JP6653758B2 - 防汚性フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、防汚性フィルムの製造方法に関する。より詳しくは、ナノメートルサイズの凹凸構造を備える、防汚性を有するフィルムの製造方法に関するものである。

ナノメートルサイズの凹凸構造（ナノ構造）を有するフィルムは、反射防止フィルムとして利用されることが知られている（例えば、特許文献１〜５参照）。このような凹凸構造によれば、空気層から基材にかけて屈折率が連続的に変化するために、反射光を劇的に減少させることができる。

特開２００３−１７２８０８号公報 特開２００７−１７８７２４号公報 特許第５００５１１４号公報 特開２０１４−１５３５２４号公報 特開２００５−９７３７１号公報

このような反射防止フィルムとしては、例えば、凹凸構造を表面に有する重合体層が基材の表面上に配置される構成が挙げられる。しかしながら、従来の反射防止フィルムでは、防汚性が低いという問題があった。凹凸構造には汚れが入り込みやすく、乾いた布でその汚れを拭き取ることが困難であったため、例えば、専用のクリーナー液で汚れを浮き上がらせて拭き取っていた。そのため、クリーナー液との馴染み性の観点から、反射防止フィルムの親水性を高めることがあり、防汚性を高めにくかった。

これに対して、本発明者らは、凹凸構造を表面に有する反射防止フィルムに防汚機能を付与することを検討する中で、ナノメートルサイズの凹凸構造の表面を撥水性及び撥油性の材料で形成すれば、その表面形状の効果によって、材料本来の撥水性及び撥油性と比較して、凹凸構造の表面で得られる撥水性及び撥油性が劇的に高まることを見出した。そこで、本発明者らは、ナノメートルサイズの凹凸構造を表面に有し、顕著な撥水性及び撥油性、すなわち、顕著な防汚性を示す機能性フィルム（防汚性フィルム）を実現するため、以下の３種類の方法を検討した。

第一の方法として、重合体層の表面（基材とは反対側の表面）上に防汚膜を形成した。しかしながら、重合体層と防汚膜との間の密着性が不充分であり、耐擦性が低下することが分かった。

第二の方法として、重合体層の表面（基材とは反対側の表面）に潤滑油を浸み込ませた。しかしながら、重合体層に付着した汚れを拭き取る際に、潤滑油も一緒に拭き取られてしまうため、潤滑油を定期的に供給しなければ、防汚性が低下する（維持できない）ことが分かった。

第三の方法として、重合体層を構成する樹脂に防汚剤を添加し、ブリードアウトさせた。しかしながら、ブリードアウトの具合が不充分であり、防汚性が充分に得られないことが分かった。

以上のように、従来の防汚性フィルムの製造方法については、防汚性及び耐擦性に優れた防汚性フィルムを実現する点で改善の余地があった。

上記特許文献１には、凹凸構造の表面上にポリテトラフルオロエチレンからなる撥水被膜が形成された構成が記載されている。しかしながら、凹凸構造と撥水被膜との間の密着性が低いため、剥離しやすい。また、撥水被膜が薄いため、膜強度が弱く、拭き取りの際にポリテトラフルオロエチレンの濃度が低下しやすい。以上より、耐擦性を高める点で改善の余地があった。

上記特許文献２には、基材と金型との間に、フッ素化合物を含む光硬化性樹脂組成物を供給し圧延した後、硬化させることで凹凸構造を形成する方法が記載されている。しかしながら、フッ素化合物としてパーフルオロアルキル系化合物が用いられており、凹凸構造の表面におけるフッ素化合物の濃度が不充分である。以上より、防汚性を高める点で改善の余地があった。

上記特許文献３には、金型の表面を外部離型剤で処理した後、内部離型剤を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を基材と金型との間に挟み、硬化させることで凹凸構造を形成する方法が記載されている。しかしながら、内部離型剤が疎水性材料であり、ブリードアウトを利用する場合であっても、疎水性基の集まりが悪い。また、疎水性基が互いに結合していないため、安定性が低い。以上より、防汚性及び耐擦性を高める点で改善の余地があった。

上記特許文献４には、凹凸構造の表面上にパーフルオロアルキルポリエーテルカルボン酸を含有するフッ素系潤滑剤による潤滑層が積層された構成が記載されている。しかしながら、凹凸構造と潤滑層との間の密着性が低いため、剥離しやすい。以上より、耐擦性を高める点で改善の余地があった。

上記特許文献５には、フッ素含有化合物を含むフッ素含有樹脂組成物を用いて凹凸構造が形成された構成が記載されている。しかしながら、フッ素含有化合物としてパーフルオロアルキル系化合物が用いられており、凹凸構造の表面の滑り性が不充分である。以上より、耐擦性を高める点で改善の余地があった。

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、防汚性及び耐擦性に優れた防汚性フィルムの製造方法を提供することを目的とするものである。

本発明者らは、防汚性及び耐擦性に優れた防汚性フィルムの製造方法について種々検討したところ、上述した第三の方法を応用することに着目した。そして、重合体層を構成する樹脂として、所定のパーフルオロポリエーテル系化合物を含んでなる防汚剤を含有するものを用い、金型へ離型処理を施すための離型剤として、所定のパーフルオロポリエーテル系化合物を含んでなるものを用いる方法を見出した。以上により、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。

すなわち、本発明の一態様は、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する重合体層を備える防汚性フィルムの製造方法であって、樹脂を基材の表面上に塗布するプロセス（１）と、上記樹脂を間に挟んだ状態で上記基材を金型に押し当て、上記凹凸構造を上記樹脂の表面に形成するプロセス（２）と、上記凹凸構造を表面に有する上記樹脂を硬化させ、上記重合体層を形成するプロセス（３）とを含み、上記樹脂は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基を有する化合物を含んでなる防汚剤を含有し、上記金型の表面は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基と、加水分解可能な基と、Ｓｉ原子とを有する化合物を含んでなる離型剤で離型処理が施されている防汚性フィルムの製造方法であってもよい。

本発明によれば、防汚性及び耐擦性に優れた防汚性フィルムの製造方法を提供することができる。

実施形態の防汚性フィルムの製造方法を説明するための断面模式図である。 炭素原子の数、酸素原子の数、及び、フッ素原子の数の合計数に対する各原子の数の比率を示すグラフであり、（ａ）は実施例６を示し、（ｂ）は実施例７を示し、（ｃ）は実施例８を示し、（ｄ）は実施例９を示す。

以下に実施形態を掲げ、本発明について図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこの実施形態のみに限定されるものではない。また、実施形態の各構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよいし、変更されてもよい。

本明細書中、防汚性フィルムは、表面に付着した汚れを容易に除去することができるフィルムを意味する。

本明細書中、「Ａ〜Ｂ」は、「Ａ以上、Ｂ以下」を意味する。

本明細書中、活性水素は、イソシアネート基にプロトンとして供与され得る水素原子を意味する。

本明細書中、活性水素含有基は、活性水素を含有する基を指し、例えば、−ＯＨ基、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ基、−ＳＨ基、−ＳＯ_３Ｈ基、−ＳＯ_２Ｈ基、−ＳＯＨ基、−ＮＨ_２基、−ＮＨ−基、−ＳｉＨ基等が挙げられる。

本明細書中、二価の有機基は、炭素を含有する二価の基を意味する。二価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基から更に１つの水素原子を脱離させた二価の基が挙げられる。

本明細書中、炭化水素基は、炭素及び水素を含む基を意味する。炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分枝鎖状、及び、環状のうちのいずれであってもよく、飽和及び不飽和のうちのいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ以上の環構造を含んでいてもよい。なお、炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。

本明細書中、炭化水素基の置換基としては、特に限定されるものではないが、例えば、１つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、炭素数３〜１０の不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、炭素数６〜１０のアリール基、５〜１０員のヘテロアリール基等が挙げられる。

本明細書中、加水分解可能な基は、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を指す。加水分解可能な基としては、アルコキシ基が挙げられる。具体的には、−ＯＡ、−ＯＣＯＡ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ａ）_２、−Ｎ（Ａ）_２、−ＮＨＡ、ハロゲン（これらの式中、Ａは、置換又は非置換の炭素数１〜３のアルキル基である。）等が挙げられる。

本明細書中、数平均分子量は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値を意味する。

［実施形態］
実施形態の防汚性フィルムの製造方法について、図１を参照して以下に説明する。図１は、実施形態の防汚性フィルムの製造方法を説明するための断面模式図である。

（ａ）樹脂の塗布（プロセス（１））
図１（ａ）に示すように、樹脂３を基材２の表面上に塗布する。一方、金型４を準備する。金型４の表面は、離型剤５で離型処理が施されている。

樹脂３の塗布方法としては、例えば、スプレー方式、グラビア方式、スロットダイ方式等で塗布する方法が挙げられる。膜厚が容易に調製可能であり、かつ、装置コストを低減する観点からは、グラビア方式又はスロットダイ方式で塗布する方法が好ましい。

（ｂ）凹凸構造の形成（プロセス（２））
図１（ｂ）に示すように、樹脂３を間に挟んだ状態で基材２を金型４に押し当てる。その結果、凹凸構造が樹脂３の表面（基材２とは反対側の表面）に形成される。

（ｃ）樹脂の硬化（プロセス（３））
図１（ｃ）に示すように、凹凸構造を表面に有する樹脂３を硬化させ、重合体層６を形成する。

樹脂３の硬化方法としては、例えば、活性エネルギー線の照射、加熱等による方法が挙げられるが、活性エネルギー線の照射による方法が好ましい。本明細書中、活性エネルギー線は、紫外線、可視光線、赤外線、プラズマ等を指す。樹脂３は、紫外線によって硬化するものであることが好ましい。活性エネルギー線の照射は、樹脂３の基材２側から行ってもよく、樹脂３の金型４側から行ってもよい。また、樹脂３に対する活性エネルギー線の照射回数は、１回のみであってもよいし、複数回であってもよい。樹脂３の硬化は、上述した樹脂３への凹凸構造の形成と同じタイミングで行ってもよい。

（ｄ）金型の剥離
図１（ｄ）に示すように、金型４を重合体層６から剥離する。その結果、防汚性フィルム１が完成する。重合体層６の表面（基材２とは反対側の表面）に形成された凹凸構造は、複数の凸部（突起）７が可視光の波長以下のピッチ（隣接する凸部７の頂点間の距離）Ｐで設けられる構造、すなわち、モスアイ構造（蛾の目状の構造）に相当する。よって、防汚性フィルム１は、モスアイ構造による優れた反射防止性（低反射性）を示すことができる。防汚性フィルム１の用途は、その優れた防汚性を活用するものであれば特に限定されず、例えば、反射防止フィルム等の光学フィルムに限定されない。

上述した製造プロセスにおいて、例えば、基材２をロール状にすれば、上記プロセス（１）〜（３）を連続的かつ効率的に行うことができる。

続いて、防汚性フィルム１を製造する際に用いられる各材料について、以下に説明する。

基材２の材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等の樹脂が挙げられ、使用環境に応じて適宜選択すればよい。このような材料によれば、硬度が高く、透明性及び耐候性に優れた基材２が得られる。なお、基材２の表面（重合体層６側の表面）には易接着処理が施されていてもよく、例えば、易接着処理が施されたトリアセチルセルロースフィルムを用いることができる。また、基材２の表面（重合体層６側の表面）にはケン化処理が施されていてもよく、例えば、ケン化処理が施されたトリアセチルセルロースフィルムを用いることができる。基材２の材料として樹脂を用いる場合、その樹脂は着色されていてもよい。また、基材２の材料は、上述したような樹脂に限定されず、ガラス、金属、繊維、紙類（写真等の印刷物を含む）等であってもよい。

基材２の厚みは、透明性及び加工性を確保する観点から、２０μｍ以上、２００μｍ以下であることが好ましく、４０μｍ以上、１００μｍ以下であることがより好ましい。

樹脂３は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基を有する化合物を含んでなる防汚剤を含有する。

防汚剤は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基及び硬化性部位（例えば、アクリレート基）を有する化合物を含んでなることが好ましい。具体的には、防汚剤は、成分（Ａ）ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートと成分（Ｂ）活性水素を有する化合物との反応物である炭素−炭素二重結合含有化合物（パーフルオロポリエーテル系化合物）を含んでなることが好ましい。

成分（Ａ）は、ジイソシアネートを三量体化することにより得ることができるポリイソシアネートである。ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートは、これらが重合した重合体として存在していてもよい。

成分（Ａ）ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートは、好ましくは、イソシアヌレート型ポリイソシアネートであり得る。イソシアヌレート型ポリイソシアネートは、これらが重合した重合体として存在していてもよい。すなわち、イソシアヌレート型ポリイソシアネートは、イソシアヌレート環を１つのみ有する単環式化合物であってもよく、この単環式化合物が重合して得られる多環式化合物であってもよく、これらの混合物であってもよい。イソシアヌレート型ポリイソシアネートのうち公知のものとしては、例えば、住友バイエルウレタン社製の「スミジュール（登録商標）Ｎ３３００」が挙げられる。

成分（Ａ）ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートを得るために用いられるジイソシアネートとしては、特に限定されないが、イソシアネート基が脂肪族基に結合したジイソシアネート、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート；イソシアネート基が芳香族基に結合したジイソシアネート、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートが挙げられる。

成分（Ａ）ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートとしては、特に限定されるものではないが、例えば、下記式（Ｄ６）、（Ｄ７）、（Ｄ８）、又は、（Ｄ９）で表される構造を有する化合物が挙げられる。

上述したように、これらのポリイソシアネートは重合体として存在していてもよく、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型ポリイソシアネートである場合、下記式（Ｄ１０）で表される構造を有する重合体として存在していてもよい。

成分（Ｂ）は、成分（Ｂ１）活性水素を有するパーフルオロポリエーテルと、成分（Ｂ２）炭素−炭素二重結合を含有する基及び活性水素を有するモノマーとを含む。

成分（Ｂ１）は、下記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物である。成分（Ｂ１）によれば、防汚性フィルム１の防汚性及び耐擦性（滑り性）が高まる。
Ｒｆ−ＰＦＰＥ^１−Ｚ−Ｘ （Ｂ１−ｉ）
Ｘ−Ｚ−ＰＦＰＥ^２−Ｚ−Ｘ （Ｂ１−ｉｉ）

上記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）中、Ｒｆは、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６の（例えば、直鎖状又は分枝鎖状の）アルキル基であり、好ましくは、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜３の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基である。Ｒｆは、直鎖状であることが好ましい。また、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよいアルキル基は、好ましくは、末端炭素原子がＣＦ_２Ｈ−であり、かつ、他のすべての炭素原子がフッ素原子により全置換されているフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキル基であり、より好ましくはパーフルオロアルキル基であり、具体的には、−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、又は、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）中、ＰＦＰＥ^１は、下記式（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は、（Ｄ３）で表される基である。
−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ− （Ｄ１）
（上記式（Ｄ１）中、ｂは、１〜２００の整数であり、好ましくは５〜２００の整数であり、より好ましくは１０〜２００の整数である。）
−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ− （Ｄ２）
（上記式（Ｄ２）中、ａ及びｂは、各々独立して、０〜３０の整数である。ｃ及びｄは、各々独立して、１〜２００の整数であり、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは１０〜２００の整数である。ａ、ｂ、ｃ、又は、ｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式（Ｄ２）中において任意である。）
−（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^５）_ｉ− （Ｄ３）
（上記式（Ｄ３）中、Ｒ^５は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、又は、ＯＣ_４Ｆ_８である。ｉは、２〜１００の整数であり、好ましくは２〜５０の整数である。）

