JP2004014892A - 高温加熱装置 - Google Patents

高温加熱装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2004014892A
JP2004014892A JP2002168072A JP2002168072A JP2004014892A JP 2004014892 A JP2004014892 A JP 2004014892A JP 2002168072 A JP2002168072 A JP 2002168072A JP 2002168072 A JP2002168072 A JP 2002168072A JP 2004014892 A JP2004014892 A JP 2004014892A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
susceptor
quartz tube
temperature heating
frequency
tube
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002168072A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Dobashi
土橋 明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DAIICHI KIDEN KK
Dai Ichi Kiden Co Ltd
Original Assignee
DAIICHI KIDEN KK
Dai Ichi Kiden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DAIICHI KIDEN KK, Dai Ichi Kiden Co Ltd filed Critical DAIICHI KIDEN KK
Priority to JP2002168072A priority Critical patent/JP2004014892A/ja
Publication of JP2004014892A publication Critical patent/JP2004014892A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • General Induction Heating (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

【課題】ウエハ製膜装置などに用いるカーボン製のサセプタを有する高温加熱装置に関するもので、サセプタ内の温度を均一にし得ると共に、加熱周波数に制限されることがなく、低い周波数を用いられるようにすることである。
【解決手段】一方に開閉部3を有し、他方に排気部4を有する石英管31と、石英管31の長手方向中央部に設けられたカーボンにより形成された方形の角管状のサセプタ32と、サセプタ32の外周面と石英管31の内周面との間に挿入された断熱材34と、記石英管31の長手方向外周部に巻回された高周波誘導コイル35とから構成され、高周波誘導コイルに高周波電流を供給することにより角管状のサセプタ内32に載置された被加熱物33を加熱するようにしたものである。
【選択図】   図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はウエハ製膜装置,アニール装置などに用いるカーボン製のサセプタを有する高温加熱装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
図3は従来の横型の高温加熱装置を側面から見た模式図であり、一方にガス導入部2を有する開閉部(ハッチ)3が形成され、他方に排気口4が形成された断面形状が方形の角型石英炉芯管1の内部に、矩形の板状のカーボン製のサセプタ5が石英により構成されている台6に斜めに設置されるようになっている。この角型石英炉芯管1の外周部に高周波誘導コイル7がソレノイド型に巻回されており、高周波誘導コイル7には図示していない電源部から高周波電流を供給してサセプタ5を加熱し、このサセプタ5に載置された複数枚のウエハ8を加熱する。この加熱はガス導入部2から供給される所要のガス雰囲気中によりウエハ8の処理が行われる。
【0003】
この従来例の場合は、導入ガスが排気口4側に流れる際、ウエハ8に均一に作用させるためにサセプタ5を斜めに設置している。サセプタ5の大きさは幅170〜200mm,長さ300〜400mm程度であり、70φ程度のウエハを20枚ほど処理することができる。なお、ウエハ8を載置したサセプタ5は、台6とともに開閉部3から出し入れするようになっている。また、サセプタ5の温度は、加熱周波数100〜200kHz位で1200℃程度までの加熱が可能である。
【0004】
図4は従来の縦型の高温加熱装置を側面から見た模式図であり、基盤11の上に石英により形成されたベルジャー12が設けられ、その外面部に水冷されたステンレス製のベルジャー13が設けられている。石英ベルジャー12の内部には、基盤11を貫いて円筒状の回転軸14が設けられ、回転軸14のフランジ15にドーナツ形状のカーボン製のサセプタ16が固定されており、回転軸14を基盤11の下面に取り付けられたモータ17によりベルト18を介して回転させることができる。サセプタ16の下側には、石英により形成された上部が平坦なドーム状のケース19が設けられており、その上側内面には渦巻状の高周波誘導コイル20が設けられている。
【0005】
また、円筒状の回転軸14の内部にはガス導入用のノズル21が挿通されていて、上部の噴射孔22から所要のガスが供給されるようになっている。なお、基盤11にはガス等の排気管23が設けられている。
この縦型の高温加熱装置は、高周波誘導コイル20に図示していない電源部から高周波電流を供給し、サセプタ16をモータ17の動作により回転軸14を介して回転させながら加熱すると共に、ノズル21を通して所定のガスを供給して、サセプタ16上に載置してあるウエハ24を所要の雰囲気中で加熱して処理を行うものである。ガスの流れはサセプタ16に対して平行であり、かつサセプタ16は回転しているため、均一な処理をすることができる。
