はその合計）に対して、例えば５０質量％以下、好ましくは３０質量％以下含まれ得る。一の態様において、上記含フッ素オイルは、本開示の式（１）及び（２）で表される化合物（２種以上の場合はその合計）に対して、例えば０．１質量％以上、好ましくは１質量％以上、例えば５質量％以上含まれ得る。

組成物（ｃ）を使用して、基材上に離型層を形成できる。上記離型層は、組成物（ｃ）に上記基材を浸漬する方法、組成物（ｃ）の蒸気に上記基材を暴露し蒸着させる方法、上記組成物（ｃ）を上記基材に印刷する方法、インクジェットを用いて上記組成物（ｃ）を上記基材に塗布する方法等が挙げられる。上記浸漬、上記蒸着、上記印刷、上記塗布の後に、乾燥させてもよい。上記基材として、凹凸パターンが形成されたモールドが使用でき、離型層が形成された上記モールドは、ナノインプリントに使用可能である。

上記基材としては、例えば、樹脂、例えばシリコーン等の高分子樹脂などが挙げられる。

本開示は、上記の化合物、又は、上記の組成物を含むことを特徴とする防汚剤も提供する。

上記防汚剤は、樹脂（特に、非フッ素樹脂）に塗布して使用できる。

上記防汚剤は、表面防汚性、膨潤性を必要とする物品（特に、光学材料）にさまざま使用できる。物品の例としては、ＰＤＰ、ＬＣＤなどディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；フォルダブルディスプレイ、ローラブルディスプレイ及びベンディングディスプレイのカバーウィンドウ；携帯電話、携帯情報端末などの機器；タッチパネルシート；ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスク；メガネレンズ；光ファイバー；筐体；自動車の内装物品（具体的には、自動車内部の座席シートとその裏側、車内天井、壁面及び床、ダッシュボードとその下部、運転席周辺のパネル、スイッチ、レバー等、トランクの内部）などが挙げられる。

光ディスクなどの光学材料は、炭素－炭素二重結合含有組成物中、又は炭素－炭素二重結合含有組成物からなる重合物中、炭素－炭素二重結合含有組成物及び炭素－炭素二重結合含有モノマーの重合物中のパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含有量が０．０１重量％～１０重量％となるように添加されて形成された被膜により表面コーティングされていることが好ましい。０．０１重量％～１０重量％では、ＰＦＰＥ添加の特長的な物性（防汚等）が現れ、表面硬度が高く、かつ透過率が高い。

本開示は、本開示の化合物、又は、本開示の組成物を含むことを特徴とする離型剤でもある。

上記離型剤からは、基材上に離型層を形成できる。上記離型層は、上記離型剤に上記基材を浸漬する方法、上記離型剤の蒸気に上記基材を暴露し蒸着させる方法、上記組成物を上記基材に印刷する方法、インクジェットを用いて上記組成物を上記基材に塗布する方法等が挙げられる。上記浸漬、上記蒸着、上記印刷、上記塗布の後に、乾燥させてもよい。上記基材として、凹凸パターンが形成されたモールドが使用でき、離型層が形成された上記モールドは、ナノインプリントに使用可能である。

上記基材としては、例えば、金属、金属酸化物、石英、シリコーン等の高分子樹脂、半導体、絶縁体、又はこれらの複合体などが挙げられる。

表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、０．０５～６０μｍ、好ましくは０．１～３０μｍ、より好ましくは０．５～２０μｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性及び防汚性の点から好ましい。

上記のように本開示の組成物（ａ）～（ｃ）は、いわゆる表面処理剤として用いられる。

以上、本開示の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本開示の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示されるポリマーの化学式はすべて平均組成を示し、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２Ｏ））の存在順序は任意である。

合成例１：ＰＦＰＥ含有化合物（Ａ）の製造
ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２５－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨを出発物質とし、ＷＯ２０１８／０５６４１３Ａ１に記載の方法に準じて、以下のパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含有化合物（Ａ）を合成した。