一態様において、上記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）中、ＰＦＰＥ^１は、上記式（Ｄ１）又は（Ｄ３）で表される基であってもよく、好ましくは、上記式（Ｄ１）で表される基である。このようなＰＦＰＥ^１を含有することにより、防汚性フィルム１の防汚性がより高まる。

上記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）中、ＰＦＰＥ^２は、下記式（Ｄ４）又は（Ｄ５）で表される基であり、好ましくは、下記式（Ｄ４）で表される基である。
−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ− （Ｄ４）
（上記式（Ｄ４）中、ｂは、１〜２００の整数であり、好ましくは５〜２００の整数であり、より好ましくは１０〜２００の整数である。）
−（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^５）_ｉ− （Ｄ５）
（上記式（Ｄ５）中、Ｒ^５は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、又は、ＯＣ_４Ｆ_８である。ｉは、２〜１００の整数であり、好ましくは２〜５０の整数である。）

上記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）中、Ｚは、各々独立して、二価の有機基である。Ｚは、好ましくはＲ^１である。Ｒ^１は、各々独立して、下記式（Ｄ１１）で表される基である。
−（Ｙ）_ｆ−（ＣＲ^３ _２）_ｊ− （Ｄ１１）

上記式（Ｄ１１）中、Ｙは、二価の極性基である。二価の極性基としては、特に限定されないが、例えば、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＳ−、−ＳＣＯ−、−Ｏ−等が挙げられ、好ましくは、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ−、又は、−Ｏ−である。

上記式（Ｄ１１）中、Ｒ^３は、各出現において、各々独立して、水素原子又はフッ素原子である。

上記式（Ｄ１１）中、ｆは、０〜５０の整数であり、好ましくは０〜２０の整数（例えば、１〜２０の整数）である。ｊは、０〜１００の整数であり、好ましくは０〜４０の整数（例えば、１〜４０の整数）である。ｆ及びｊの和は、１以上である。ｆ及びｊを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式（Ｄ１１）中において任意である。

上記式（Ｄ１１）で表されるＲ^１は、好ましくは、各々独立して、下記式（Ｄ１２）で表される基である。
−（Ｙ）_ｆ−（ＣＦ_２）_ｇ−（ＣＨ_２）_ｈ− （Ｄ１２）

上記式（Ｄ１２）中、Ｙ及びｆは、上記式（Ｄ１１）中のＹ及びｆと互いに同意義である。ｇ及びｈは、各々独立して、０〜５０の整数であり、好ましくは０〜２０の整数（例えば、１〜２０の整数）である。ｆ、ｇ、及び、ｈの和は、１以上であり、好ましくは１〜１０である。ｆ、ｇ、及び、ｈは、０〜２の整数であることがより好ましく、ｆ＝０又は１、ｇ＝２、ｈ＝０又は１であることが更に好ましい。また、ｆ、ｇ、及び、ｈを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式（Ｄ１２）中において任意である。

上記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）中、Ｘは、活性水素含有基である。Ｘは、好ましくは、各々独立して、−ＯＨ基、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ基、−ＳＨ基、−ＳＯ_３Ｈ基、−ＳＯ_２Ｈ基、−ＳＯＨ基、−ＮＨ_２基、−ＮＨ−基、又は、−ＳｉＨ基であり、より好ましくは、−ＯＨ基、又は、−ＮＨ_２基であり、更に好ましくは、−ＯＨ基である。

成分（Ｂ１）は、好ましくは、下記式（Ｂ１−ｉ’）及び（Ｂ１−ｉｉ’）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物であり、より好ましくは、下記式（Ｂ１−ｉ’）で表される少なくとも１種の化合物である。成分（Ｂ１）が下記式（Ｂ１−ｉ’）で表される少なくとも１種の化合物である場合、ＰＦＰＥ^１は、好ましくは、上記式（Ｄ１）で表される基である。下記式（Ｂ１−ｉ’）で表される化合物によれば、防汚性フィルム１の耐擦性がより高まる。
Ｒｆ−ＰＦＰＥ^１−Ｒ^１−ＣＨ_２ＯＨ （Ｂ１−ｉ’）
ＨＯＣＨ_２−Ｒ^１−ＰＦＰＥ^２−Ｒ^１−ＣＨ_２ＯＨ （Ｂ１−ｉｉ’）

上記式（Ｂ１−ｉ’）及び（Ｂ１−ｉｉ’）中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ^１、及び、ＰＦＰＥ^２は、上記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）中のＲｆ、ＰＦＰＥ^１、及び、ＰＦＰＥ^２と互いに同意義である。上記式（Ｂ１−ｉ’）及び（Ｂ１−ｉｉ’）中、Ｒ^１は、上記式（Ｄ１１）で表されるＲ^１と同意義である。

成分（Ｂ１）活性水素を有するパーフルオロポリエーテルは、パーフルオロポリエーテル基に加えて、１つの分子末端に１つの活性水素含有基（例えば、水酸基）を有する、又は、２つの分子末端の各々に１つの活性水素含有基水酸基を有する化合物である。パーフルオロポリエーテル基を有する化合物によれば、防汚性フィルム１の防汚性（例えば、撥水性、撥油性、指紋拭き取り性等）が高まる。

成分（Ｂ１）活性水素を有するパーフルオロポリエーテルの数平均分子量は、特に限定されないが、好ましくは５００〜１２０００であり、より好ましくは１０００〜１００００であり、更に好ましくは１５００〜８０００である。

成分（Ｂ２）炭素−炭素二重結合を含有する基及び活性水素を有するモノマーは、その分子末端に少なくとも１つ（好ましくは１つ）の活性水素含有基（好ましくは水酸基）を有する。

成分（Ｂ２）炭素−炭素二重結合を含有する基及び活性水素を有するモノマーは、好ましくは、炭素−炭素二重結合を含有する基として、下記式（Ｄ１３）で表される基を有する。
−ＯＣ（Ｏ）−ＣＲ^２＝ＣＨ_２ （Ｄ１３）

上記式（Ｄ１３）中、Ｒ^２は、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基であり、好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又はメチル基である。ここで、Ｒ^２が水素原子又はメチル基である基、すなわち、−ＯＣ（Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ_２、又は、−ＯＣ（Ｏ）−ＣＣＨ_３＝ＣＨ_２は、総称して「（メタ）アクリレート基」とも称される。

成分（Ｂ２）としては、特に限定されるものではないが、例えば、下記の化合物：
ＨＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２）_ｉＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２ （Ｄ１４）
（上記式（Ｄ１４）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。ｉは、２〜１０の整数である。）、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート；
ＣＨ_３ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２ （Ｄ１５）
（上記式（Ｄ１５）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。）、例えば、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；
ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２ （Ｄ１６）
（上記式（Ｄ１６）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。）、例えば、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート；
Ｃ_６Ｈ_５ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２ （Ｄ１７）
（上記式（Ｄ１７）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。）、例えば、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート；
ＨＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２）_３ （Ｄ１８）
（上記式（Ｄ１８）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。）、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート；
Ｃ（ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２）_３ＣＨ_２ＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２）_２ＣＨ_２ＯＨ （Ｄ１９）
（上記式（Ｄ１９）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。）、例えば、ジペンタエリスリトールポリアクリレート；
ＨＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣ_６Ｈ_５ＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２ （Ｄ２０）
（上記式（Ｄ２０）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。）、例えば、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸；
Ｈ（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｎＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２ （Ｄ２１）
（上記式（Ｄ２１）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。ｎは、１〜３０の整数である。）、例えば、ポリ（エチレングリコール）アクリレート；
Ｈ（ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２）_ｎＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２ （Ｄ２２）
（上記式（Ｄ２２）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基である。ｎは、１〜３０の整数である。）、例えば、ポリ（プロピレングリコール）アクリレート；
アリルアルコール；
ＨＯ（ＣＨ_２）_ｋＣＨ＝ＣＨ_２ （Ｄ２３）
（上記式（Ｄ２３）中、ｋは２〜２０の整数である。）；
（ＣＨ_３）_３ＳｉＣＨ（ＯＨ）ＣＨ＝ＣＨ_２；及び、
スチリルフェノール
が挙げられる。

一態様において、成分（Ｂ）は、成分（Ｂ１）及び成分（Ｂ２）からなっていてもよい。

防汚剤に含まれる炭素−炭素二重結合含有化合物は、一分子のトリイソシアネートに、異なる種類の成分（Ｂ１）由来の基を有していてもよい。また、一分子のトリイソシアネートに、異なる種類の（例えば、異なる数の炭素−炭素二重結合を有する）成分（Ｂ２）由来の基を有していてもよい。

防汚剤は、１種以上の炭素−炭素二重結合含有化合物を含んでいてもよい。例えば、防汚剤は、成分（Ａ）と、成分（Ｂ１）としての化合物Ｂ１及び成分（Ｂ２）としての化合物Ｂ２とを反応させた化合物、並びに、成分（Ａ）と、成分（Ｂ１）としての化合物Ｂ１’及び成分（Ｂ２）としての化合物Ｂ２’とを反応させた化合物の混合物であってもよい。これらの化合物は同時に合成されてもよく、別個に合成され、その後混合してもよい。

防汚剤のうち公知のものとしては、例えば、ダイキン工業社製の「オプツール（登録商標）ＤＡＣ」及び「オプツールＤＡＣ−ＨＰ」、信越化学工業社製の「ＫＹ−１２０３」及び「ＫＮＳ５３００」、ＤＩＣ社製の「メガファック（登録商標）ＲＳ−７５」、「メガファックＲＳ−７２−Ｋ」、「メガファックＲＳ−７６−Ｅ」、「メガファックＲＳ−７６−ＮＳ」、「メガファックＲＳ−９０」、「ディフェンサ（登録商標）ＴＦ３０２８」、「ディフェンサＴＦ３００１」、及び、「ディフェンサＴＦ３０００」、新中村化学工業社製の「ＳＵＡ１９００Ｌ１０」及び「ＳＵＡ１９００Ｌ６」、ソルベイ社製の「フルオロリンク（登録商標）Ｐ５６」、「フルオロリンクＰ５４」、「フルオロリンクＦ１０」、「フルオロリンクＡ１０Ｐ」、「フルオロリンクＡＤ１７００」、「フルオロリンクＭＤ７００」、及び、「フルオロリンクＥ１０Ｈ」等が挙げられる。

樹脂３中の防汚剤の有効成分の含有率は、好ましくは０．１〜１０重量％であり、より好ましくは０．５〜５重量％である。樹脂３中の防汚剤の有効成分の含有率が０．１重量％未満である場合、重合体層６の表面（基材２とは反対側の表面）における防汚剤の有効成分の量が少なくなり過ぎてしまい、防汚性が不充分となり、更に、耐擦性が低下する懸念がある。樹脂３中の防汚剤の有効成分の含有率が１０重量％よりも高い場合、重合体層６の表面（基材２とは反対側の表面）における防汚剤の有効成分の量が多くなり過ぎてしまうため、重合体層６（凸部７）の弾性が不足し、重合体層６の表面（基材２とは反対側の表面）を擦ると、倒れた凸部７が起き上がりにくくなる（復元しにくくなる）。その結果、耐擦性が低下する懸念がある。

樹脂３は、更に、上述した防汚剤と相溶する相溶化剤を含んでいてもよい。相溶化剤によれば、樹脂３において、防汚剤が多量に含有される場合であっても、白濁の発生を防止することができる。

相溶化剤としては、例えば、Ｎ−アクリロイルモルホリン（例えば、ＫＪケミカルズ社製の「ＡＣＭＯ（登録商標）」）、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド（例えば、ＫＪケミカルズ社製の「ＤＥＡＡ（登録商標）」）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド（例えば、ＫＪケミカルズ社製の「ＤＭＡＡ（登録商標）」）、テトラヒドロフルフリルアクリレート（例えば、大阪有機化学工業社製の「ビスコート＃１５０」）、環状トリメチロールプロパンホルマールアクリレート（例えば、大阪有機化学工業社製の「ビスコート＃２００」）、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート（例えば、日本化成社製の「４ＨＢＡ」）、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ペンタアエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリシジルアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、ジメチルアミノエチル（メタ）クリレートシリコン系のアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、３−メチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチル−ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（１，１−ジメチル−３−オキソブチル）（メタ）アクリルレート、２−アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等が挙げられる。相溶化剤としては、アミド基、エーテル基、水酸基等の極性基を有する単官能モノマーが好ましい。樹脂３において、相溶化剤は、防汚剤に含まれていてもよく、防汚剤以外の成分に含まれていてもよく、両者に含まれていてもよい。

樹脂３中の相溶化剤の含有率は、好ましくは１０〜４０重量％であり、より好ましくは２０〜３０重量％である。樹脂３中の相溶化剤の含有率が１０重量％未満である場合、防汚剤の相溶化剤への溶解性が低下する懸念がある。樹脂３中の相溶化剤の含有率が４０重量％よりも高い場合、重合体層６が軟らかく、弾性が低くなる懸念がある。その結果、防汚性フィルム１の耐擦性が低下する懸念がある。

樹脂３としては、１種類若しくは２種類以上の硬化性樹脂、１種類若しくは２種類以上の硬化性モノマー、又は、硬化性樹脂と硬化性モノマーとの混合物を用いることができる。

硬化性樹脂は、耐熱性及び強度を有する樹脂であれば特に限定されず、光硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂のうちのいずれであってもよく、紫外線硬化性樹脂であることが好ましい。

硬化性樹脂としては、例えば、アクリル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、ポリアミド系ポリマー、ポリイミド系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、環状ポリオレフィン系ポリマー、フッ素含有ポリオレフィン系ポリマー（ＰＴＦＥ等）、フッ素含有環状非結晶性ポリマー等が挙げられる。凹凸構造の形成（上記プロセス（２））後に紫外線照射による硬化等の処理を行う場合、硬化性樹脂は透明性を有する樹脂であることが好ましい。

硬化性樹脂としては、具体的には、例えば、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、酢酸ビニル、ビニルピバレート、各種（メタ）アクリレート類：フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタアエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、エトキシエチルアクリレート、メトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、テトラヒドロフルフリールアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリオキシエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、ジメチルアミノエチルメタクリレートシリコン系のアクリレート、無水マレイン酸、ビニレンカーボネート、鎖状側鎖ポリアクリレート、環状側鎖ポリアクリレートポリノルボルネン、ポリノルボルナジエン、ポリカーボネート、ポリスルホン酸アミド、フッ素含有環状非結晶性ポリマー（例えば、サイトップ（登録商標）、テフロン（登録商標）ＡＦ等）等が挙げられる。