【0006】
なお、この縦型の高温加熱装置の場合は、加熱周波数が30kHz位で1200℃程度までの加熱が可能である。また、サセプタ16の大きさは、一例として直径が1000mm程度まで可能であり、70φ程度のウエハを40枚ほど処理することができるし、125φ程度のウエハも10数枚の処理が可能であり、前述した横型のものより処理能力は大きい。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前述した従来の高温加熱装置は、いずれも空間部が広いため熱効率が悪く、加熱温度も1200℃程度までであり、それ以上の高温の処理には対応ができないという問題があった。また、縦型の高温加熱装置はサセプタ5の厚み(t)により誘導加熱電源の加熱周波数に制限が生じる。即ち、加熱周波数を下げるためにはサセプタ5の板厚を厚くする必要があり、加熱周波数を大幅に下げ得ないという問題があった。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明による高温加熱装置は、一方に開閉部を有し、他方に排気部を有する石英管と、該石英管の長手方向中央部に設けられたカーボンにより形成された方形の角管状のサセプタと、該サセプタの外周面と前記石英管の内周面との間に挿入された断熱材と、前記石英管の長手方向外周部に巻回された高周波誘導コイルとから構成され、前記高周波誘導コイルに高周波電流を供給することにより前記角管状のサセプタ内に載置された被加熱物を加熱するようにしたものである。
【0009】
【発明の実施の形態】
図1は本発明に係る高温加熱装置の要部の一実施例を示す模式図であり、図1(a)は側面断面図、図1(b)は図1(a)に示した一実施例の中央部A−Aの横断面図、図1(c)は平面断面図である。図1において、31は円筒状の石英管であり、図3に示した従来例の横型の高温加熱装置と同様に、一方にガス導入部を有する開閉部が形成され、他方に排気口が形成されるようになっている。32はカーボン製のサセプタであり、断面が所要の厚みを有する方形の角管により形成されている。この角管のサセプタ32は、熱効率の観点からこの実施例ではウエハ33を載置する幅方向の寸法に対して高さ方向の寸法を1/2程度に構成してある。即ち、サセプタ32の長さは700mmであって、外側の幅は300mm,高さは150mm、内側の幅は260mm,高さは110mm程度としている。
【0010】
34は円筒状の石英管31の内周面と角管のサセプタ32の外周面との間に挿入された断熱材であり、例えばカーボンフェルト,アルミナフェルトなどを使用する。35は石英管31の外周部に巻回された高周波誘導コイルであり、ソレノイド型に巻回されてある。
この実施例では、処理対象のウエハ33の直径は200φ程度と大型のもの1個であり、高周波誘導コイル35はその範囲を十分にカバーする部分に設けられているが、処理対象とするウエハの大きさ又は数量等により、サセプタ32の断面の大きさや長さに伴って、石英管31の大きさ及び高周波誘導コイル35の配置を必要に応じて適宜変更することができる。
【0011】
本発明による高温加熱装置は、角管のサセプタ32を用いたことにより、誘導加熱にて加熱される角管の断面方向に高周波電流が流れるため、均一な加熱ができる。また図3に示した従来の横型の高温加熱装置で使用されている板状のサセプタ5のように、サセプタ5の厚み(t)による加熱周波数の制限がなく、かつ過熱効率も断面積が大きい分だけよくなる。
また、高周波誘導コイル35に供給される電源周波数は5kHz程度で、サセプタ32の温度は2000℃と高温が確保された。
更に、石英管31とサセプタ32との間に断熱材34を挿入してあるため、放熱が抑制され、熱効率も大幅に向上する効果を得ることができる。
【0012】
角管のサセプタ32内へのウエハ33の載置は、図1に示すように横型として使用する場合は、単に底面部に載せるほか、図2(a)に示すようにサセプタ32内の上面部に吊り鉤部36を設けたり、図2(b)に示すようにサセプタ32内の側面部にアーム部37を設けて、その吊り鈎部36又はアーム部37にウエハ33の載置するようにしてもよい。このように載置することにより、製膜を行う際に反応生成物がウエハ33上に付着するのを防止することができる。また、サセプタ32内部の均熱区域内にウエハ33を置くことができるため、ウエハ33全体への熱の伝わり方がよく、ウエハ33の反りを少なくすることができる。更に、石英管31は円筒形状であるため、真空引きを行って処理する高温加熱装置として使用することができる。
【0013】
【発明の効果】
本発明による高温加熱装置は、前述したようにサセプタに角管を用いることにより、サセプタ内の温度を均一にし得ると共に、加熱周波数に制限されることがなく従来に比較して低い周波数を用いることができる。また、サセプタの周囲には断熱材が設けてあるため、熱効率を大幅に向上させることができる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る高温加熱装置の加熱部の一実施例を示す模式図である。
【図2】本発明に係る高温加熱装置のサセプタの他の実施例を説明する模式図である。
【図3】従来の横型の高温加熱装置の一例を示す模式図である。
【図4】従来の縦型の高温加熱装置の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
1 角型石英炉芯管
2 ガス導入部
3 開閉部(ハッチ)
4 排気口
5 サセプタ
6 台
7 高周波誘導コイル
8 ウエハ
11 基盤
12 石英により形成されたベルジャー
13 水冷されたステンレス製のベルジャー
14 回転軸
15 フランジ
16 サセプタ
17 モータ
18 ベルト
19 ドーム状のケース
20 高周波誘導コイル
21 ガス導入用のノズル
22 ノズルの噴射孔
23 排気管2
24,33 ウエハ
31 円筒状の石英管
32 角管状のサセプタ
34 断熱材
35 高周波誘導コイル
36 サセプタのー吊り鉤部
37 アーム部