ＰＦＰＥ含有化合物（Ａ）：

合成例２：ＰＦＰＥ含有化合物（Ｂ）の製造
ＰＦＰＥ含有化合物（Ａ）１０．２ｇをｍ－ヘキサフルオロキシレン２０ｇに溶解させ、テトラメチルジシロキサンを１．１６ｇ仕込み、２５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１０ｍｌ加えた後、６０℃で５時間加熱撹拌した。その後、活性炭処理を行い、減圧下で低沸点の揮発分を留去することで下記のＰＦＰＥ含有化合物（Ｂ）１０．１ｇを得た。

ＰＦＰＥ含有化合物（Ｂ）：

合成例３：ＰＦＰＥ含有化合物（Ｃ）の製造
上記で得られたＰＦＰＥ含有化合物（Ｂ）１０．０ｇをｍ－ヘキサフルオロキシレン２５ｇに溶解させ、アリルグリシジルエーテルを０．９６ｇ仕込み、２５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１０ｍｌ加えた後、７０℃で５時間加熱撹拌した。その後、活性炭処理を行い、減圧下で低沸点の揮発分を留去することで下記のＰＦＰＥ含有化合物（Ｃ）９．４ｇを得た後、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと２－ブタノンを混合溶媒とした２０ｗｔ％溶液を調製した。

ＰＦＰＥ含有化合物（Ｃ）：

合成例４：ＰＦＰＥ含有化合物（Ｄ）の製造
アリルグリシジルエーテルの代わりに１，２－エポキシ－５－ヘキセンを０．６３ｇ仕込んだ以外は合成例３と同様の方法でＰＦＰＥ含有化合物（Ｄ）９．１ｇを得た後、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと２－ブタノンを混合溶媒とした２０ｗｔ％溶液を調製した。

ＰＦＰＥ含有化合物（Ｄ）：

合成例５：ＰＦＰＥ含有化合物（Ｅ）の製造
アリルグリシジルエーテルの代わりに１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサンを０．８０ｇ仕込んだ以外は合成例３と同様の方法でＰＦＰＥ含有化合物（Ｅ）９．５ｇを得た後、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと２－ブタノンを混合溶媒とした２０ｗｔ％溶液を調製した。

ＰＦＰＥ含有化合物（Ｅ）：

合成例６：ＰＦＰＥ含有化合物（Ｆ）の製造
ＰＦＰＥ含有化合物（Ａ）１０．０ｇをｍ－ヘキサフルオロキシレン２０ｇに溶解させ、テトラメチルシクロテトラシロキサンを４．３９ｇ仕込み、４５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１４ｍｌ加えた後、７５℃で５時間加熱撹拌した。その後、活性炭処理を行い、減圧下で溶剤や過剰のテトラメチルシクロテトラシロキサンを減圧留去し、下記のＰＦＰＥ含有化合物（Ｆ）１０．３ｇを得た。

ＰＦＰＥ含有化合物（Ｆ）：

合成例７：ＰＦＰＥ含有化合物（Ｇ）の製造
ＰＦＰＥ含有化合物（Ｆ）１０．０ｇをｍ－ヘキサフルオロキシレン２０ｇに溶解させ、アリルグリシジルエーテルを２．６７ｇ仕込み、４５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１８ｍｌ加えた後、８０℃で５時間加熱撹拌した。その後、活性炭処理を行い、溶剤や過剰のアリルグリシジルエーテルを減圧留去した。下記のＰＦＰＥ含有化合物（Ｇ）１０．１ｇを得た後、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと２－ブタノンを混合溶媒とした２０ｗｔ％溶液を調製した。

ＰＦＰＥ含有化合物（Ｇ）：

合成例８：ＰＦＰＥ含有化合物（Ｈ）の製造
ＣＦ_３Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ－ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（ｍ＝２４，ｎ＝２２）を出発物質とし、ＷＯ２０１８／０５６４１３Ａ１に記載の方法に準じて、以下のパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含有化合物（Ｈ）を合成した。