硬化性モノマーは、光硬化性モノマー及び熱硬化性モノマーのうちのいずれであってもよく、紫外線硬化性モノマーであることが好ましい。

硬化性モノマーとしては、例えば、（ａ）ウレタン（メタ）アクリレート、（ｂ）エポキシ（メタ）アクリレート、（ｃ）ポリエステル（メタ）アクリレート、（ｄ）ポリエーテル（メタ）アクリレート、（ｅ）シリコン（メタ）アクリレート、（ｆ）（メタ）アクリレートモノマー等が挙げられる。

硬化性モノマーとしては、具体的には、以下の例が挙げられる。

（ａ）ウレタン（メタ）アクリレートは、分子中にウレタン結合及び（メタ）アクリロイル基を有するものである。（ａ）ウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代表されるポリ［（メタ）アクリロイルオキシアルキル］イソシアヌレート等が挙げられる。

（ｂ）エポキシ（メタ）アクリレートは、エポキシ基に（メタ）アクリロイル基を付加したものであり、出発原料としてビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、フェノールノボラック、脂環化合物等を用いたものが一般的である。

（ｃ）ポリエステル（メタ）アクリレートは、多価アルコール及び多塩基酸からなるエステル樹脂に（メタ）アクリレートを付加したものであってもよい。多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等が挙げられる。多塩基酸としては、例えば、フタル酸、アジピン酸、マレイン酸、トリメリット酸、イタコン酸、コハク酸、テレフタル酸、アルケニルコハク酸等が挙げられる。

（ｄ）ポリエーテル（メタ）アクリレートは、ジオールのポリエーテル樹脂に（メタ）アクリレートを付加したものである。（ｄ）ポリエーテル（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（ｅ）シリコン（メタ）アクリレートは、分子量が１０００〜１００００であるジメチルポリシロキサンの少なくとも一方の末端を（メタ）アクリロイル基で変性したものであり、例えば、下記式（Ｄ２４）、（Ｄ２５）、又は、（Ｄ２６）で表される化合物が挙げられる。

（ｆ）（メタ）アクリレートモノマーは、単官能又は多官能のアルキル（メタ）アクリレート、５００ｍＰａ・ｓ（２５℃）以下の低粘度ポリエーテル（メタ）アクリレート等である。（ｆ）（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、３−メチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチル−ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（１，１−ジメチル−３−オキソブチル）（メタ）アクリルレート、２−アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等が挙げられる。

硬化性樹脂及び硬化性モノマーのうち公知で好ましいものとしては、以下のものが挙げられる。

硬化性樹脂としては、シリコン樹脂類（例えば、東洋合成工業社製の「ＰＡＫ−０１」、「ＰＡＫ−０２」）、ナノインプリント樹脂（例えば、旭硝子社製の「ＮＩＦシリーズ」、東京応化工業社製の「ＯＣＮＬシリーズ」、ダイセル化学工業社製の「ＮＩＡＣ２３１０」）、エポキシアクリレート樹脂類（例えば、共栄社化学社製の「ＥＨ−１００１」、「ＥＳ−４００４」、「ＥＸ−Ｃ１０１」、「ＥＸ−Ｃ１０６」、「ＥＸ−Ｃ３００」、「ＥＸ−Ｃ５０１」、「ＥＸ−０２０２」、「ＥＸ−０２０５」、「ＥＸ−５０００」）、ヘキサメチレンジイソシアネート系ポリイソシアネート類、イソシアヌレート型ポリイソシアネート類（例えば、住友バイエルウレタン社製の「スミジュールＮ−７５」、「スミジュールＮ３２００」、「スミジュールＨＴ」、「スミジュールＮ３３００」、「スミジュールＮ３５００」）等が挙げられる。

硬化性モノマーのうち、シリコンアクリレート系樹脂類としては、例えば、ＪＮＣ社製の「サイラプレーン（登録商標）ＦＭ−０６１１」；「サイラプレーンＦＭ−０６２１」；「サイラプレーンＦＭ−０６２５」；両末端型（メタ）アクリル系の「サイラプレーンＦＭ−７７１１」、「サイラプレーンＦＭ−７７２１」、「サイラプレーンＦＭ−７７２５」；「サイラプレーンＦＭ−０４１１」；「サイラプレーンＦＭ−０４２１」；「サイラプレーンＦＭ−０４２８」；「サイラプレーンＦＭ−ＤＡ１１」；「サイラプレーンＦＭ−ＤＡ２１」；「サイラプレーン−ＤＡ２５」；片末端型（メタ）アクリル系の「サイラプレーンＦＭ−０７１１」、「サイラプレーンＦＭ−０７２１」、「サイラプレーンＦＭ−０７２５」、「サイラプレーンＴＭ−０７０１」、「サイラプレーンＴＭ−０７０１Ｔ」等が挙げられる。

硬化性モノマーのうち、多官能アクリレート類としては、例えば、新中村化学工業社製の「Ｕ−１０ＨＡ」、「Ｕ−１０ＰＡ」、「ＵＡ−３３Ｈ」、「ＵＡ−５３Ｈ」、「ＵＡ−１１００Ｈ」、「ＵＡ−７０００」、「ＵＡ−７１００」、「ＡＴＭ−４Ｅ」、「ＡＴＭ−３５Ｅ」、「Ａ−ＤＰＨ」、「Ａ−９３００」、「Ａ−９３００−１ＣＬ」、「Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ」、「Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ」、「Ａ−ＴＭＭ−３」、「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、「Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ」、「Ａ−ＴＭＰＴ」、及び、「Ａ−ＴＭＭＴ」、共栄社化学社製の「ＵＡ−３０６Ｈ」、「ＵＡ−５３Ｔ」、「ＵＡ−５１０Ｈ」、「ライトアクリレートＰＥ−３Ａ」、及び、「ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ」、第一工業製薬社製の「ＰＥＴ−３」等が挙げられる。

硬化性モノマーのうち、多官能メタクリレート類としては、例えば、新中村化学工業社製の「ＴＭＰＴ」等が挙げられる。

硬化性モノマーのうち、アルコキシシラン基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリクロロシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリイソプロポキシシラン（別名：（トリイソプロポキシシリル）プロピルメタクリレート（ＴＩＳＭＡ）、及び、（トリイソプロポキシシリル）プロピルアクリレート）、３−（メタ）アクリルオキシイソブチルトリクロロシラン、３−（メタ）アクリルオキシイソブチルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシイソブチルトリイソプロポキ３−（メタ）アクリルオキシイソブチルトリメトキシシランシシラン等が挙げられる。

硬化性樹脂又は硬化性モノマーの配合量は、樹脂３の全量を１００質量部とすると、好ましくは５〜９９質量部であり、より好ましくは１０〜９９質量部であり、更に好ましくは５０〜９９質量部である。このような配合量であれば、相分離しない均一な組成物が得られる。

樹脂３は、更に、架橋触媒を含有していてもよい。架橋触媒としては、例えば、重合開始剤、酸発生剤等が挙げられる。

重合開始剤としては、例えば、ラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合開始剤等を用いることができる。樹脂３は、重合開始剤を１種類含有していてもよく、複数種類含有していてもよい。

ラジカル重合開始剤は、熱、光等によりラジカルを発生する化合物である。ラジカル重合開始剤としては、ラジカル熱重合開始剤、ラジカル光重合開始剤等が挙げられ、ラジカル光重合開始剤が好ましい。

ラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド類、ジクミルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド等のジアルキルパーオキシド類、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート等のパーオキシカーボネート類、ｔ−ブチルパーオキシオクトエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等のアルキルパーエステル類、等のパーオキシド化合物、及び、アゾビスイソブチロニトリル等のラジカル発生性アゾ化合物等が挙げられる。

ラジカル光重合開始剤としては、例えば、ベンジル、ジアセチル等の−ジケトン類、ベンゾイン等のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、チオキサントン−４−スルホン酸等のチオキサントン類、ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、４，４’−ビスメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、アセトフェノン、２−（４−トルエンスルホニルオキシ）−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−フェニルプロパン−１−オン、ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン類、アントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−クロロアントラキノン、２−アミルアントラキノン、１，４−ナフトキノン等のキノン類、アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類、２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル等のアミノ安息香酸類、フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン等のハロゲン化合物、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス−（２、６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド類、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等の過酸化物、及び、これらの混合物が挙げられる。これらの中でも、重合体層６が黄変しにくいという耐光性の観点から好ましいものは、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、及び、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドである。

ラジカル光重合開始剤のうち公知のものとしては、下記のものが挙げられる。
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ６５１」：２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４」：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ２９５９」：１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １２７」：２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７」：２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９」：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９」：２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９」：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ７８４」：ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１」：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０２」：エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ２６１」、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９」、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ５００」、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＴＰＯ」：２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、
ＢＡＳＦ社製の「ＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標） １１７３」：２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、
ＢＡＳＦ社製の「ＤＡＲＯＣＵＲ１１１６」、
ＢＡＳＦ社製の「ＤＡＲＯＣＵＲ２９５９」、
ＢＡＳＦ社製の「ＤＡＲＯＣＵＲ１６６４」、
ＢＡＳＦ社製の「ＤＡＲＯＣＵＲ４０４３」、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ７５４」：オキシフェニル酢酸と、２−［２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステルとオキシフェニル酢酸と、２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステルとの混合物、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ５００」：ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４」とベンゾフェノンとの混合物（重量比１：１）、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １３００」：ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９」と、ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１」との混合物（重量比３：７）、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８００」：ＢＡＳＦ社製の「ＣＧＩ４０３」と、ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４」との混合物（重量比１：３）、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８７０」：ＢＡＳＦ社製の「ＣＧＩ４０３」と、ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４」との混合物（重量比７：３）、
ＢＡＳＦ社製の「ＤＡＲＯＣＵＲ ４２６５」：ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＴＰＯ」と、ＢＡＳＦ社製の「ＤＡＲＯＣＵＲ １１７３」との混合物（重量比１：１）

架橋触媒としてラジカル光重合開始剤を用いる場合、増感剤として、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン等を併用してもよく、重合促進剤として、ＢＡＳＦ社製の「ＤＡＲＯＣＵＲ ＥＤＢ」（エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート）、ＢＡＳＦ社製の「ＤＡＲＯＣＵＲ ＥＨＡ」（２−エチルヘキシル−４−ジメチルアミノベンゾエート）等を併用してもよい。

増感剤を用いる場合、増感剤の配合量は、樹脂３中の硬化性樹脂又は硬化性モノマー１００質量部に対して、好ましくは０．１〜５質量部であり、より好ましくは０．１〜２質量部である。

重合促進剤を用いる場合、重合促進剤の配合量は、樹脂３中の硬化性樹脂又は硬化性モノマー１００質量部に対して、好ましくは０．１〜５質量部であり、より好ましくは０．１〜２質量部である。

酸発生剤は、熱、光等により酸を発生する材料である。酸発生剤としては、熱酸発生剤、光酸発生剤等が挙げられ、光酸発生剤が好ましい。

熱酸発生剤としては、例えば、ベンゾイントシレート、ニトロベンジルトシレート（特に、４−ニトロベンジルトシレート）、他の有機スルホン酸のアルキルエステル等が挙げられる。

光酸発生剤は、光を吸収する発色団と分解後に酸となる酸前駆体とにより構成されている。このような構造を有する光酸発生剤に特定波長の光を照射することで、光酸発生剤が励起し、酸前駆体部分から酸が発生する。

光酸発生剤としては、例えば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ＣＦ_３ＳＯ_３、ｐ−ＣＨ_３ＰｈＳＯ_３、ｐ−ＮＯ_２ＰｈＳＯ_３（これらの式中、Ｐｈはフェニル基を表す。）等の塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスルホニルクロリド、スルホン酸エステル、２−ハロメチル−５−ビニル−１，３，４−オキサジアゾール化合物、２−トリハロメチル−５−アリール−１，３，４−オキサジアゾール化合物、２−トリハロメチル−５−ヒドロキシフェニル−１，３，４−オキサジアゾール化合物等が挙げられる。なお、有機ハロゲン化合物は、ハロゲン化水素酸（例えば、塩化水素）を形成する化合物である。

光酸発生剤のうち公知のものとしては、下記のものが挙げられる。
和光純薬工業社製の「ＷＰＡＧ−１４５」：ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、
和光純薬工業社製の「ＷＰＡＧ−１７０」：ビス（ｔ−ブチルスルホニル）ジアゾメタン、
和光純薬工業社製の「ＷＰＡＧ−１９９」：ビス（ｐ−トルエンスルホニル）ジアゾメタン、
和光純薬工業社製の「ＷＰＡＧ−２８１」：トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
和光純薬工業社製の「ＷＰＡＧ−３３６」：ジフェニル−４−メチルフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
和光純薬工業社製の「ＷＰＡＧ−３６７」：ジフェニル−２，４，６−トリメチルフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ１０３」：（５−プロピルスルホニルオキシミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ１０８」：（５−オクチルスルホニルオキシミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ１２１」：（５−ｐ−トルエンスルホニルオキシミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、
ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ２０３」、
ＢＡＳＦ社製の「ＣＧＩ７２５」、
三和ケミカル社製の「ＴＦＥ−トリアジン」：２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン］、
三和ケミカル社製の「ＴＭＥ−トリアジン」：２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
三和ケミカル社製の「ＭＰ−トリアジン」：２−（メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
三和ケミカル社製の「ジメトキシトリアジン」：２−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン

架橋触媒の配合量は、樹脂３中の硬化性樹脂又は硬化性モノマー１００質量部に対して、好ましくは０．１〜１０質量部であり、より好ましくは０．３〜５質量部であり、更に好ましくは０．５〜２質量部である。架橋触媒の配合量がこのような範囲である場合、樹脂３を充分に硬化させることができる。

架橋触媒として酸発生剤を用いる場合、酸捕捉剤を必要に応じて添加することにより、酸発生剤から発生する酸の拡散を制御してもよい。

酸捕捉剤としては、樹脂３の昇華及び性能を劣化させないものであれば特に限定されないが、アミン（特に、有機アミン）、塩基性のアンモニウム塩、塩基性のスルホニウム塩等の塩基性化合物が好ましく、有機アミンが特に好ましい。

酸捕捉剤としては、例えば、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、１−ナフチルアミン、ピペリジン、ヘキサメチレンテトラミン、イミダゾール類、ヒドロキシピリジン類、ピリジン類、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、ピリジニウムｐ−トルエンスルホナート、２，４，６−トリメチルピリジニウムｐ−トルエンスルホナート、テトラメチルアンモニウムｐ−トルエンスルホナート、テトラブチルアンモニウムラクテート、トリエチルアミン、トリブチルアミン等が挙げられる。これらの中でも、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、１−ナフチルアミン、ピペリジン、ヘキサメチレンテトラミン、イミダゾール類、ヒドロキシピリジン類、ピリジン類、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、トリエチルアミン、トリブチルアミン等の有機アミンが好ましい。

酸捕捉剤の配合量は、酸発生剤１００質量部に対して、好ましくは２０質量部以下であり、より好ましくは０．１〜１０質量部であり、更に好ましくは０．５〜５質量部である。

樹脂３は、必要に応じて、溶剤（特に、水溶性有機溶剤、有機溶剤（特に、油溶性有機溶剤）、水）を含有していてもよい。

水溶性有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、酢酸エチル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジアセテート、トリプロピレングリコール、３−メトキシブチルアセテート（ＭＢＡ）、１，３−ブチレングリコールジアセテート、シクロヘキサノールアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール、カルビトールアセテート、乳酸エチル、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等が挙げられる。