Claims (3)

  1. 一方に開閉部を有し、他方に排気部を有する石英管と、
    該石英管の長手方向中央部に設けられたカーボンにより形成された方形の角管状のサセプタと、
    該サセプタの外周面と前記石英管の内周面との間に挿入された断熱材と、
    前記石英管の長手方向外周部に巻回された高周波誘導コイルとから構成され、
    前記高周波誘導コイルに高周波電流を供給することにより前記角管状のサセプタ内に載置された被加熱物を加熱するようにした高温加熱装置。
  2. 前記石英管は円筒状に形成された請求項1に記載の高温加熱装置。
  3. 前記サセプタの管内の上面又は側面に被加熱物を載置する載置部が設けられた請求項1又は2に記載の高温加熱装置。
JP2002168072A 2002-06-10 2002-06-10 高温加熱装置 Pending JP2004014892A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002168072A JP2004014892A (ja) 2002-06-10 2002-06-10 高温加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002168072A JP2004014892A (ja) 2002-06-10 2002-06-10 高温加熱装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004014892A true JP2004014892A (ja) 2004-01-15

Family

ID=30435076

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002168072A Pending JP2004014892A (ja) 2002-06-10 2002-06-10 高温加熱装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004014892A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010500707A (ja) * 2006-08-07 2010-01-07 メシエ−ブガッティ 孔質材緻密化装置
CN102641760A (zh) * 2012-04-27 2012-08-22 邯郸派瑞节能控制技术有限公司 一种超高温裂解装置
CN103160810A (zh) * 2011-12-09 2013-06-19 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种用于感应加热的托盘及等离子体加工设备
JP2015209583A (ja) * 2014-04-30 2015-11-24 株式会社第一機電 焼結装置および焼結方法
EP2407122B1 (de) * 2010-07-16 2016-07-06 Ivoclar Vivadent AG Mikrowellenofen mit Drehteller
JP2017017255A (ja) * 2015-07-03 2017-01-19 株式会社エピクエスト Nh3雰囲気高温加熱装置
CN106937427A (zh) * 2017-05-03 2017-07-07 无锡应达工业有限公司 一种具有气体保护功能的高频感应加热线圈

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010500707A (ja) * 2006-08-07 2010-01-07 メシエ−ブガッティ 孔質材緻密化装置
EP2407122B1 (de) * 2010-07-16 2016-07-06 Ivoclar Vivadent AG Mikrowellenofen mit Drehteller
CN103160810A (zh) * 2011-12-09 2013-06-19 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种用于感应加热的托盘及等离子体加工设备
CN102641760A (zh) * 2012-04-27 2012-08-22 邯郸派瑞节能控制技术有限公司 一种超高温裂解装置
JP2015209583A (ja) * 2014-04-30 2015-11-24 株式会社第一機電 焼結装置および焼結方法
JP2017017255A (ja) * 2015-07-03 2017-01-19 株式会社エピクエスト Nh3雰囲気高温加熱装置
CN106937427A (zh) * 2017-05-03 2017-07-07 无锡应达工业有限公司 一种具有气体保护功能的高频感应加热线圈

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9099507B2 (en) Vertical heat treatment apparatus and method for cooling the apparatus
WO2012011423A1 (ja) 基板処理装置および半導体装置の製造方法
US8354623B2 (en) Treatment apparatus, treatment method, and storage medium
JPH05291158A (ja) 熱処理装置
JP3984820B2 (ja) 縦型減圧cvd装置
JP2011077502A (ja) 熱処理装置
JP2012064804A (ja) 基板処理装置及び半導体装置の製造方法
WO2003041139A1 (fr) Appareil de traitement thermique
JP5721219B2 (ja) 基板処理装置、半導体装置の製造方法及び加熱装置
JP2001181846A (ja) Cvd装置
JP2004014892A (ja) 高温加熱装置
EP2472575A2 (en) Heat treatment apparatus
TW201203373A (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP2009071210A (ja) サセプタおよびエピタキシャル成長装置
JP5171584B2 (ja) 基板処理装置の基板載置台、基板処理装置及び半導体デバイスの製造方法
JP2004055896A (ja) 加熱装置
JP2008130682A (ja) 加熱装置
JP2007180132A (ja) サセプタ及びそのサセプタを用いたcvd装置
JP2005072468A (ja) 半導体ウエハの熱処理装置
JP2004071596A (ja) 熱処理装置
JP2013038128A (ja) 熱処理装置
JP2004289166A (ja) バッチ式リモートプラズマ処理装置
TWI737984B (zh) 用於hdp cvd的帶有嵌入式加熱元件和嵌入式rf線圈的進階陶瓷蓋及感應耦合電漿處理腔室
JPH0736386B2 (ja) 気相成長装置
TW201513213A (zh) 等離子體處理裝置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20050419

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050729

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Effective date: 20060612

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061108

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070307