JP2012028784A - 位置制御システム、リソグラフィ装置、及び可動オブジェクトの位置制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】可動オブジェクトの位置を制御する位置制御システムは、可動オブジェクトの実際の位置関連量を決定するように構成された位置測定システムと、可動オブジェクトの位置関連設定ポイント信号を提供する設定ポイント生成装置と、実際の位置関連量と位置関連設定ポイント信号との比較に基づいてエラー信号を提供するコンパレータと、エラー信号に基づいて制御信号を提供するコントローラと、位置関連設定ポイント信号に基づいてフィードフォワード信号を提供するフィードフォワードデバイスと、制御信号及びフィードフォワード信号に基づいて可動オブジェクトに作動する1つ又は複数のアクチュエータとを含む。フィードフォワードデバイスは、可動オブジェクトの位置に応じて可動オブジェクトに作用する擾乱力の推定値を含む擾乱力補正テーブルを含む。
【選択図】図2
Description
2.スキャンモードにおいては、パターニングデバイス支持体(例えばマスクテーブル)MT又は「マスク支持体」及び基板テーブルWT又は「基板支持体」は同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。パターニングデバイス支持体(例えばマスクテーブル)MT又は「マスク支持体」に対する基板テーブルWT又は「基板支持体」の速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の(スキャン方向における)高さが決まる。
3.別のモードでは、パターニングデバイス支持体(例えばマスクテーブル)MT又は「マスク支持体」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWT又は「基板支持体」を移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWT又は「基板支持体」を移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
Claims (15)
- 可動オブジェクトの位置関連量を制御する位置制御システムであって、
前記可動オブジェクトの実際の位置関連量を決定するように構成された位置測定システムと、
前記可動オブジェクトの位置関連設定ポイント信号を提供するように構成された設定ポイント生成装置と、
前記実際の位置関連量と前記位置関連設定ポイント信号との比較に基づいてエラー信号を提供するように構成されたコンパレータと、
前記エラー信号に基づいて制御信号を提供するように構成されたコントローラと、
前記位置関連設定ポイント信号に基づいてフィードフォワード信号を提供するように構成されたフィードフォワードデバイスと、
前記制御信号及び前記フィードフォワード信号に基づいて前記可動オブジェクトに作動するように構成されたアクチュエータと
を備え、
前記フィードフォワードデバイスが、前記可動オブジェクトの位置に応じて前記可動オブジェクトに作用する擾乱力の推定値を含む擾乱力補正テーブルを備える位置制御システム。 - 前記制御システムが、擾乱力の推定値を更新するために前記擾乱力補正テーブルに前記エラー信号を提供するように配置される、請求項1に記載の制御システム。
- 前記擾乱力補正テーブルが、前記可動オブジェクトのルートの擾乱力の推定値を含む、請求項1又は2に記載の制御システム。
- 前記擾乱力補正テーブルが前記ルート内の幾つかの位置についての擾乱力の推定値を含み、前記位置のうちの1つの位置の擾乱力の各推定値が公称パラメータ設定に基づく、請求項3に記載の制御システム。
- 前記フィードフォワードデバイスが、前記公称パラメータ設定と前記ルートの前記位置のうちの1つの位置の実際のパラメータとの差について前記擾乱力補正テーブルの値を補正するように構成されたパラメータ補正デバイスを備える、請求項4に記載の制御システム。
- 前記可動オブジェクトが、リソグラフィ装置の基板支持体であり、前記ルートが、前記基板支持体のスキャンルートである、請求項3に記載の制御システム。
- 前記スキャンルートが、複数のスキャン運動と、2つの後続のスキャン運動の間に実行される少なくとも1つの移送運動とを含み、前記擾乱力補正テーブルが、主として前記スキャン運動内の擾乱力の推定値を含む、請求項6に記載の制御システム。
- 前記フィードフォワードデバイスが、移送運動中に前記フィードフォワードデバイスの出力信号を前のスキャン運動の最後の位置に関連する値から次のスキャン運動の最初の位置に関連する値へ徐々に変化させるように構成された移送運動補償デバイスを備える、請求項1に記載の制御システム。
- 前記フィードフォワードデバイスが、前記フィードフォワードデバイスの出力信号を前記擾乱力補正テーブル内の周知の位置に関連する値から前記擾乱力補正テーブル内の次の周知の位置に関連する値へ徐々に変化させるように構成された移送運動補償デバイスを備える、請求項1に記載の制御システム。
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体と、
基板を保持するように構築された基板支持体と、
前記基板のターゲット部分上に前記パターン付放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記リソグラフィ装置の可動オブジェクトの位置関連量を制御するように構成された位置制御システムであって、
前記可動オブジェクトの実際の位置関連量を決定するように構成された位置測定システムと、
前記可動オブジェクトの位置関連設定ポイント信号を提供するように構成された設定ポイント生成装置と、
前記実際の位置関連量と前記位置関連設定ポイント信号との比較に基づいてエラー信号を提供するように構成されたコンパレータと、
前記エラー信号に基づいて制御信号を提供するように構成されたコントローラと、
前記位置関連設定ポイント信号に基づいてフィードフォワード信号を提供するように構成されたフィードフォワードデバイスと、
前記制御信号及び前記フィードフォワード信号に基づいて前記可動オブジェクトに作動するように構成された1つ又は複数のアクチュエータと
を備える位置制御システムとを備え、
前記フィードフォワードデバイスが、前記可動オブジェクトの位置に応じて前記可動オブジェクトに作用する擾乱力の推定値を含む擾乱力補正テーブルを備えるリソグラフィ装置。 - 可動オブジェクトの位置制御方法であって、前記方法が、
位置測定システムを用いて前記可動オブジェクトの位置関連量を決定するステップと、
コンパレータを用いて測定位置関連量と設定ポイント生成装置によって提供される位置関連設定ポイント信号とを比較してエラー信号を得るステップと、
前記エラー信号に基づいてコントローラによって制御信号を提供するステップと、
前記位置関連設定ポイント信号に基づいてフィードフォワードデバイスによってフィードフォワード信号を提供するステップと、
前記制御信号及び前記フィードフォワード信号に基づいてアクチュエータを作動させるステップと
を含み、
前記フィードフォワード信号を提供するステップが、前記可動オブジェクトの位置に応じて前記可動オブジェクトに作用する擾乱力の推定値を含む擾乱力補正テーブルを使用するステップを含む可動オブジェクトの位置制御方法。 - 前記擾乱力補正テーブルが、前記可動オブジェクトのルートの擾乱力の推定値を含む、請求項11に記載の方法。
- 前記方法が、前記フィードフォワードデバイスを用いずに少なくとも1つのルートに沿って前記可動オブジェクトを移動させ、前記コンパレータによって得た前記エラー信号を測定し、前記エラー信号を補償するのに必要な擾乱力を計算することで擾乱力の推定値を得るステップを含む、請求項12に記載の方法。
- 前記方法が、設定時に一般較正データを収集し、前記一般較正データに基づいて前記少なくとも1つのルートについて擾乱力を抽出することで擾乱力の推定値を得るステップを含む、請求項13に記載の方法。
- 前記可動オブジェクトが、リソグラフィ装置の基板支持体であり、前記ルートが、前記基板支持体のスキャンルートである、請求項14に記載の方法。
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