有機溶剤としては、例えば、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、ｎ−又はｉ−プロパノール、ｎ−、ｓｅｃ−、又は、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、オクタノール等）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル又はエーテルエステル（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等）、エーテル（例えば、ＥＧモノメチルエーテル（メチルセロソロブ）、ＥＧモノエチルエーテル（エチルセロソロブ）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソロブ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、ハロゲン化炭化水素（例えば、メチレンジクロライド、エチレンジクロライド等）、石油系溶剤（石油エーテル、石油ナフサ等）、γ−ブチロラクトン、エチレングリコールモノメチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルアセテート、クロロホルム、ＨＣＦＣ１４１ｂ、ＨＣＨＣ２２５、ハイドロフルオロエーテル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、パークロロエチレン、テトラクロロジフルオロエタン、トリクロロトリフルオロエタン等が挙げられる。

樹脂３は、溶剤を１種類含有していてもよく、複数種類含有していてもよい。溶剤としては、樹脂３中の成分の溶解性、安全性の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、及び、３−メトキシブチルアセテートが好ましい。

樹脂３が溶剤を含有する場合、樹脂３中の溶剤の含有率は、好ましくは３０〜９５質量％であり、より好ましくは５０〜９０質量％である。

樹脂３は、上述したように、溶剤を必要に応じて含有していてもよいが、溶剤を含有していないことが好ましい。すなわち、樹脂３は、無溶剤系の樹脂であることが好ましい。無溶剤系の樹脂によれば、溶剤の使用に係るコスト、及び、環境面での負荷（使用時の臭気等）を低減することができる。更に、溶剤を除去するための装置が不要であり、装置コストを低減することができる。一方、樹脂３が溶剤を含有する場合、防汚剤が混ざり過ぎて、重合体層６の表面（基材２とは反対側の表面）におけるフッ素原子の濃度が低下する懸念がある。また、樹脂３の揮発性が高くなるため、塗布性が低下する懸念がある。

樹脂３は、更に、架橋剤を含有していてもよい。

架橋剤は、単官能化合物、又は、好ましくは２個以上の官能基を有する多官能化合物である。架橋剤は、ラジカル重合反応により硬化するものであることが好ましく、カチオン重合反応により硬化するものであってもよい。ラジカル重合反応により硬化する架橋剤は、不飽和二重結合基であるアクリロイル基、ビニル基等の官能基を有する。カチオン重合反応により硬化する架橋剤は、エポキシ基、ビニルエーテル基、オキセタン基等の官能基を有する。

架橋剤としては、例えば、（ａ）ウレタン（メタ）アクリレート、（ｂ）エポキシ（メタ）アクリレート、（ｃ）ポリエステル（メタ）アクリレート、（ｄ）ポリエーテル（メタ）アクリレート、（ｅ）シリコン（メタ）アクリレート、（ｆ）（メタ）アクリレートモノマー、（ｇ）エポキシ系モノマー、（ｈ）ビニルエーテル系モノマー、（ｉ）オキセタン系モノマー等が挙げられる。これらの架橋剤のうち、（ａ）〜（ｆ）はラジカル重合反応により硬化するものであり、（ｇ）〜（ｉ）はカチオン重合反応により硬化するものである。

架橋剤（ａ）〜（ｅ）は、樹脂に（メタ）アクリロイル基を付加したものであり、オリゴマー、ベースレジン、プレポリマー等と表記されることが多い。

（ａ）ウレタン（メタ）アクリレートは、分子中にウレタン結合及び（メタ）アクリロイル基を有するものである。（ａ）ウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代表されるポリ［（メタ）アクリロイルオキシアルキル］イソシアヌレート等が挙げられる。イソシアヌレートは、三官能のイソシアネート化合物である。これらのイソシアネートのうちの１つは、アルキル基（炭素数１〜２０）、フルオロアルキル基（炭素数１〜６）、又は、パーフルオロポリエーテル基（分子量１０００〜５００００）と、水酸基を一分子中に含有する化合物と、ウレタン結合を形成していてもよい。

（ｂ）エポキシ（メタ）アクリレートは、エポキシ基に（メタ）アクリロイル基を付加したものであり、出発原料としてビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、フェノールノボラック、脂環化合物等を用いたものが一般的である。

（ｃ）ポリエステル（メタ）アクリレートは、多価アルコール及び多塩基酸からなるエステル樹脂に（メタ）アクリレートを付加したものであってもよい。多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等が挙げられる。多塩基酸としては、例えば、フタル酸、アジピン酸、マレイン酸、トリメリット酸、イタコン酸、コハク酸、テレフタル酸、アルケニルコハク酸等が挙げられる。

（ｄ）ポリエーテル（メタ）アクリレートは、ジオールのポリエーテル樹脂に（メタ）アクリレートを付加したものである。（ｄ）ポリエーテル（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（ｅ）シリコン（メタ）アクリレートは、分子量が１０００〜１００００であるジメチルポリシロキサンの少なくとも一方の末端を（メタ）アクリロイル基で変性したものであり、例えば、下記式（Ｄ２４）、（Ｄ２５）、又は、（Ｄ２６）で表される化合物が挙げられる。

（ｆ）（メタ）アクリレートモノマーは、単官能又は多官能のアルキル（メタ）アクリレート、５００ｍＰａ・ｓ（２５℃）以下の低粘度ポリエーテル（メタ）アクリレート等である。（ｆ）（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、３−メチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチル−ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（１，１−ジメチル−３−オキソブチル）（メタ）アクリルレート、２−アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等が挙げられる。

（ｇ）エポキシ系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、レゾルシノール、フェノールノボラック、クレゾールノボラック等のフェノール類のグリシジルエーテル；ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のアルコール類のグリシジルエーテル；フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸等のカルボン酸のグリシジルエステル等のエポキシモノマー、これらのオリゴマー又は脂環型エポキシド、等が挙げられる。これらの中でも、ビスフェノールＡグリシジルエーテルモノマー又はオリゴマーが好ましい。具体的には、三菱化学社製の「エピコート８２８」（分子量３８０）、「エピコート８３４」（分子量４７０）、「エピコート１００１」（分子量９００）、「エピコート１００２」（分子量１０６０）、「エピコート１０５５」（分子量１３５０）、「エピコート１００７」（分子量２９００）等が例示される。

（ｈ）ビニルエーテル系モノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、シス−１，１，３−トリメチル−５−ビニルオキシシクロヘキサン、トランス−１，１，３−トリメチル−５−ビニルオキシシクロヘキサン、１−イソプロピル−４−メチル−２−ビニルオキシシクロヘキサン、２−ビニルオキシ−７−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−６−オン、２−メチル−２−ビニルオキシアダマンタン、２−エチル−２−ビニルオキシアダマンタン、１，３−ビス（ビニルオキシ）アダマンタン、１−ビニルオキシアダマンタノール、３−ビニルオキシ−１−アダマンタノール、１，３，５−トリス（ビニルオキシ）アダマンタン、３，５−ビス（ビニルオキシ）−１−アダマンタノール、５−ビニルオキシ−１，３−アダマンタンジオール、１，３，５，７−テトラキス（ビニルオキシ）アダマンタン、３，５，７−トリス（ビニルオキシ）−１−アダマンタノール、５，７−ビス（ビニルオキシ）−１，３−アダマンタンジオール、７−ビニルオキシ−１，３，５−アダマンタントリオール、１，３−ジメチル−５−ビニルオキシアダマンタン、１，３−ジメチル−５，７−ビス（ビニルオキシ）アダマンタン、３，５−ジメチル−７−ビニルオキシ−１−アダマンタノール、１−カルボキシ−３−ビニルオキシアダマンタン、１−アミノ−３−ビニルオキシアダマンタン、１−ニトロ−３−ビニルオキシアダマンタン、１−スルホ−３−ビニルオキシアダマンタン、１−ｔ−ブチルオキシカルボニル−３−ビニルオキシアダマンタン、４−オキソ−１−ビニルオキシアダマンタン、１−ビニルオキシ−３−（１−メチル−１−ビニルオキシエチル）アダマンタン、１−（ビニルオキシメチル）アダマンタン、１−（１−メチル−１−ビニルオキシエチル）アダマンタン、１−（１−エチル−１−ビニルオキシエチル）アダマンタン、１，３−ビス（１−メチル−１−ビニルオキシエチル）アダマンタン、１−（１−（ノルボルナン−２−イル）−１−ビニルオキシエチル）アダマンタン、２，５−ビス（ビニルオキシ）ノルボルナン、２，３−ビス（ビニルオキシ）ノルボルナン、５−メトキシカルボニル−２−ビニルオキシノルボルナン、２−（１−（ノルボルナン−２−イル）−１−ビニルオキシエチル）ノルボルナン、２−（ビニルオキシメチル）ノルボルナン、２−（１−メチル−１−ビニルオキシエチル）ノルボルナン、２−（１−メチル−１−ビニルオキシペンチル）ノルボルナン、３−ヒドロキシ−４−ビニルオキシテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカン、３，４−ビス（ビニルオキシ）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカン、３−ヒドロキシ−８−ビニルオキシテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカン、３，８−ビス（ビニルオキシ）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカン、３−メトキシカルボニル−８−ビニルオキシテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカン、３−メトキシカルボニル−９−ビニルオキシテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカン、３−（ビニルオキシメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカン、３−ヒドロキシメチル−８−ビニルオキシテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカン、３−ヒドロキシメチル−９−ビニルオキシテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカン、８−ヒドロキシ−３−（ビニルオキシメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカン、９−ヒドロキシ−３−（ビニルオキシメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカン、８−ビニルオキシ−４−オキサトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−３，５−ジオン、４−ビニルオキシ−１１−オキサペンタシクロ［６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３］ペンタデカン−１０，１２−ジオン、α−ビニルオキシ−γ，γ−ジメチル−γ−ブチロラクトン、α，γ，γ−トリメチル−α−ビニルオキシ−γ−ブチロラクトン、γ，γ−ジメチル−β−メトキシカルボニル−α−ビニルオキシ−γ−ブチロラクトン、８−ビニルオキシ−４−オキサトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−３−オン、９−ビニルオキシ−４−オキサトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−３−オン、８，９−ビス（ビニルオキシ）−４−オキサトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−３−オン、４−ビニルオキシ−２，７−ジオキサビシクロ［３．３．０］オクタン−３，６−ジオン、５−ビニルオキシ−３−オキサトリシクロ［４．２．１．０４，８］ノナン−２−オン、５−メチル−５−ビニルオキシ−３−オキサトリシクロ［４．２．１．０４，８］ノナン−２−オン、９−メチル−５−ビニルオキシ−３−オキサトリシクロ［４．２．１．０４，８］ノナン−２−オン、６−ビニルオキシ−３−オキサトリシクロ［４．３．１．１４，８］ウンデカン−２−オン、６，８−ビス（ビニルオキシ）−３−オキサトリシクロ［４．３．１．１４，８］ウンデカン−２−オン、６−ヒドロキシ−８−ビニルオキシ−３−オキサトリシクロ［４．３．１．１４，８］ウンデカン−２−オン、８−ヒドロキシ−６−ビニルオキシ−３−オキサトリシクロ［４．３．１．１４，８］ウンデカン−２−オン、及び、これらに対応するイソプロペニルエーテル類等が挙げられる。

（ｉ）オキセタン系モノマーとしては、例えば、１，４−ビス｛［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］エチル｝ベンゼン（例えば、東亞合成社製の「アロンオキセタン（登録商標）ＯＸＴ−１２１」）、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン（例えば、東亞合成社製の「アロンオキセタンＯＸＴ−１０１」）等が挙げられる。

樹脂３は、架橋触媒として酸発生剤を含有する場合、架橋剤として酸架橋剤を含有していてもよい。

酸架橋剤は、酸性基と、架橋する複数（例えば、２〜１０）の反応基（例えば、カルボン酸、水酸基、アミノ基、イソシアネート基、Ｎ−メチロール基、アルキルエーテル化したＮ−メチロール基、エポキシ基等）とを一分子中に有する化合物、又は、酢酸の多価金属塩である。酸架橋剤としては、例えば、アミノ樹脂、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、酢酸アルミニウム等が挙げられる。

アミノ樹脂としては、例えば、メラミン系化合物、グアナミン系化合物、尿素系化合物等のアミノ基の少なくとも一部をヒドロキシメチル化した化合物、又は、このヒドロキシメチル化した化合物の水酸基の少なくとも一部をメタノール、エタノール、ｎ−ブチルアルコール、２−メチル−１−プロパノール等でエーテル化した化合物が挙げられる。具体的には、例えば、ヘキサメトキシメチルメチロールメラミンが挙げられ、公知のものとしては、日本サイテックインダストリーズ社製のアルキル型、メチロール型、又は、イミノ型の各種アミノ樹脂等が挙げられる。

エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂等のグリシジルエーテル類；３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル等の脂環式エポキシ樹脂；ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート等のグリシジルエステル類；テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール等のグリシジルアミン類；トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ樹脂、等が挙げられる。

オキサゾリン化合物としては、例えば、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン等の重合性モノマーの共重合体が挙げられる。

樹脂３は、酸架橋剤を熱架橋剤として含有していてもよい。熱架橋剤は、ポストベーク時に膜の架橋性を向上させる目的で配合される架橋剤である。熱架橋剤の架橋密度を向上させるために、クロトン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ケイ皮酸等の酸無水物を、熱架橋剤と併用してもよい。

架橋剤と、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトール テトラキス（３−メルカプトブチレート）等の多官能チオールとを併用すると、樹脂３の硬化速度が上昇する。この場合、多官能チオールの配合量は、架橋剤１００質量部に対して、好ましくは０．１〜２０質量部であり、より好ましくは１〜１０質量部である。

金型４としては、例えば、下記の方法で作製されるものを用いることができる。まず、アルミニウム製の基材（ロール状）上に、絶縁材料としての二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）と、純アルミニウムとを順に成膜する。次に、成膜された純アルミニウムの層に対して、陽極酸化及びエッチングを交互に繰り返すことによって、モスアイ構造の雌型（金型４）を作製することができる。この際、陽極酸化を行う時間、及び、エッチングを行う時間を調整することによって、金型４の凹凸構造を変化させることができる。

金型４の表面は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基と、加水分解可能な基（例えば、アルコキシ基）と、Ｓｉ原子とを有する化合物を含んでなる離型剤５で離型処理が施されている。これにより、金型４を重合体層６から容易に剥離することができる。また、金型４の表面エネルギーが低くなるため、上記プロセス（２）において、基材２を金型４に押し当てる際に、樹脂３の防汚剤中のフッ素原子を樹脂３の表面（基材２とは反対側の表面）に効率良く配向させることができる。更に、樹脂３を硬化させる前に、フッ素原子が樹脂３の表面（基材２とは反対側の表面）から離れてしまうことを防止することができる。その結果、防汚性フィルム１において、フッ素原子を重合体層６の表面（基材２とは反対側の表面）に効率良く配向させることができる。