ＰＦＰＥ含有化合物（Ｈ）：

合成例９：ＰＦＰＥ含有化合物（Ｉ）の製造
ＰＦＰＥ含有化合物（Ａ）１０．０ｇの代わりにＰＦＰＥ含有化合物（Ｈ）を１０．０ｇ仕込んだ以外は合成例６と同様の方法でＰＦＰＥ含有化合物（Ｉ）１０．２ｇを得た。

ＰＦＰＥ含有化合物（Ｉ）：

合成例１０：ＰＦＰＥ含有化合物（Ｊ）の製造
ＰＦＰＥ含有化合物（Ｆ）１０．０ｇの代わりにＰＦＰＥ含有化合物（Ｉ）１０．０ｇ仕込んだ以外は合成例７と同様の方法でＰＦＰＥ含有化合物（Ｊ）９．６ｇを得た後、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと２－ブタノンを混合溶媒とした２０ｗｔ％溶液を調製した。

ＰＦＰＥ含有化合物（Ｊ）：

合成例１１：ＰＦＰＥ含有化合物（Ｋ）の製造
ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２５－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨを出発物質とし、ＷＯ２０１８／０５６４１３Ａ１に記載の方法に準じて、以下のパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含有化合物（Ｋ）を合成した。

ＰＦＰＥ含有化合物（Ｋ）：

合成例１２：ＰＦＰＥ含有化合物（Ｌ）の製造
ＰＦＰＥ含有化合物（Ｋ）９．０ｇをｍ－ヘキサフルオロキシレン１８ｇに溶解させ、テトラメチルジシロキサンを１．６９ｇ仕込み、２５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１６ｍｌ加えた後、７０℃で５時間加熱撹拌した。その後、活性炭処理を行い、減圧下で低沸点の揮発分を留去することで下記のＰＦＰＥ含有化合物（Ｌ）９．１ｇを得た。

ＰＦＰＥ含有化合物（Ｌ）：

合成例１３：ＰＦＰＥ含有化合物（Ｍ）の製造
上記で得られたＰＦＰＥ含有化合物（Ｌ）９．０ｇをｍ－ヘキサフルオロキシレン１８ｇに溶解させ、アリルグリシジルエーテルを２．５２ｇ仕込み、２５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．２０ｍｌ加えた後、７５℃で５時間加熱撹拌した。その後、活性炭処理を行い、減圧下で低沸点の揮発分を留去することで下記のＰＦＰＥ含有化合物（Ｍ）９．０ｇを得た後、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと２－ブタノンを混合溶媒とした２０ｗｔ％溶液を調製した。

ＰＦＰＥ含有化合物（Ｍ）：

比較化合物の合成例１
ＰＦＰＥ含有化合物（Ｎ）の調製
ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１１－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨを出発物質とし、ＷＯ２０１８／０５６４１３Ａ１に記載の方法に準じて、以下のパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含有化合物（Ｎ）を合成した。

ＰＦＰＥ含有化合物（Ｎ）：

比較化合物の合成例２
ＰＦＰＥ含有化合物（Ｏ）の調製
ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ－ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ （ｍ＝２４， ｎ＝２２）を出発物質とし、特許第５９３９７１２号に記載の方法に準じて、以下のパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含有化合物（Ｏ）を合成した。

ＰＦＰＥ含有化合物（Ｏ）：

＜評価＞
（アセトンとの相溶性試験）
上記で得られたＰＦＰＥ含有化合物（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｇ）、（Ｊ）、（Ｍ）、及びＰＦＰＥ含有化合物（Ｎ）、（Ｏ）をそれぞれ固形分濃度が４．０ｗｔ％になるようにアセトンと混合し、ミックスローターで２時間攪拌して混合液の状態を目視で確認した。評価基準は以下の通りとした。結果を下記表１に示す。
〇：透明かつ均一に溶解した。
×：濁りが認められた。

