JP2012013341A5 - - Google Patents
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図２に戻り、加熱室２は、被処理物Ｘの加熱処理を行う円筒形状の部屋であり、各加熱用昇降室１ｂの上方に設置されている。つまり、本実施形態の多室型熱処理装置Ｓ１は、２つの加熱室２を備えている。なお、加熱室２は、被処理物Ｘに対して加熱処理という処理（熱処理）を行うものであり、本発明の熱処理室であり、本発明における冷却室と異なる他の処理室に相当するものである。
これらの加熱室２には、ヒータ１３が設置されており、当該ヒータ１３が発熱することによって被処理物Ｘが加熱処理される。なお、ヒータ１３としては、ニッケルクロム（Ｎｉ−Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）あるいは黒鉛を発熱体とする電熱ヒータや、高周波電力にて加熱を行うヒータ等を用いることができる。
これらの加熱室２には、ヒータ１３が設置されており、当該ヒータ１３が発熱することによって被処理物Ｘが加熱処理される。なお、ヒータ１３としては、ニッケルクロム（Ｎｉ−Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）あるいは黒鉛を発熱体とする電熱ヒータや、高周波電力にて加熱を行うヒータ等を用いることができる。
再び図２に戻り、冷却室３は、液体粒子であるミストの潜熱により被処理物の冷却を行う熱処理室であり、上述のように中間搬送室１の中央室１ａの下方に接続されている。
冷却室３の内部には、冷却室３内にミストを噴霧する複数のノズル１６と、これらのノズル１６にミストとなる冷却液を案内する複数のヘッダ管１７とが設置されている。
冷却室３の内部には、冷却室３内にミストを噴霧する複数のノズル１６と、これらのノズル１６にミストとなる冷却液を案内する複数のヘッダ管１７とが設置されている。
また、図４に示すように、冷却室３には、冷却室３の内部を真空引きするための冷却室用真空ポンプ２０が接続されている。
さらに、冷却室３には、冷却室３内に冷却ファン２１が接続されており、ガス供給装置１１から雰囲気形成ガスを冷却室３内に供給し、さらに冷却ファン２１を駆動して冷却室３内の雰囲気形成ガスを熱交換器１８ｃ、ヘッダ管１７及びノズル１６を介して循環させることによって、被処理物Ｘをガス冷却することも可能に構成されている。
さらに、冷却室３には、冷却室３内に冷却ファン２１が接続されており、ガス供給装置１１から雰囲気形成ガスを冷却室３内に供給し、さらに冷却ファン２１を駆動して冷却室３内の雰囲気形成ガスを熱交換器１８ｃ、ヘッダ管１７及びノズル１６を介して循環させることによって、被処理物Ｘをガス冷却することも可能に構成されている。
また、本実施形態の多室型熱処理装置Ｓ１では、ガス供給装置１１は、被処理物Ｘの冷却に使用可能な冷却ガスを冷却室３内に送風することによって冷却室３内を乾燥可能とされている。
つまり、本実施形態の多室型熱処理装置Ｓ１では、ガス供給装置１１を本発明における冷却ガス供給装置として使用し、乾燥手段として機能させることができる。なお、ガス供給装置１１を乾燥手段として機能させる場合には、熱交換器１８ｃによる雰囲気形成ガスの冷却は、必ずしも必要なものではない。
なお、本実施形態の多室型熱処理装置Ｓ１では、ガス供給装置１１は、ヘッダ管１７と接続されており、ヘッダ管１７及びノズル１６を通じて冷却ガスとなる雰囲気形成ガスを冷却室３内に送風する。
つまり、本実施形態の多室型熱処理装置Ｓ１では、ガス供給装置１１を本発明における冷却ガス供給装置として使用し、乾燥手段として機能させることができる。なお、ガス供給装置１１を乾燥手段として機能させる場合には、熱交換器１８ｃによる雰囲気形成ガスの冷却は、必ずしも必要なものではない。
なお、本実施形態の多室型熱処理装置Ｓ１では、ガス供給装置１１は、ヘッダ管１７と接続されており、ヘッダ管１７及びノズル１６を通じて冷却ガスとなる雰囲気形成ガスを冷却室３内に送風する。
なお、本実施形態の多室型熱処理装置Ｓ１では、冷却室３において液体（冷却液）を扱うため、当該液体が最も供給及び排出しやすい下方に冷却室３が配置されている。そして、図２に示すように、冷却室３の上方に中間搬送室１が接続され、さらには中間搬送室１の上方に加熱室２が接続され、加熱室２と中間搬送室１との間及び冷却室３と中間搬送室１との間において昇降装置９，２３を用いて被処理物Ｘの受渡しを行う。
つまり、本実施形態の多室型熱処理装置Ｓ１では、接続される処理室（中間搬送室１、加熱室２及び冷却室３）同士が高さ方向に配置され、接続された処理室間で被処理物Ｘの受渡しが昇降装置９，２３によって行われる。
つまり、本実施形態の多室型熱処理装置Ｓ１では、接続される処理室（中間搬送室１、加熱室２及び冷却室３）同士が高さ方向に配置され、接続された処理室間で被処理物Ｘの受渡しが昇降装置９，２３によって行われる。
なお、熱風供給装置１９による冷却室３の乾燥処理に加えてあるいは換えて、ガス供給装置１４からヘッダ管１７及びノズル１６を通じて雰囲気形成ガス（被処理物Ｘの冷却に使用可能な冷却ガス）を冷却室３内に送風することによって冷却室３の乾燥を行っても良い。
このように冷却室３の乾燥が行われた後、上蓋６が上蓋昇降装置７によって上昇されると共に昇降装置２３によって載置台２２が中間搬送室１内に上昇されることによって、冷却処理が完了した被処理物Ｘが中間搬送室１に搬送される。
その後、加熱処理及び冷却処理が完了し、焼入れ処理が完了した被処理物Ｘが搬出入扉４から本実施形態の多室型熱処理装置Ｓ１の外部に搬出される。
その後、加熱処理及び冷却処理が完了し、焼入れ処理が完了した被処理物Ｘが搬出入扉４から本実施形態の多室型熱処理装置Ｓ１の外部に搬出される。
また、本実施形態の多室型熱処理装置Ｓ１によれば、接続される処理室（中間搬送室１、加熱室２及び冷却室３）同士が高さ方向に配置され、接続された処理室間で被処理物Ｘの受渡しが昇降装置９，２３によって行われる。
このため、本実施形態の多室型熱処理装置Ｓ１は、平面視形状がコンパクトなものとなり、小さい設置面積に設置することができる。また、被処理物Ｘを下方から支えながら鉛直搬送する機会が増え、被処理物Ｘを安定して搬送することができる。
このため、本実施形態の多室型熱処理装置Ｓ１は、平面視形状がコンパクトなものとなり、小さい設置面積に設置することができる。また、被処理物Ｘを下方から支えながら鉛直搬送する機会が増え、被処理物Ｘを安定して搬送することができる。
また、上記実施形態においては、接続される処理室（中間搬送室１、加熱室２及び冷却室３）同士が高さ方向に配置され、接続された処理室間で被処理物Ｘの受渡しが昇降装置９，２３によって行われる構成について説明した。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、接続される処理室同士を水平に配置し、接続された処理室間における被処理物Ｘの受渡しを水平搬送によって行っても良い。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、接続される処理室同士を水平に配置し、接続された処理室間における被処理物Ｘの受渡しを水平搬送によって行っても良い。
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