パーフルオロ（ポリ）エーテル基と、加水分解可能な基と、Ｓｉ原子とを有する化合物としては、具体的には、以下の式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、（２ｂ）、（３ａ）、及び、（３ｂ）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つの化合物（パーフルオロポリエーテル系化合物）が挙げられる。

まず、下記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）で表される化合物（フッ素シラン含有化合物）について説明する。

上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）中、Ｒｆ^１及びＲｆ^２は、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６の（例えば、直鎖状又は分枝鎖状の）アルキル基であり、好ましくは、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜３の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基である。また、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよいアルキル基は、好ましくは、末端炭素原子がＣＦ_２Ｈ−であり、かつ、他のすべての炭素原子がフッ素により全置換されているフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキル基であり、より好ましくはパーフルオロアルキル基であり、具体的には、−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、又は、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）中、パーフルオロポリエーテル基は、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｓ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ａ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｂ−（ＯＣＦ_２）_ｃ−で表される部分である。ａ、ｂ、ｃ、及び、ｓは、各々、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテルの４種の繰り返し単位数を表わす。ａ、ｂ、ｃ、及び、ｓは、互いに独立して０〜２００の整数（例えば、１〜２００の整数）である。ａ、ｂ、ｃ、及び、ｓの和は１以上であり、好ましくは２０〜１００であり、より好ましくは３０〜５０であり、代表的には約４０である。ａ、ｂ、ｃ、又は、ｓを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）中において任意である。これらの繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、及び、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−のうちのいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、及び、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のうちのいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−、及び、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のうちのいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。パーフルオロポリエーテル基を有する化合物によれば、防汚性フィルム１の防汚性（例えば、撥水性、撥油性、指紋拭き取り性等）が高まる。

上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）中、ｄ及びｆは、０又は１である。ｅ及びｇは、０〜２の整数である。ｈ及びｊは、１又は２である。ｉ及びｋは、２〜２０の整数である。

上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）中、Ｘは、水素原子又はハロゲン原子である。ハロゲン原子は、好ましくは、ヨウ素原子、塩素原子、フッ素原子であり、更に好ましくはヨウ素原子である。

上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）中、Ｙは、水素原子又は低級アルキル基である。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基である。

上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）中、Ｚは、フッ素原子又は低級フルオロアルキル基である。低級フルオロアルキル基は、例えば、炭素数１〜３のフルオロアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であり、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。

上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）において、特に限定されるものではないが、Ｒｆ^１及びＲｆ^２は炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、ｂ＝０、ｃ＝０、ｄ＝１、ｆ＝１であり、Ｚがフッ素原子であることが好ましい。このような構成によれば、耐擦性が高まる。また、ａを付して括弧でくくられた繰り返し単位−（ＯＣ_３Ｆ_６）−が、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−であり、ａ＝４０であることがより好ましい。このような構成によれば、パーフルオロポリエーテル基は直鎖状構造を有するため、分枝鎖状構造を有する場合と比較して、より高い耐擦性が得られ、合成が容易になる。

上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、及び、Ｔは、Ｓｉに結合する基である。ｎは、１〜３の整数である。

上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）中、Ｒ^１及びＲ^２は、炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数１〜２２のアルコキシ基、又は、水酸基であり、好ましくは、炭素数１〜２２のアルキル基、又は、炭素数１〜２２のアルコキシ基であり、より好ましくは、炭素数１〜３のアルキル基、又は、炭素数１〜３のアルコキシ基である。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基（例えば、炭素数１〜２２のアルコキシ基）が加水分解して生じたものであってよい。

上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）中、Ｔは、水酸基又は加水分解可能な基である。

上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）中、ｍ及びｌは、１〜１０の整数であり、好ましくは２〜６の整数である。

上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、特に限定されないが、好ましくは５×１０^２〜１×１０^５であり、より好ましくは２０００〜３００００であり、更に好ましくは３０００〜１００００であり、特に好ましくは３０００〜８０００である。数平均分子量が上記範囲である場合、高い摩擦耐久性が得られ、金型４への処理が容易になる。一方、数平均分子量が小さ過ぎると、摩擦耐久性が高まらない懸念があり、大き過ぎると金型４への処理方法が限定される懸念がある。

上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）で表される化合物の製造方法について、以下に例示するが、これに限定されない。

上記式（１ａ）及び（１ｂ）のうちの一方で表される化合物に関して、まず、原料として、下記式（１ａ−ｉｉ）及び（１ｂ−ｉｉ）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物を準備する。

上記式（１ａ−ｉｉ）及び（１ｂ−ｉｉ）中、Ｘ’は、ハロゲン原子であり、好ましくはヨウ素原子である。上記式（１ａ−ｉｉ）及び（１ｂ−ｉｉ）中、Ｘ’以外の記号は、上記式（１ａ）及び（１ｂ）中の記号と同意義である。

上記式（１ａ−ｉｉ）及び（１ｂ−ｉｉ）で表される化合物は、例えば、下記式（１ａ−ｉ）及び（１ｂ−ｉ）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物をハロゲン化（例えば、ヨウ素化）反応させることによって得られるが、これに限定されない。

上記式（１ａ−ｉ）及び（１ｂ−ｉ）中の記号は、上記式（１ａ）及び（１ｂ）中の記号と同意義である。

そして、上記式（１ａ−ｉｉ）及び（１ｂ−ｉｉ）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物を、下記式（Ｅ３）又は（Ｅ４）で表される化合物と反応させる。その結果、上記式（１ａ）及び（１ｂ）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物が得られる。
ＣＨ_２＝ＣＹ−（ＣＨ_２）_ｅ−ＳｉＸ’’_ｎＲ^１ _３−ｎ及びＴ−Ｈ （Ｅ３）
ＣＨ_２＝ＣＹ−（ＣＨ_２）_ｅ−ＳｉＴ_ｎＲ^１ _３−ｎ （Ｅ４）
（上記式（Ｅ３）及び（Ｅ４）中、Ｘ’’は、ハロゲン原子である。上記式（Ｅ３）及び（Ｅ４）中、Ｘ’’以外の記号は、上記式（１ａ）及び（１ｂ）中の記号と同意義である。）

上記式（２ａ）及び（２ｂ）のうちの一方で表される化合物に関して、まず、原料として、下記式（２ａ−ｉ）及び（２ｂ−ｉ）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物を準備する。

上記式（２ａ−ｉ）及び（２ｂ−ｉ）中の記号は、上記式（２ａ）及び（２ｂ）中の記号と同意義である。

次に、上記式（２ａ−ｉ）又は（２ｂ−ｉ）で表される少なくとも１種の化合物を、遷移金属（好ましくは、白金又はロジウム）の存在下で、下記式（Ｅ５）で表される化合物を用いてヒドロシリル化反応させる。
ＨＳｉＸ^１ _ｎＲ^２ _３−ｎ （Ｅ５）
（上記式（Ｅ５）中、Ｘ^１は、ハロゲン原子であり、好ましくは塩素原子である。Ｘ^１以外の記号は、上記式（２ａ）及び（２ｂ）中の記号と同意義である。）
その結果、下記式（２ａ−ｉｉ）及び（２ｂ−ｉｉ）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物が得られる。

上記式（２ａ−ｉｉ）及び（２ｂ−ｉｉ）中の記号は、上記式（２ａ）、（２ｂ）、及び、（Ｅ５）中の記号と同意義である。

そして、上記式（２ａ−ｉｉ）及び（２ｂ−ｉｉ）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物を、下記式（Ｅ６）で表される化合物により脱ハロゲン化反応させる。その結果、上記式（２ａ）及び（２ｂ）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物が得られる。
ＴＨ （Ｅ６）
（上記式（Ｅ６）中、Ｔは、上記式（２ａ）及び（２ｂ）中のＴと、水酸基を除いて同意義である。）

以上において、上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）で表される化合物について説明したが、これらの化合物は、上述した方法によって製造されるものに限定されない。

次に、下記式（３ａ）及び（３ｂ）で表される化合物（フッ素シラン含有化合物）について説明する。
Ａ−Ｒｆ−Ｘ−ＳｉＱ_ｋＹ_３−ｋ （３ａ）
Ｙ_３−ｋＱ_ｋＳｉ−Ｘ−Ｒｆ−Ｘ−ＳｉＱ_ｋＹ_３−ｋ （３ｂ）

上記式（３ａ）及び（３ｂ）中、Ａは、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基である。１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖状又は分枝鎖状の炭素数１〜１６のアルキル基であり、好ましくは、直鎖状または分枝鎖状の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖状の炭素数１〜３のアルキル基である。

上記式（３ａ）及び（３ｂ）中、Ａは、好ましくは、１つ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５パーフルオロアルキレン基であり、更に好ましくは炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である。

炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖状又は分枝鎖状の炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基であり、好ましくは、直鎖状又は分枝鎖状の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖状の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基（具体的には、−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、又は、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３）である。

上記式（３ａ）及び（３ｂ）中、Ｒｆは、下記式（Ｅ１）で表される基であり、パーフルオロポリエーテル基に該当する。
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ− （Ｅ１）

上記式（Ｅ１）中、ａ、ｂ、ｃ、及び、ｄは、各々独立して０以上の整数であり、各々の和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、及び、ｄは、好ましくは、各々独立して０〜２００の整数（例えば、１〜２００の整数）であり、より好ましくは、各々独立して０〜１００の整数（例えば、１〜１００の整数）である。更に好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、及び、ｄの和は、１０以上（好ましくは２０以上）、２００以下（好ましくは１００以下）である。ａ、ｂ、ｃ、又は、ｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式（Ｅ１）中において任意である。これらの繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−、及び、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のうちのいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、及び、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のうちのいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−、及び、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のうちのいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

一態様において、上記式（３ａ）及び（３ｂ）中のＲｆは、下記式（Ｅ７）で表される基であってもよく、好ましくは下記式（Ｅ８）で表される基である。
−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ− （Ｅ７）
（上記式（Ｅ７）中、ｂは、１〜２００の整数であり、好ましくは１０〜１００の整数である。）
−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ− （Ｅ８）
（上記式（Ｅ８）中のｂは、上記式（Ｅ７）中のｂと同意義である。）

別の一態様において、上記式（３ａ）及び（３ｂ）中のＲｆは、下記式（Ｅ９）で表される基であってもよく、好ましくは下記式（Ｅ１０）で表される基である。
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ− （Ｅ９）
（上記式（Ｅ９）中、ａ及びｂは、各々独立して０〜３０の整数であり、好ましくは０〜１０の整数である。ｃ及びｄは、各々独立して１〜２００の整数であり、好ましくは１０〜１００の整数である。ａ、ｂ、ｃ、及び、ｄの和は、１０以上（好ましくは２０以上）、２００以下（好ましくは１００以下）である。ａ、ｂ、ｃ、又は、ｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式（Ｅ９）中において任意である。）
−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ− （Ｅ１０）
（上記式（Ｅ１０）中、ａ、ｂ、ｃ、及び、ｄは、上記式（Ｅ９）中のａ、ｂ、ｃ、及び、ｄと互いに同意義である。）

上記式（３ａ）及び（３ｂ）中、Ｘは、二価の有機基である。上記式（３ａ）及び（３ｂ）で表される化合物において、Ｘは、主に撥水性及び滑り性を付与するパーフルオロポリエーテル部（Ａ−Ｒｆ−部、又は、−Ｒｆ−部）と、加水分解して金型４との結合能を付与するシラン部（−ＳｉＱ_ｋＹ_３−ｋ部）とを連結するリンカーと解される。したがって、このＸは、上記式（３ａ）及び（３ｂ）で表される化合物が安定的に存在し得るものであれば、いずれの二価の有機基であってもよい。

上記式（３ａ）及び（３ｂ）中のＸとしては、特に限定されるものではないが、例えば、下記式（Ｅ１１）で表される基が挙げられる。
−（Ｒ^６）_ｐ−（Ｘ^１）_ｑ−Ｒ^７− （Ｅ１１）
（上記式（Ｅ１１）中、Ｒ^６は、−（ＣＨ_２）_ｓ−、又は、ｏ−、ｍ−、若しくは、ｐ−フェニレン基であり、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｓ−である。Ｒ^７は、−（ＣＨ_２）_ｔ−、又は、ｏ−、ｍ−、若しくは、ｐ−フェニレン基であり、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ−である。Ｘ^１は、−（Ｘ^２）_ｒ−である。Ｘ^２は、各出現において、各々独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−、若しくは、ｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ^５−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^５−、−ＮＲ^５−、−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、又は、−（ＣＨ_２）_ｖ−である。Ｒ^３は、各出現において、各々独立して、フェニル基又は炭素数１〜６のアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。Ｒ^５は、各出現において、各々独立して、水素原子、フェニル基、又は、炭素数１〜６のアルキル基（好ましくはメチル基）である。ｍは、各出現において、各々独立して、１〜１００の整数であり、好ましくは１〜２０の整数である。ｖは、各出現において、各々独立して、１〜２０の整数であり、好ましくは１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数である。ｓは、１〜２０の整数であり、好ましくは１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数であり、更に好ましくは１又は２である。ｔは、１〜２０の整数であり、好ましくは２〜６の整数であり、より好ましくは２〜３の整数である。ｒは、１〜１０の整数であり、好ましくは１〜５の整数であり、より好ましくは１〜３の整数である。ｐは、０又は１である。ｑは、０又は１である。）

上記式（３ａ）及び（３ｂ）中のＸは、好ましくは、炭素数１〜２０のアルキレン基、下記式（Ｅ１２）で表される基、又は、下記式（Ｅ１３）で表される基であり、より好ましくは、炭素数１〜２０のアルキレン基、下記式（Ｅ１４）で表される基、又は、下記式（Ｅ１５）で表される基である。
−Ｒ^６−Ｘ^３−Ｒ^７− （Ｅ１２）
−Ｘ^４−Ｒ^７− （Ｅ１３）
（上記式（Ｅ１２）及び（Ｅ１３）中、Ｒ^６及びＲ^７は、上記式（Ｅ１１）中のＲ^６及びＲ^７と互いに同意義である。）
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｘ^３−（ＣＨ_２）_ｔ− （Ｅ１４）
−Ｘ^４−（ＣＨ_２）_ｔ− （Ｅ１５）
（上記式（Ｅ１４）及び（Ｅ１５）中、ｓ及びｔは、上記式（Ｅ１１）中のｓ及びｔと互いに同意義である。）

上記式（Ｅ１２）及び（Ｅ１４）中、Ｘ^３は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ^５−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^５−、−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｕ−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、−ＣＯＮＲ^５−（ＣＨ_２）_ｕ−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、−ＣＯＮＲ^５−（ＣＨ_２）_ｖ−Ｎ（Ｒ^５）−、又は、−ＣＯＮＲ^５−（ｏ−、ｍ−、又は、ｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−である（Ｒ^３、Ｒ^５、ｍ、及び、ｖは、上記式（Ｅ１１）中のＲ^３、Ｒ^５、ｍ、及び、ｖと互いに同意義である。ｕは、１〜２０の整数であり、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。）。Ｘ^３は、好ましくは−Ｏ−である。