（コーティング剤の作成）
成膜条件（１）：
セロキサイド２０２１Ｐ（３，４－エポキシシクロへキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ダイセル社製）を２－ブタノンに溶解し、さらにその溶液にＰＦＰＥ含有化合物（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｇ）、（Ｊ）、（Ｍ）、及びＰＦＰＥ含有化合物（Ｎ）、（Ｏ）をそれぞれセロキサイド２０２１Ｐに対して固形分濃度換算で１．０％になるように添加し、更に光酸発生剤であるＣＰＩ－２００Ｋ（サンアプロ（株）社製）を同じく固形分濃度換算で２．０％添加して５０質量％のＰＦＰＥ含有コーティング剤を得た。
セロキサイド２０２１Ｐ：

成膜条件（２）：
ビスフェノールＡジグリシジルエーテルを２－ブタノンに溶解し、更にその溶液にＰＦＰＥ含有化合物（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｇ）、（Ｊ）、（Ｍ）、及びＰＦＰＥ含有化合物（Ｎ）、（Ｏ）をそれぞれビスフェノールＡジグリシジルエーテルに対して固形分濃度換算で１．０％になるように添加し、更に光酸発生剤であるＣＰＩ－２００Ｋ（サンアプロ（株）社製）を同じく固形分濃度換算で２．０％添加して５０質量％のＰＦＰＥ含有コーティング剤を得た。

（硬化膜の作成と特性評価）
ＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、コスモシャインＡ４１６０）に、上記の成膜条件（１）、（２）で得られたＰＦＰＥ含有コーティング剤をそれぞれ載せ、バーコーターにて均一な塗膜を形成した。得られた塗膜は、７０℃で１０分乾燥させ、空気中で３６５ｎｍのＵＶ光を含む光線を６００ｍＪ／ｃｍ^２の強度で照射し、硬化膜（表面処理層）を得た。得られたそれぞれの硬化膜について、以下の通り初期特性を評価した。

（硬化膜の外観）
硬化膜の外観は目視にて確認した。評価は次の基準とした。結果を表１に示す。
〇：透明
×：白化

＜触感の評価＞
硬化膜の表面層に人差し指を押し当て、左右に繰り返し往復させて擦ることで指先の触感を評価した。評価は次の基準とした。結果を表１に示す。
◎：極めて滑らかな感触。
〇：滑らかな感触。
×：指先を動かす時に引っ掛かり、抵抗感がある。

＜防汚性の評価＞
（水の静的接触角）
水の静的接触角は全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学株式会社製）を用いて下記の方法で測定した。

（静的接触角の測定方法）
静的接触角は、水平に置いた基板にマイクロシリンジから水を３μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。水の静的接触角の測定値について、基材の表面処理層の異なる５点を測定し、その平均値を算出して用いた。それぞれのＰＦＰＥ含有コーティング剤の硬化膜について、初期の値を測定した。結果を表１に示す。

（指紋付着性）
硬化膜に指を押し付け、指紋の付きやすさを目視で判定した。評価は以下の基準とした。結果を表１に示す。
〇：指紋が付きにくいか、付いても指紋が目立たない。
×：明確に指紋が付着する。

（指紋拭き取り性）
上記の指紋付着性試験後、付着した指紋をキムワイプ（商品名。十條キンバリー（株）製）で５往復拭き取り、付着した指紋の拭き取りやすさを目視で判定した。評価は以下の基準とした。結果を表１に示す。
〇：指紋を完全に拭き取ることができる。
×：指紋の拭取り跡が拡がり、除去することが困難である。

（離形性の評価）
硬化膜の離形性はテープ剥離試験にて評価した。評価は、つぎの基準とした。結果を表１に示す。
〇：容易に剥離するか、粘着しない。
×：テープの粘着層が付着する。

※ＰＦＰＥ含有化合物を未添加で成膜した硬化膜

実施例の結果から理解されるように、本開示のＰＦＰＥ含有化合物（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｇ）、（Ｊ）、（Ｍ）をそれぞれに含むコーティング剤から得られた硬化膜を有する処理基材は、きれいな外観であり、良好な触感、高い防汚性すなわち特に優れた撥水性を示し、指紋付着性、指紋拭き取り性に優れている上、離形性も優れていた。一方、比較例から理解されるように、ＰＦＰＥ含有化合物（Ｎ）、（Ｏ）をそれぞれに含むコーティング剤から得られた硬化膜を有する処理基材は、実施例で示された評価項目の全てを満足することはできず、特に撥水性については十分な性能が得られなかった。

