JP2012039137A - リソグラフィ投影装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】局部空間に液浸液が供給される液浸リソグラフィ装置において、局部空間の平面図の形状が実質的に基板と平行の実質的に多角形である。一実施例では、空間の2つの角の曲率半径が、液体を含有するようになされた空間と、液体を含有するようになされていない周囲との間の移行ゾーンの幅以下である。
【選択図】図9
Description
1.ステップ・モード:ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回で投影される(即ち単一静止露光)。次に、基板テーブルWTがX及び/又はY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モード:走査モードでは、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期走査される(即ち単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの倍率(縮小率)及び画像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅(非走査方向の幅)が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ(走査方向の高さ)が決まる。
3.その他のモード:その他のモードでは、プログラム可能パターン化デバイスを保持するべくマスク・テーブルMTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動若しくは走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターン化デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン化デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
BD ビーム引渡しシステム
C 基板の目標部分
CO コンデンサ
EF 露光視野
EZ、EZ’ 移行ゾーンの縁部分(縁ゾーン)
IF 位置センサ(干渉変位測定システム)
IL 照明システム(イルミネータ)
IN インテグレータ
MA パターン化デバイス(マスク)
MT 支持構造(マスク・テーブル)
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
PB 放射ビーム
PL 投影システム
PM 第1のポジショナ
PW 第2のポジショナ
P1、P2 基板アライメント・マーク
S 投影システム及び液体拘束システムに対する基板の走査方向
SO 放射源
TZ 移行ゾーン
W 基板
WT 基板テーブル
10 リザーバ
11 液体
12 液体拘束構造
14 第1の出口
15 入口
16 ガス・シール
22 実質的に正方形の領域(空間)
Claims (24)
- 基板と隣接する空間であって、その平面図の形状が前記基板より小さく、且つ、その平面図の形状が実質的に前記基板と平行の実質的に多角形である空間に液体を拘束するようになされた液体拘束構造を備えた、パターンをパターン化デバイスから前記基板へ前記液体を介して投影するようになされたリソグラフィ投影装置。
- 前記空間の2つの角の曲率半径が、液体を含有するようになされた前記空間と、液体を含有するようになされていない周囲の空間との間の移行ゾーンの幅以下である、請求項1に記載の装置。
- 前記空間の平面図の形状が実質的に正多角形である、請求項1に記載の装置。
- 前記空間の平面図の形状が実質的に正方形である、請求項3に記載の装置。
- 前記空間の対角線がそれぞれ前記装置の座標系の主軸に実質的に平行である、請求項1に記載の装置。
- 前記主軸が、基板テーブルの変位を測定するようになされた測定システムのビームの経路に対して画定された、請求項5に記載の装置。
- リソグラフィ投影装置であって、
放射ビームを条件付けるようになされたイルミネータと、
パターン化された放射ビームを形成するための、前記放射ビームの断面にパターンを付与するようになされたパターン化デバイスを保持するように構築されたサポートと、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターン化された放射ビームを前記基板の目標部分に投射するようになされた投影システムと、
前記投影システムと前記基板の間の空間の少なくとも一部に液体を充填するようになされた液体供給システムであって、前記液体を前記空間内に少なくとも部分的に拘束するようになされた、前記液体と隣接する内部周囲が実質的に多角形を形成している液体拘束構造を備えた液体供給システムとを備えたリソグラフィ投影装置。 - 前記空間の平面図の形状が実質的に正多角形である、請求項7に記載の装置。
- 前記空間の平面図の形状が実質的に正方形である、請求項8に記載の装置。
- 前記空間の対角線がそれぞれ前記装置の座標系の主軸に実質的に平行である、請求項7に記載の装置。
- 前記主軸が、前記基板テーブルの変位を測定するようになされた測定システムのビームの経路に対して画定された、請求項10に記載の装置。
- 前記内部周囲の2つの角の曲率半径が、液体を含有するようになされた前記空間と、液体を含有するようになされていない周囲の空間との間の移行ゾーンの幅以下である、請求項7に記載の装置。
- デバイス製造方法であって、
基板と隣接する空間であって、その平面図の形状が前記基板より小さく、且つ、その平面図の形状が実質的に前記基板と平行の実質的に多角形である空間に液体を供給するステップと、
パターン化された放射ビームを前記液体を介して前記基板に投射するステップとを含む方法。 - 前記空間の2つの角の曲率半径が、液体を含有する前記空間と液体を含有しない周囲の空間との間の移行ゾーンの幅以下である、請求項13に記載の方法。
- 前記空間の平面図の形状が実質的に正多角形である、請求項13に記載の方法。
- 前記空間の平面図の形状が実質的に正方形である、請求項15に記載の方法。
- 前記空間の対角線がそれぞれ前記パターン化されたビームの投射に使用されるリソグラフィ装置の座標系の主軸に実質的に平行である、請求項13に記載の方法。
- 前記主軸が、前記基板を保持する前記リソグラフィ装置の基板テーブルの変位を測定するビームの経路に対して画定された、請求項17に記載の方法。
- デバイス製造方法であって、
液体と隣接する内部周囲が実質的に多角形を形成している液体拘束構造を使用して、リソグラフィ装置の投影システムと基板の間の空間の少なくとも一部に前記液体を拘束するステップと、
パターン化された放射ビームを前記液体を介して前記基板に投射するステップとを含む方法。 - 前記空間の平面図の形状が実質的に正多角形である、請求項19に記載の方法。
- 前記空間の平面図の形状が実質的に正方形である、請求項20に記載の方法。
- 前記空間の対角線がそれぞれ前記リソグラフィ装置の座標系の主軸に実質的に平行である、請求項19に記載の方法。
- 前記主軸が、前記基板を保持する前記リソグラフィ装置の基板テーブルの変位を測定するビームの経路に対して画定された、請求項22に記載の方法。
- 前記内部周囲の2つの角の曲率半径が、液体を含有する前記空間と液体を含有しない周囲の空間との間の移行ゾーンの幅以下である、請求項19に記載の方法。
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