上記式（Ｅ１３）及び（Ｅ１５）中、Ｘ^４は、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ^５−、−ＣＯＮＲ^５−（ＣＨ_２）_ｕ−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、−ＣＯＮＲ^５−（ＣＨ_２）_ｖ−Ｎ（Ｒ^５）−、又は、−ＣＯＮＲ^５−（ｏ−、ｍ−、又は、ｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−である（Ｒ^３、Ｒ^５、ｍ、及び、ｖは、上記式（Ｅ１１）中のＲ^３、Ｒ^５、ｍ、及び、ｖと互いに同意義である。ｕは、１〜２０の整数であり、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。）。

上記式（３ａ）及び（３ｂ）中のＸは、更に好ましくは、炭素数１〜２０のアルキレン基、下記式（Ｅ１６）で表される基、下記式（Ｅ１７）で表される基、又は、下記式（Ｅ１８）で表される基である。
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ− （Ｅ１６）
−（ＣＨ_２）_ｓ−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ− （Ｅ１７）
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｕ−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ− （Ｅ１８）
（上記式（Ｅ１６）、（Ｅ１７）、及び、（Ｅ１８）中の各記号は、上記式（Ｅ１２）、（Ｅ１３）、（Ｅ１４）、及び、（Ｅ１５）中の各記号と互いに同意義である。）

上記式（３ａ）及び（３ｂ）中のＸは、フッ素原子、炭素数１〜３のアルキル基、及び、炭素数１〜３のフルオロアルキル基（好ましくは、炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基）からなる群より選択される少なくとも１つの置換基により置換されていてもよい。

上記式（３ａ）及び（３ｂ）中、Ｙは、水酸基、加水分解可能な基、又は、炭化水素基である。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基（例えば、炭素数１〜２２のアルコキシ基）が加水分解して生じたものであってもよい。

上記式（３ａ）及び（３ｂ）中のＹは、好ましくは、水酸基、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケニル基、炭素数２〜１２のアルキニル基、フェニル基、又は、下記式（Ｅ１９）で表される基であり、より好ましくは、−ＯＣＨ_３、−ＯＣＨ_２ＣＨ_３、−ＯＣＨ（ＣＨ_３）_２である。これらの基は、例えば、フッ素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、及び、炭素数２〜６のアルキニル基からなる群より選択される少なくとも１つの置換基により置換されていてもよい。
−Ｏ（Ｒ^５） （Ｅ１９）
（上記式（Ｅ１９）中、Ｒ^５は、炭素数１〜１２のアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜３のアルキル基である。）

上記式（３ａ）及び式（３ｂ）中、Ｑは、下記式（Ｅ２）で表される基である。
−Ｚ−ＳｉＲ^１ _ｎＲ^２ _３−ｎ （Ｅ２）

上記式（Ｅ２）中、Ｚは、各出現において、各々独立して、二価の有機基である。

上記式（Ｅ２）中のＺは、好ましくは、上記式（３ａ）又は（３ｂ）における分子主鎖の末端のＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。

上記式（Ｅ２）中のＺは、好ましくは、炭素数１〜６のアルキレン基、下記式（Ｅ２０）で表される基、又は、下記式（Ｅ２１）で表される基であり、より好ましくは炭素数１〜３のアルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、及び、炭素数２〜６のアルキニル基からなる群より選択される少なくとも１つの置換基により置換されていてもよい。
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’− （Ｅ２０）
（上記式（Ｅ２０）中、ｓ’は、１〜６の整数である。ｔ’は、１〜６の整数である。）
−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｕ’− （Ｅ２１）
（上記式（Ｅ２１）中、ｕ’は、０〜６の整数である。）

上記式（Ｅ２）中、Ｒ^１は、各出現において、各々独立して、水酸基又は加水分解可能な基である。

上記式（Ｅ２）中のＲ^１は、好ましくは、下記式（Ｅ２２）で表される基である。
−ＯＲ^６ （Ｅ２２）
（上記式（Ｅ２２）中、Ｒ^６は、置換又は非置換の炭素数１〜３のアルキル基であり、好ましくはメチル基である。）

上記式（Ｅ２）中、Ｒ^２は、各出現において、各々独立して、炭素数１〜２２のアルキル基、又は、Ｑ’である。Ｑ’は、上記式（３ａ）及び式（３ｂ）中のＱと同意義である。

上記式（Ｅ２）中、ｎは、上述した各Ｑ及びＱ’において、各々独立して、０〜３の整数であり、ｎの総和は１以上である。各Ｑ又はＱ’において、ｎが０である場合、そのＱ又はＱ’中のＳｉは、水酸基及び加水分解可能な基を有さないことになる。したがって、ｎの総和は、１以上でなければならない。

上記式（Ｅ２）中のｎは、パーフルオロポリエーテル基を有する分子主鎖の末端のＳｉ原子に結合する、−Ｑ−Ｑ’_０−５鎖の末端のＱ’において、好ましくは２であり、より好ましくは３である。

上記式（Ｅ２）で表されるＱにおいて、Ｒ^２の少なくとも１つがＱ’である場合、Ｚを介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２つ以上存在する。このようなＺを介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は、最大で５つである。なお、「Ｑ中のＺを介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

ＱにおいてＺを介してＳｉ原子が連結された構成の一例を、下記式（Ｅ２３）に示す。

上記式（Ｅ２３）において、「＊」は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味する。「…」は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、すなわち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて「…」である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩（上付き）の数字は、「＊」から数えたＺを介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。すなわち、Ｓｉ^２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、「Ｑ中のＺを介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ^３、Ｓｉ^４、及び、Ｓｉ^５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、各々、「Ｑ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４、及び、５つである。なお、上記式（Ｅ２３）から明らかなように、Ｑ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、各々任意の長さであってもよい。

「Ｑ中のＺを介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、下記式（Ｅ２４）及び（Ｅ２５）に示すように、すべての鎖において、１つ（下記式（Ｅ２４））又は２つ（下記式（Ｅ２５））であることが好ましい。

一態様において、「Ｑ中のＺを介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、１つ（すなわち、Ｑ中にＳｉ原子は１つのみ存在する）又は２つであってもよく、好ましくは１つである。

上記式（３ａ）及び（３ｂ）中、ｋは、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数であり、より好ましくは３である。ｋが３である場合、金型４との結合が強固となり、高い摩擦耐久性が得られる。

一態様において、上記式（３ａ）及び（３ｂ）で表される化合物は、上記式（Ｅ２）で表されるＱにおけるＲ^２が炭素数１〜２２のアルキル基であってもよい。

別の一態様において、上記式（３ａ）及び（３ｂ）で表される化合物は、上記式（Ｅ２）で表されるＱにおけるＲ^２の少なくとも１つがＱ’であってもよい。

上記式（３ａ）及び（３ｂ）で表される化合物において、「Ａ−Ｒｆ−」部分の数平均分子量は、特に限定されないが、好ましくは５００〜３００００であり、より好ましくは１５００〜１００００であり、更に好ましくは３０００〜８０００である。

上記式（３ａ）及び（３ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、特に限定されないが、高い摩擦耐久性を得る観点からは、好ましくは５×１０^２〜１×１０^５であり、より好ましくは１５００〜３００００であり、更に好ましくは２５００〜１００００であり、特に好ましくは３０００〜８０００である。

上記式（３ａ）及び（３ｂ）で表される化合物の製造方法について、以下に例示するが、これに限定されない。

上記式（３ａ）又は（３ｂ）で表される化合物に関して、まず、下記式（３ａ−１）又は（３ｂ−１）で表される化合物を準備する。
Ａ−Ｒｆ−Ｘ’−ＣＨ＝ＣＨ_２ （３ａ−１）
ＣＨ _２ ＝ＣＨ−Ｘ’−Ｒｆ−Ｘ’−ＣＨ＝ＣＨ_２ （３ｂ−１）
（上記式（３ａ−１）及び（３ｂ−１）中、Ａ及びＲｆは、上記式（３ａ）及び（３ｂ）中のＡ及びＲｆと互いに同意義である。Ｘ’は二価の有機基である。）

次に、上記式（３ａ−１）又は（３ｂ−１）で表される化合物を、下記式（Ｅ２６）で表される化合物と反応させる。
ＨＳｉＭ_３ （Ｅ２６）
（上記式（Ｅ２６）中、Ｍは、各々独立して、ハロゲン原子又は炭素数１〜６のアルコキシ基である。）
その結果、下記式（３ａ−２）又は（３ｂ−２）で表される化合物が得られる。
Ａ−Ｒｆ−Ｘ’−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＳｉＭ_３ （３ａ−２）
Ｍ_３Ｓｉ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｘ’−Ｒｆ−Ｘ’−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＳｉＭ_３ （３ｂ−２）
（上記式（３ａ−２）及び（３ｂ−２）中、Ａ及びＲｆは、上記式（３ａ）及び（３ｂ）中のＡ及びＲｆと互いに同意義である。Ｘ’は、上記式（３ａ−１）及び（３ｂ−１）中のＸ’と同意義である。Ｍは、上記式（Ｅ２６）中のＭと同意義である。）

次に、上記式（３ａ−２）又は（３ｂ−２）で表される化合物を、下記式（Ｅ２７）で表される化合物、及び、所望により、下記式（Ｅ２８）で表される化合物と反応させる。
Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２ （Ｅ２７）
（上記式（Ｅ２７）中、Ｚ’は、結合又は二価のリンカー基である。Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、又は、Ｚｎである。Ｈａｌは、ハロゲン原子である。）
Ｙ_ｈＬ （Ｅ２８）
（上記式（Ｅ２８）中、Ｙは、上記式（３ａ）及び（３ｂ）中のＹと同意義である。Ｌは、Ｙと結合可能な基である。ｈは、１〜３の整数である。）
その結果、下記式（３ａ−３）又は（３ｂ−３）で表される化合物が得られる。
Ａ−Ｒｆ−Ｘ’−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｓｉ（Ｙ_３−ｋ’）（−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２）_ｋ’ （３ａ−３）
（ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｚ’−）_ｋ’（Ｙ_３−ｋ’）Ｓｉ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｘ’−Ｒｆ−＊
＊Ｘ’−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｓｉ（Ｙ_３−ｋ’）（−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２）_ｋ’ （３ｂ−３）
（上記式（３ａ−３）及び（３ｂ−３）中、Ａ、Ｒｆ、及び、Ｙは、上記式（３ａ）及び（３ｂ）中のＡ、Ｒｆ、及び、Ｙと互いに同意義である。Ｘ’は、上記式（３ａ−１）及び（３ｂ−１）中のＸ’と同意義である。Ｚ’は、上記式（Ｅ２７）中のＺ’と同意義である。ｋ’は、１〜３の整数である。）

そして、上記式（３ａ−３）又は（３ｂ−３）で表される化合物を、上記式（Ｅ２６）で表される化合物、並びに、所望により、下記式（Ｅ２９）で表される化合物、及び、下記式（Ｅ３０）で表される化合物のうちの少なくとも一方と反応させる。その結果、上記式（３ａ）又は（３ｂ）で表される化合物が得られる。
Ｒ^１ _ｉＬ’ （Ｅ２９）
（上記式（Ｅ２９）中、Ｒ^１は、上記式（Ｅ２）中のＲ^１と同意義である。Ｌ’は、Ｒ^１と結合可能な基である。ｉは、１〜３の整数である。）
Ｒ^２’ _ｊＬ’’ （Ｅ３０）
（上記式（Ｅ３０）中、Ｒ^２’は、炭素数１〜２２のアルキル基である。Ｌ’’は、Ｒ^２’と結合可能な基である。ｊは、１〜３の整数である。）

上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、（２ｂ）、（３ａ）、及び、（３ｂ）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つの化合物（パーフルオロポリエーテル系化合物）のうち公知のものとしては、例えば、ダイキン工業社製の「オプツールＤＳＸ」及び「オプツールＤＳＸ−Ｅ」、「オプツールＵＤ１００」、信越化学工業社製の「ＫＹ−１６４」及び「ＫＹ−１０８」等が挙げられる。

離型剤５は、上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、（２ｂ）、（３ａ）、及び、（３ｂ）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つの化合物（パーフルオロポリエーテル系化合物）に加えて、パーフルオロアルキル系化合物を含んでいてもよい。

パーフルオロアルキル系化合物としては、例えば、Ｃ_８Ｆ_１７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＭｅ）_３、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＭｅ）_３、Ｃ_４Ｆ_９ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＭｅ）_３等が挙げられる。

重合体層６の厚みＱは、１μｍ以上、２０μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上、１０μｍ以下であることがより好ましい。重合体層６の厚みＱが１μｍ未満である場合、金型４に所望の凹凸構造以外の局所的な歪み、異物等が存在すると、防汚性フィルム１で欠陥（金型４から転写された歪み、異物等）が視認されやすくなる懸念がある。重合体層６の厚みＱが２０μｍよりも大きい場合、樹脂３の硬化収縮に起因して防汚性フィルム１のカール等が発生する懸念がある。重合体層６の厚みＱは、図１（ｄ）に示すように、基材２側の表面から凸部７の頂点までの距離を指す。

凸部７の形状としては、例えば、柱状の下部と半球状の上部とによって構成される形状（釣鐘状）、錐体状（コーン状、円錐状）等の、先端に向かって細くなる形状（テーパー形状）が挙げられる。図１（ｄ）中、隣接する凸部７の間隙の底辺は傾斜した形状となっているが、傾斜せずに水平な形状であってもよい。

隣接する凸部７間のピッチＰは、可視光の波長（７８０ｎｍ）以下であれば特に限定されないが、２０ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であることがより好ましい。隣接する凸部７間のピッチＰが２０ｎｍ未満である場合、凸部７の機械的強度が不充分となり、防汚性フィルム１の耐擦性が低下する懸念がある。隣接する凸部７間のピッチＰが４００ｎｍよりも大きい場合、凹凸構造に起因する不要な回折、散乱等によって、防汚性フィルム１の外観上の問題が発生する懸念がある。本明細書中、隣接する凸部間のピッチは、走査型電子顕微鏡で撮影された平面写真における、任意の隣接する凸部間の距離（凸部の頂点間の距離）の平均値として決定される。例えば、まず、走査型電子顕微鏡で凹凸構造の平面写真（倍率：２万倍）を撮影し、その平面写真の数μｍ角の領域内の２００個程度の凸部において、隣接する凸部間の距離が短い３個の凸部の組み合わせを選択する。そして、３個の凸部間の各距離を測定し、それらの平均値を算出することによって、隣接する凸部間のピッチ（隣接する凸部間の平均距離）が決定される。

凸部７の高さは、５０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であることがより好ましい。凸部７の高さが５０ｎｍ未満である場合、防汚性フィルム１の反射防止性能が不充分となる懸念がある。凸部７の高さが５００ｎｍよりも大きい場合、凸部７の機械的強度が不充分となり、防汚性フィルム１の耐擦性が低下する懸念がある。