本開示のフルオロポリエーテル基含有エポキシ化合物は、種々多様な基材について、例えば、フォルダブルディスプレイ、ローラブルディスプレイおよびベンディングディスプレイのカバーウィンドウ；携帯電話、携帯情報端末などの機器；タッチパネルシート；自動車の内装物品（具体的には、自動車内部の座席シートとその裏側、車内天井、壁面および床、ダッシュボードとその下部、運転席周辺のパネル、スイッチ、レバー等、トランクの内部）等の表面処理に、幅広く利用することができる。

Claims (20)

1. 下記式（１）又は式（２）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^Ａは、それぞれ独立して、Ｒ^Ｆ１－Ｘ^ａ－、Ｒ^Ｅ _ｍ－Ｘ^ｂ－、又は１価の基であり、
   Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
   Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
   Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり、
   Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、
   Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり、
   ｐは、０又は１であり、
   ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
   Ｘ^ａは、それぞれ独立して、下記式：
   －（ＣＸ ^１２１ Ｘ ^１２２ ） _ｘ１ －（Ｘ ^ａ１ ） _ｙ１ －（ＣＸ ^１２３ Ｘ ^１２４ ） _ｚ１ －
   ［式中、
   Ｘ ^１２１ ～Ｘ ^１２４ は、それぞれ独立して、Ｈ、Ｆ、ＯＨ、又は、－ＯＳｉ（ＯＲ ^１２１ ） _３ （式中、３つのＲ ^１２１ は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基である。）であり、
   Ｘ ^ａ１ は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、又は、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－であり、
   ｘ１は０～１０の整数であり、ｙ１は０又は１であり、ｚ１は１～１０の整数である。］
   で表される基であり、ただし、Ｘ ^ａ は、Ｒ ^Ｆ１ 及びＲ ^Ｆ２ との結合において－Ｏ－Ｏ－結合を形成せず、かつ、Ｘ ^ａ は、－Ｏ－Ｏ－結合を含まず、
   Ｒ^Ｅは、それぞれ独立して、下記式：
   －Ｘ ^ｃ －Ｒ ^Ｅ１
   ［式中、
   Ｘ ^ｃ は、下記式：
   －（Ｃ _ａ Ｈ _２ａ ） _ｎ１ －（Ｒ ^５ ） _ｎ２ －
   ［式中、
   ａは、（Ｃ _ａ Ｈ _２ａ ）単位毎にそれぞれ独立して、１～６の整数であり、
   Ｒ ^５ は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、又は、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－であり、
   ｎ１は、０～６の整数であり、
   ｎ２は、０～６の整数であり、
   ｎ１及びｎ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   で表される基であり、
   Ｒ ^Ｅ１ は、エポキシ基、又は脂環式エポキシ基である。］
   で表される基であり、ただし、Ｒ ^Ｅ は、－Ｏ－Ｏ－結合を含まず、
   Ｘ^ｂは、それぞれ独立して、下記式：
   －Ｘ ^ｄ －Ｒ ^Ｓ －
   ［式中、
   Ｘ ^ｄ は、下記式：
   －（Ｃ _ｂ Ｈ _２ｂ ） _ｒ１ －（Ｒ ^１０ ） _ｒ２ －
   ［式中、
   ｂは、（Ｃ _ｂ Ｈ _２ｂ ）単位毎にそれぞれ独立して、１～６の整数であり、
   Ｒ ^１０ は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、又は、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－であり
   ｒ１は、０～６の整数であり、
   ｒ２は、０～６の整数であり、
   ｒ１及びｒ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   で表される基であり、
   Ｒ ^Ｓ は、２～９価のシロキサン基である。］
   で表される基であり、ただし、Ｘ ^ｂ は、－Ｏ－Ｏ－結合を含まず、
   ｍは、それぞれ独立して、１～８の整数である。］
   で表される化合物。
2. Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
   －（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
   ［式中：
   Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
   ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   で表される基である、請求項１に記載の化合物。
3. Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、請求項２に記載の化合物。
4. Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）又は（ｆ６）：
   －（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
   ［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは、０又は１である。］、
   －（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
   ［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
   ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
   ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり；
   添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
   －（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－ （ｆ３）
   ［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり；
   Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
   ｇは、２～１００の整数である。］、
   －（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－ （ｆ４）
   ［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
   Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
   Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
   Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
   ｇは、２～１００の整数であり、
   ｇ’は、２～１００の整数であり、
   Ｒ^ｒは、
   

   

   （式中、＊は、結合位置を示す。）
   である。］；
   －（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
   ［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   －（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ６）
   ［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   で表される基である、請求項１に記載の化合物。
5. Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基であり、
   Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基である、
   請求項１に記載の化合物。
6. Ｘ^ａは、それぞれ独立して、－（ＣＨ_２）_ｍ２２－（式中、ｍ２２は１～３の整数である。）で表される基である、請求項１に記載の化合物。
7. 前記脂環式エポキシ基は、下記式：
   

   

   ［式中、ｎは、１～５の整数である。］
   で表される基である、請求項１に記載の化合物。
8. Ｘ^ｃは、下記式：
   －（Ｃ_ａＨ_２ａ）_ｎ３－（Ｒ^５）_ｎ２－（Ｃ_ａＨ_２ａ）_ｎ４－
   ［式中、
   ａは、（Ｃ_ａＨ_２ａ）それぞれ独立して、１～６の整数であり、
   Ｒ^５は、－Ｏ－であり、
   ｎ２は、０又は１であり、
   ｎ３は、０又は１であり、
   ｎ４は、０又は１であり、
   ｎ２、ｎ３及びｎ４の少なくとも１つは１である。］
   で表される基である、請求項１に記載の化合物。
9. Ｒ^Ｓは、下記式（ｓ１）、（ｓ２）、又は（ｓ３）：
   

   

   ［式中、
   Ｒ^３は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、
   Ｒ^４は、単結合、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、
   ｍ１は、１～２０の整数であり、
   ｍ２は、１～８の整数であり、
   ｍ３は、０～１２の整数であり、
   括弧でくくられた各単位の存在順序は式中において任意であり、
   ＊を付した結合手が、Ｘ^ｄに結合する。］
   で表される基である、請求項１に記載の化合物。
10. Ｒ^Ｓは、下記式（ｓ１）又は（ｓ３’）：
    

    

    ［式中、
    Ｒ^３は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、
    ｍ１は、１～２０の整数であり、
    ｍ２は、３～５の整数であり、
    ＊を付した結合手が、Ｘ^ｄに結合する。］
    で表される基である、請求項１に記載の化合物。
11. Ｘ^ｄは、下記式：
    －Ｃ_ｂＨ_２ｂ－
    ［式中、
    ｂは、１～６の整数である。］
    で表される基である、請求項１に記載の化合物。
12. ｍは、それぞれ独立して、１～３の整数である、請求項１に記載の化合物。
13. Ｒ^Ａは、それぞれ独立して、Ｒ^Ｅ _ｍ－Ｘ^ｂ－である、請求項１に記載の化合物。
14. １種又はそれ以上の請求項１に記載の化合物を含む、表面処理剤。
15. 請求項１に記載の化合物；および
    マトリックスを形成する組成物
    を含む、硬化性組成物。
16. 請求項１４に記載の表面処理剤；および
    マトリックスを形成する組成物
    を含む、硬化性組成物。
17. 基材と、該基材の表面に請求項１４に記載の表面処理剤により形成された層とを含む物品。
18. 基材と、該基材の表面に請求項１５に記載の硬化性組成物により形成された層とを含む物品。
19. 上記物品が光学部材である、請求項１７に記載の物品。
20. 上記物品が光学部材である、請求項１８に記載の物品。