凸部７のアスペクト比は、０．１３以上、２５以下であることが好ましく、０．３以上、８以下であることがより好ましい。本明細書中、凸部のアスペクト比は、隣接する凸部間のピッチと凸部の高さとの比（高さ／ピッチ）を指す。凸部７の好ましいアスペクト比は、機械的強度（耐擦性）と光学性能（反射防止性能、及び、不要な回折、散乱等の防止性能）とを考慮した上で、隣接する凸部７間のピッチＰの好ましい範囲と凸部７の高さの好ましい範囲とで定められる。

凸部７は、ランダムに配置されていても、規則的（周期的）に配置されていてもよい。凸部７の配置には周期性があってもよいが、その周期性に起因する不要な回折光が発生しない等の利点から、凸部７の配置には周期性がない（ランダムである）ことが好ましい。

以上より、実施形態の防汚性フィルムの製造方法によれば、樹脂３としてパーフルオロ（ポリ）エーテル基を有する化合物を含んでなる防汚剤を含有するものを用い、離型剤５としてパーフルオロ（ポリ）エーテル基と、加水分解可能な基と、Ｓｉ原子とを有する化合物を含んでなるものを用いているため、両者の親和性を高めることができる。その結果、樹脂３中の防汚剤を効率良くブリードアウトさせることができるため、防汚性及び耐擦性に優れた防汚性フィルム１を製造することができる。防汚性フィルム１は防汚性に優れているため、付着した汚れが乾拭き可能である。また、耐擦性にも優れているため、ティッシュペーパー等で強く擦っても、凹凸構造の形状が崩れない。更に、スティッキングも発生しないため、凸部７を高くすることが可能であり、超低反射性を実現することができる。

以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。

［評価１：防汚剤の種類による評価］
防汚剤の種類を変化させて、防汚性フィルムの評価を行った。

防汚性フィルムを製造するために用いた材料は以下の通りである。

（基材２）
富士フイルム社製の「フジタック（登録商標）ＴＤ−６０」を用い、その厚みは６０μｍであった。

（樹脂３）
表１に示すような組成の樹脂Ａ１〜Ａ５、ａ１、及び、ａ２を用いた。各樹脂の材料名の略記は、以下の通りである。表１には、各樹脂における防汚剤の有効成分の含有率も示した。

＜防汚剤＞
防汚剤として、以下の４種類の化合物を用いた。

（１）「防汚剤Ａ」
防汚剤Ａは、下記の方法で作製されたものであり、パーフルオロポリエーテル系化合物を含むものであった。まず、反応器において、住友バイエルウレタン社製の「スミジュールＮ３３００」（ヘキサメチレンジイソシアナートの環状三量体、ＮＣＯ基の含有率：２１．９％）５７ｇを、日本ゼオン社製の「ゼオローラ（登録商標）Ｈ」１０００ｇに溶解させ、和光純薬工業社製のジブチルスズジラウレート（一級試薬）０．１ｇを添加した。その後、室温で撹拌しながら、「ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１１−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ」２４４ｇを日本ゼオン社製の「ゼオローラＨ」３００ｇに溶解させた溶液を滴下し、室温で終夜撹拌し続けた。その後、加温し、ヒドロキシエチルアクリレート２４．４ｇを滴下して撹拌した。反応の終点は、ＩＲによってＮＣＯの吸収が完全に消失した時点とした。その結果、防汚剤Ａが得られた。防汚剤Ａ中の有効成分の含有率は、２０重量％であった。

（２）「防汚剤Ｂ」
防汚剤Ｂは、下記の方法で作製されたものであり、パーフルオロポリエーテル系化合物を含むものであった。まず、上述した方法で作製した防汚剤Ａに４−アクリロイルモルホリン１３００ｇを添加した。その後、減圧下で加温しながら日本ゼオン社製の「ゼオローラＨ」を留去した。そして、^１９Ｆ−ＮＭＲにて日本ゼオン社製の「ゼオローラＨ」のピークが検出限界以下になったことを確認した。その結果、防汚剤Ｂが得られた。防汚剤Ｂ中の有効成分の含有率は、２０重量％であった。

（３）「防汚剤Ｃ」
防汚剤Ｃは、４−アクリロイルモルホリンの添加量を６５０ｇに変更したこと以外、防汚剤Ｂと同様にして作製されたものであり、パーフルオロポリエーテル系化合物を含むものであった。防汚剤Ｃ中の有効成分の含有率は、４０重量％であった。

（４）「防汚剤Ｄ」
ユニマテック社製の「ＣＨＥＭＩＮＯＸ（登録商標） ＦＡＡＣ−６」
防汚剤Ｄは、パーフルオロアルキル系化合物であった。

＜モノマー＞
・「ＡＴＭ」：新中村化学工業社製の「ＡＴＭ−３５Ｅ」
・「ＴＭＭ」：新中村化学工業社製の「Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ」
・「ＡＣ」：ＫＪケミカルズ社製の「ＡＣＭＯ」

＜重合開始剤＞
・「ＴＰＯ」：ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＴＰＯ」

（金型４）
下記の方法で作製したものを用いた。まず、金型４の材料となるアルミニウムを、１０ｃｍ角のガラス基板上にスパッタリング法によって成膜した。成膜されたアルミニウムの層の厚みは、１．０μｍであった。次に、成膜されたアルミニウムの層に対して、陽極酸化及びエッチング（陽極酸化の直後）を交互に繰り返すことによって、多数の微小な穴（隣り合う穴（凹部）の底点間の距離が可視光の波長以下）が設けられた陽極酸化層を形成した。具体的には、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、及び、陽極酸化を順に行う（陽極酸化：５回、エッチング：４回）ことによって、凹凸構造を有する金型４を作製した。このように陽極酸化及びエッチングを交互に繰り返すことによれば、形成される微小な穴（凹部）は、金型の内部に向かって細くなる形状（テーパー形状）となる。陽極酸化は、シュウ酸（濃度：０．６重量％）を用いて、液温５℃、印加電圧８０Ｖの条件下で行った。１回の陽極酸化を行う時間は、２０秒とした。エッチングは、リン酸（濃度：１ｍｏｌ／ｌ）を用いて、液温３０℃の条件下で行った。１回のエッチングを行う時間は、２５分とした。金型４を走査型電子顕微鏡で観察したところ、隣接する凹部間のピッチ（底点間の距離）は約１８０ｎｍ、凹部の深さは約１８０ｎｍであった。なお、各凹部の形状は、円錐型であった。

（離型剤５）
・「離型剤Ａ」：ダイキン工業社製の「オプツールＤＳＸ」

（実施例１）
実施例１の防汚性フィルムを、実施形態の防汚性フィルムの製造方法によって作製した。

（ａ）樹脂の塗布（プロセス（１））
樹脂３を基材２の表面上に、バーコーターで塗布した。樹脂３としては、上述した樹脂Ａ１を用い、その厚みは７μｍであった。

一方、金型４を準備した。金型４の表面には、離型剤５が塗布され、離型処理が施されていた。具体的には、まず、離型剤５をフロロテクノロジー社製の「Ｓ−１３５」で希釈した希釈液を作製した。希釈液中の離型剤５の濃度は０．１％であった。次に、金型４の表面に対して、Ｏ_２アッシングを２００Ｗで２０分間行った。そして、離型剤５の希釈液を３分間浸漬させることによって、金型４の表面に塗布した。その後、離型剤５が表面に塗布された金型４に対して、１００℃で１時間アニールを行い、フロロテクノロジー社製の「Ｓ−１３５」で３分間リンスした。

（ｂ）凹凸構造の形成（プロセス（２））
樹脂３を間に挟んだ状態で基材２を金型４に押し当てた。その結果、凹凸構造が樹脂３の表面（基材２とは反対側の表面）に形成された。

（ｃ）樹脂の硬化（プロセス（３））
凹凸構造を表面に有する樹脂３に、ＨＥＲＡＥＵＳ社製のＵＶランプ「ＬＩＧＨＴ ＨＡＮＭＡＲ６Ｊ６Ｐ３」を用いて、基材２側から紫外線（照射量：１Ｊ／ｃｍ^２）を照射して硬化させ、重合体層６を形成した。重合体層６の厚みＱは、７μｍであった。

（ｄ）金型の剥離
金型４を重合体層６から剥離した。その結果、防汚性フィルム１が完成した。防汚性フィルム１の表面仕様は、下記の通りであった。防汚性フィルム１の表面仕様の評価は、日立ハイテクノロジーズ社製の走査型電子顕微鏡「Ｓ−４７００」を用いて行われた。なお、評価時には、メイワフォーシス社製のオスミウムコーター「Ｎｅｏｃ−ＳＴ」を用いて、重合体層６の基材２とは反対側の表面上に和光純薬工業社製の酸化オスミウムＶＩＩＩ（厚み：５ｎｍ）が塗布されていた。
凸部７の形状：釣鐘状
隣接する凸部７間のピッチＰ：約１８０ｎｍ
凸部７の高さ：約１８０ｎｍ
凸部７のアスペクト比：１．０

（実施例２〜５、及び、比較例１、２）
表２に示すような組成に変更したこと以外、実施例１と同様にして、各例の防汚性フィルムを作製した。

（評価内容及び評価結果）
実施例１〜５、及び、比較例１、２の防汚性フィルムについて、防汚性と、耐擦性と、基材と重合体層との間の密着性（以下、単に、密着性とも言う。）とを評価した。結果を表２に示す。

＜防汚性＞
防汚性としては、撥水性及び撥油性を評価した。

撥水性としては、各例の防汚性フィルムの表面（重合体層の基材とは反対側の表面）に対する水の接触角を評価した。具体的には、各例の防汚性フィルムの表面（重合体層の基材とは反対側の表面）に対して水を滴下し、滴下直後の接触角を測定した。

撥油性としては、各例の防汚性フィルムの表面（重合体層の基材とは反対側の表面）に対するヘキサデカンの接触角を評価した。具体的には、各例の防汚性フィルムの表面（重合体層の基材とは反対側の表面）に対してヘキサデカンを滴下し、滴下直後、及び、１０秒後の接触角を測定した。

水及びヘキサデカンの接触角は、協和界面科学社製のポータブル接触角計「ＰＣＡ−１」を用いて、θ／２法（θ／２＝ａｒｃｔａｎ（ｈ／ｒ）、θ：接触角、ｒ：液滴の半径、ｈ：液滴の高さ）で測定された、３箇所の接触角の平均値を示す。ここで、１箇所目の測定点としては、各例の防汚性フィルムの中央部分を選択し、２箇所目及び３箇所目の測定点としては、１箇所目の測定点から２０ｍｍ以上離れ、かつ、１箇所目の測定点に対して互いに点対称な位置にある２点を選択した。

＜耐擦性＞
耐擦性は、下記の方法によって評価された。まず、各例の防汚性フィルムの表面（重合体層の基材とは反対側の表面）をティッシュペーパーで２〜３回擦った。その後、ティッシュペーパーで擦った部分の白化度合いを、照度１００ｌｘ（蛍光灯）の環境下で浅い角度から目視観察した。判定基準は、下記の通りとした。
○：全く変化しなかった（全く白化して見えなかった）。
△：わずかに白化して見えた。
×：明らかに白化して見えた。
ここで、評価結果が○又は△である場合を、許容可能なレベル（耐擦性が優れている）と判断した。

＜密着性＞
密着性は、下記の方法によって評価された。まず、各例の防汚性フィルムの表面（重合体層の基材とは反対側の表面）に対して、カッターナイフで、碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを１ｍｍ間隔で入れて、１００個の正方形状の升目（１ｍｍ角）を刻んだ。そして、日東電工社製のポリエステル粘着テープ「Ｎｏ．３１Ｂ」を升目部分に圧着した後、粘着テープを升目部分の表面に対して９０°の方向に、１００ｍｍ／ｓの速度で剥がした。その後、基材上の重合体層の剥離状態を目視観察し、基材上の重合体層が剥がれずに残った升目の個数を数えた。結果を、「Ｘ」で示した（Ｘは、基材上の重合体層が剥がれずに残った升目の個数）。

表２に示すように、実施例１〜５はいずれも、比較例１、２と比較して、防汚性（特に、撥油性）に優れていた。実施例３は、他の実施例と比較して、耐擦性が若干劣っていた。これは、防汚剤に含まれるＮ−アクリロイルモルホリン（「ＡＣＭＯ」）の量が実施例３で最も多く、重合体層６の架橋密度が低下し、弾性が低いためである。この場合、重合体層６の表面（基材２とは反対側の表面）をティッシュペーパーで擦ると、凸部７は倒れた後、起き上がりにくい（白化して見える）。実施例４は、他の実施例と比較して、密着性が劣っていた。これは、実施例４で用いた樹脂Ａ４中の防汚剤Ａに含まれる溶剤成分が基材と重合体層との間の界面に残存しており、その界面における基材と重合体層との相互作用が低下したためであると推定される。以上より、水及びヘキサデカンの接触角（経時変化を含む）も考慮すると、実施例５が性能面で最も優れていた。防汚性フィルム１の表面に対して、水の接触角は１３０°以上であり、ヘキサデカンの接触角は３０°以上であることが好ましい。なお、防汚剤としてパーフルオロ（ポリ）エーテル基を有する化合物を用いて、その樹脂中の有効成分の含有率を０．５重量％とした場合についても検証を行い、防汚性が優れていることを確認した。

［評価２：樹脂中の防汚剤の有効成分の含有率による評価］
評価１の結果を踏まえた上で、実施例５で用いた防汚剤（防汚剤Ｃ）について、樹脂中の防汚剤の有効成分の含有率を変化させて防汚性を評価した。

防汚性フィルムを製造するために用いた材料は、樹脂以外、実施例５と同様である。

（樹脂３）
表３に示すような組成の樹脂Ａ６〜Ａ９を用いた。各樹脂の材料名の略記は、以下の通りである。表３には、各樹脂における防汚剤の有効成分の含有率も示した。

＜防汚剤＞
・「防汚剤Ｃ」

＜モノマー＞
・「ＵＡ」：共栄社化学社製の「ＵＡ−５１０Ｈ」
・「ＡＴＭ」：新中村化学工業社製の「ＡＴＭ−３５Ｅ」
・「ＤＰＥ」：共栄社化学社製の「ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ」
・「ＤＭ」：ＫＪケミカルズ社製の「ＤＭＡＡ」

＜重合開始剤＞
・「８１９」：ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９」

（実施例６〜９）
表４に示すような組成に変更したこと以外、実施例５と同様にして、各例の防汚性フィルムを作製した。

（評価内容及び評価結果）
実施例６〜９の防汚性フィルムについて、防汚性を評価した。結果を表４に示す。防汚性としては、評価１と同様にして、撥水性（水の接触角）、及び、撥油性（ヘキサデカンの接触角）を評価した。

表４に示すように、実施例６、実施例７、実施例８、及び、実施例９の順に、樹脂中の防汚剤の有効成分の含有率が増加すると、防汚性が同等以上になることが分かった。

次に、実施例６〜９の防汚性フィルムに対して、ガスクラスターイオンビーム（ＧＣＩＢ：Ｇａｓ Ｃｌｕｓｔｅｒ Ｉｏｎ Ｂｅａｍ）によって凹凸構造をエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ：Ｘ−ｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）による測定を行った。測定装置としては、アルバック・ファイ社製のＸ線光電子分光分析装置（製品名：ＰＨＩ ５０００ ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅ ＩＩ）に、同社製のアルゴンガスクラスタースパッタイオン銃（製品名：０６−２０００）を搭載したものを用いた。

Ｘ線光電子分光法による測定条件は、下記の通りであった。
・Ｘ線ビーム径：１００μｍ（２５Ｗ、１５ｋＶ）
・分析面積：１０００μｍ×５００μｍ
・光電子の取り出し角度：４５°
・パスエネルギー：４６．９５ｅＶ

ガスクラスターイオンビームによるスパッタリング条件、及び、帯電中和条件は、下記の通りであった。
＜スパッタリング条件＞
・イオン源：アルゴンガスクラスターイオンビーム
・加速電圧：１０ｋＶ（１５ｍＡ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ）
・試料電流：３０ｎＡ
・ラスター領域：４ｍｍ×３ｍｍ
・Ｚａｌａｒ回転：未使用
・スパッタリング時間：８１分間（１．５分×２サイクル、３分×８サイクル、及び、６分×９サイクルの合計時間）
・スパッタリングレート（エッチングレート）：２７ｎｍ／分（ポリヒドロキシスチレン換算）
＜帯電中和条件＞
・電子銃：Ｂｉａｓ １．０Ｖ（２０μＡ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ）
・イオン銃：３Ｖ（７ｍＡ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ）

図２は、炭素原子の数、酸素原子の数、及び、フッ素原子の数の合計数に対する各原子の数の比率を示すグラフであり、（ａ）は実施例６を示し、（ｂ）は実施例７を示し、（ｃ）は実施例８を示し、（ｄ）は実施例９を示す。図２に示すように、実施例６〜９の防汚性フィルムにおいては、フッ素原子がごく表層に高濃度で偏在していることが分かった。具体的には、防汚性フィルムの表面（エッチング時間：０分）におけるフッ素原子濃度は、実施例６で３８．６ａｔｏｍ％、実施例７で４５．１ａｔｏｍ％、実施例８で４５．０ａｔｏｍ％、実施例９で４５．６ａｔｏｍ％であった。防汚性フィルムの表面におけるフッ素原子濃度は、好ましくは３８ａｔｏｍ％以上であり、より好ましくは４５ａｔｏｍ％以上である。

［評価３：離型剤の種類による評価］
離型剤の種類を変化させて、防汚性フィルムの評価を行った。

防汚性フィルムを製造するために用いた材料は、離型剤以外、実施例５と同様である。

（離型剤５）
離型剤として、以下の４種類の化合物を用いた。各離型剤名の略記は、以下の通りである。

（１）「離型剤Ａ」
ダイキン工業社製の「オプツールＤＳＸ」

（２）「離型剤Ｂ」
ダイキン工業社製の「オプツールＵＤ１００」

（３）「離型剤Ｃ」
ダイキン工業社製の「オプツールＤＳＸ」とＣ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＭｅ）_３との混合物（重量比１：１）

（４）「離型剤Ｄ」
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＭｅ）_３

（実施例１０〜１２、及び、比較例３）
表５に示すような組成に変更したこと以外、実施例５と同様にして、各例の防汚性フィルムを作製した。

（評価内容及び評価結果）
実施例１０〜１２、及び、比較例３の防汚性フィルムについて、防汚性を評価した。結果を表５に示す。防汚性としては、評価１と同様にして、撥水性（水の接触角）を評価した。

表５に示すように、実施例１０〜１２はいずれも、比較例３と比較して、水の接触角が高く、防汚性に優れていた。よって、樹脂としてパーフルオロポリエーテル系化合物を含んでなる防汚剤を含有するものを用いる場合、実施例１０〜１２のように、離型剤としてパーフルオロポリエーテル系化合物を含んでなるものを用いれば、防汚性を高めることができる。

［付記］
本発明の一態様は、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する重合体層を備える防汚性フィルムの製造方法であって、樹脂を基材の表面上に塗布するプロセス（１）と、上記樹脂を間に挟んだ状態で上記基材を金型に押し当て、上記凹凸構造を上記樹脂の表面に形成するプロセス（２）と、上記凹凸構造を表面に有する上記樹脂を硬化させ、上記重合体層を形成するプロセス（３）とを含み、上記樹脂は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基を有する化合物を含んでなる防汚剤を含有し、上記金型の表面は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基と、加水分解可能な基と、Ｓｉ原子とを有する化合物を含んでなる離型剤で離型処理が施されている防汚性フィルムの製造方法であってもよい。この態様によれば、防汚性及び耐擦性に優れた防汚性フィルムを製造することができる。

上記防汚剤は、成分（Ａ）ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートと成分（Ｂ）活性水素を有する化合物との反応物である炭素−炭素二重結合含有化合物を含んでなり、上記成分（Ｂ）は、成分（Ｂ１）活性水素を有するパーフルオロポリエーテルと、成分（Ｂ２）炭素−炭素二重結合を含有する基及び活性水素を有するモノマーとを含み、上記成分（Ｂ１）は、下記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物であってもよい。このような構成によれば、上記防汚剤を効果的に利用することができる。
Ｒｆ−ＰＦＰＥ^１−Ｚ−Ｘ （Ｂ１−ｉ）
Ｘ−Ｚ−ＰＦＰＥ^２−Ｚ−Ｘ （Ｂ１−ｉｉ）
（上記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）中、Ｒｆは、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基である。ＰＦＰＥ^１は、下記式（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は、（Ｄ３）で表される基である。
−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ− （Ｄ１）
（上記式（Ｄ１）中、ｂは、１〜２００の整数である。）
−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ− （Ｄ２）
（上記式（Ｄ２）中、ａ及びｂは、各々独立して、０〜３０の整数である。ｃ及びｄは、各々独立して、１〜２００の整数である。ａ、ｂ、ｃ、又は、ｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式（Ｄ２）中において任意である。）
−（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^５）_ｉ− （Ｄ３）
（上記式（Ｄ３）中、Ｒ^５は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、又は、ＯＣ_４Ｆ_８である。ｉは、２〜１００の整数である。）
ＰＦＰＥ^２は、下記式（Ｄ４）又は（Ｄ５）で表される基である。
−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ− （Ｄ４）
（上記式（Ｄ４）中、ｂは、１〜２００の整数である。）
−（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^５）_ｉ− （Ｄ５）
（上記式（Ｄ５）中、Ｒ^５は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、又は、ＯＣ_４Ｆ_８である。ｉは、２〜１００の整数である。）
Ｚは、各々独立して、二価の有機基である。Ｘは、活性水素含有基である。）

上記離型剤は、下記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、（２ｂ）、（３ａ）、及び、（３ｂ）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つの化合物を含んでなるものであってもよい。このような構成によれば、上記離型剤を効果的に利用することができる。

上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）中、Ｒｆ^１及びＲｆ^２は、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基である。ａ、ｂ、ｃ、及び、ｓは、互いに独立して０〜２００の整数であり、各々の和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、又は、ｓを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、及び、（２ｂ）中において任意である。ｄ及びｆは、０又は１である。ｅ及びｇは、０〜２の整数である。ｈ及びｊは、１又は２である。ｉ及びｋは、２〜２０の整数である。Ｘは、水素原子又はハロゲン原子である。Ｙは、水素原子又は低級アルキル基である。Ｚは、フッ素原子又は低級フルオロアルキル基である。Ｒ^１及びＲ^２は、炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数１〜２２のアルコキシ基、又は、水酸基である。Ｔは、水酸基又は加水分解可能な基である。ｎは、１〜３の整数である。ｍ及びｌは、１〜１０の整数である。

Ａ−Ｒｆ−Ｘ−ＳｉＱ_ｋＹ_３−ｋ （３ａ）
Ｙ_３−ｋＱ_ｋＳｉ−Ｘ−Ｒｆ−Ｘ−ＳｉＱ_ｋＹ_３−ｋ （３ｂ）
（上記式（３ａ）及び（３ｂ）中、Ａは、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基である。Ｒｆは、下記式（Ｅ１）で表される基である。
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ− （Ｅ１）
（上記式（Ｅ１）中、ａ、ｂ、ｃ、及び、ｄは、各々独立して０以上の整数であり、各々の和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、又は、ｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式（Ｅ１）中において任意である。）
Ｘは、二価の有機基である。Ｙは、水酸基、加水分解可能な基、又は、炭化水素基である。Ｑは、下記式（Ｅ２）で表される基である。
−Ｚ−ＳｉＲ^１ _ｎＲ^２ _３−ｎ （Ｅ２）
（上記式（Ｅ２）中、Ｚは、各出現において、各々独立して、二価の有機基である。Ｒ^１は、各出現において、各々独立して、水酸基又は加水分解可能な基である。Ｒ^２は、各出現において、各々独立して、炭素数１〜２２のアルキル基、又は、Ｑ’である。Ｑ’は、Ｑと同意義である。ｎは、各Ｑ及びＱ’において、各々独立して、０〜３の整数であり、ｎの総和は１以上である。）
ｋは、１〜３の整数である。）

上記樹脂中の上記防汚剤の有効成分の含有率は、０．１重量％以上、１０重量％以下であってもよい。このような構成によれば、上記防汚性フィルムの防汚性及び耐擦性が充分に高まる。

上記樹脂は、紫外線によって硬化するものであってもよい。このような構成によれば、上記樹脂を効果的に利用することができる。

上記防汚性フィルムの表面に対して、水の接触角は１３０°以上であり、ヘキサデカンの接触角は３０°以上であってもよい。このような構成によれば、上記防汚性フィルムの防汚性が充分に高まる。

上記防汚性フィルムの表面におけるフッ素原子濃度は、３８ａｔｏｍ％以上であってもよい。このような構成によれば、上記防汚性フィルムの防汚性が充分に高まる。

上記重合体層の厚みは、１μｍ以上、２０μｍ以下であってもよい。このような構成によれば、上記防汚性フィルムで欠陥（上記金型から転写された歪み、異物等）が視認されやすくなることが防止される。更に、上記樹脂の硬化収縮に起因する上記防汚性フィルムのカール等の発生が防止される。

上記ピッチは、２０ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であってもよい。このような構成によれば、上記防汚性フィルムの耐擦性の低下が防止され、外観上の問題の発生も防止される。

上記複数の凸部の高さは、各々、５０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であってもよい。このような構成によれば、上記防汚性フィルムの反射防止性能が不充分となることが防止される。更に、上記複数の凸部の機械的強度が不充分となり、上記防汚性フィルムの耐擦性が低下することを防止することができる。

上記複数の凸部のアスペクト比は、各々、０．１３以上、２５以下であってもよい。このような構成によれば、上記防汚性フィルムの機械的強度（耐擦性）と光学性能（反射防止性能、及び、不要な回折、散乱等の防止性能）とを高い水準で両立することができる。

１：防汚性フィルム
２：基材
３：樹脂
４：金型
５：離型剤
６：重合体層
７：凸部
Ｐ：ピッチ
Ｑ：重合体層の厚み

Claims (11)

1. 複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する重合体層を備える防汚性フィルムの製造方法であって、
   樹脂を基材の表面上に塗布するプロセス（１）と、
   前記樹脂を間に挟んだ状態で前記基材を金型に押し当て、前記凹凸構造を前記樹脂の表面に形成するプロセス（２）と、
   前記凹凸構造を表面に有する前記樹脂を硬化させ、前記重合体層を形成するプロセス（３）とを含み、
   前記樹脂は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基を有する化合物を含んでなる防汚剤と、前記防汚剤と相溶する相溶化剤とを含有し、
   前記相溶化剤は、アミド基を有する単官能モノマーであり、
   前記樹脂中の相溶化剤の含有率は、２０重量％以上、４０重量％以下であり、
   前記金型の表面は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基と、加水分解可能な基と、Ｓｉ原子とを有する化合物を含んでなる離型剤で離型処理が施されていることを特徴とする防汚性フィルムの製造方法。
2. 前記防汚剤は、成分（Ａ）ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートと成分（Ｂ）活性水素を有する化合物との反応物である炭素−炭素二重結合含有化合物を含んでなり、
   前記成分（Ｂ）は、成分（Ｂ１）活性水素を有するパーフルオロポリエーテルと、成分（Ｂ２）炭素−炭素二重結合を含有する基及び活性水素を有するモノマーとを含み、
   前記成分（Ｂ１）は、下記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物である
   Ｒｆ−ＰＦＰＥ^１−Ｚ−Ｘ （Ｂ１−ｉ）
   Ｘ−Ｚ−ＰＦＰＥ^２−Ｚ−Ｘ （Ｂ１−ｉｉ）
   （前記式（Ｂ１−ｉ）及び（Ｂ１−ｉｉ）中、Ｒｆは、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基である。ＰＦＰＥ^１は、下記式（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は、（Ｄ３）で表される基である。
   −（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ− （Ｄ１）
   （前記式（Ｄ１）中、ｂは、１〜２００の整数である。）
   −（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ− （Ｄ２）
   （前記式（Ｄ２）中、ａ及びｂは、各々独立して、０〜３０の整数である。ｃ及びｄは、各々独立して、１〜２００の整数である。ａ、ｂ、ｃ、又は、ｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、前記式（Ｄ２）中において任意である。）
   −（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^５）_ｉ− （Ｄ３）
   （前記式（Ｄ３）中、Ｒ^５は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、又は、ＯＣ_４Ｆ_８である。ｉは、２〜１００の整数である。）
   ＰＦＰＥ^２は、下記式（Ｄ４）又は（Ｄ５）で表される基である。
   −（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ− （Ｄ４）
   （前記式（Ｄ４）中、ｂは、１〜２００の整数である。）
   −（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^５）_ｉ− （Ｄ５）
   （前記式（Ｄ５）中、Ｒ^５は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、又は、ＯＣ_４Ｆ_８である。ｉは、２〜１００の整数である。）
   Ｚは、各々独立して、二価の有機基である。Ｘは、活性水素含有基である。）
   ことを特徴とする請求項１に記載の防汚性フィルムの製造方法。
3. 前記樹脂中の前記防汚剤の有効成分の含有率は、０．１重量％以上、１０重量％以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の防汚性フィルムの製造方法。
4. 前記成分（Ｂ）は、成分（Ｂ１）活性水素を有するパーフルオロポリエーテル、及び、成分（Ｂ２）炭素−炭素二重結合を含有する基及び活性水素を有するモノマーのみからなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の防汚性フィルムの製造方法。
5. 前記樹脂は、紫外線によって硬化するものであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の防汚性フィルムの製造方法。
6. 前記防汚性フィルムの表面に対して、水の接触角は１３０°以上であり、ヘキサデカンの接触角は３０°以上であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の防汚性フィルムの製造方法。
7. 前記防汚性フィルムの表面におけるフッ素原子濃度は、３８ａｔｏｍ％以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の防汚性フィルムの製造方法。
8. 前記重合体層の厚みは、１μｍ以上、２０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の防汚性フィルムの製造方法。
9. 前記ピッチは、２０ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の防汚性フィルムの製造方法。
10. 前記複数の凸部の高さは、各々、５０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の防汚性フィルムの製造方法。
11. 前記複数の凸部のアスペクト比は、各々、０．１３以上、２５以下であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の防汚性フィルムの製造方法。

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