JP2008501232A - マスク基板のクリーニング - Google Patents

Abstract

この発明は、マスク基板（１１０）をクリーニングするためのマスククリーニング装置（１０１）及び方法に関する。本発明に係る実施の一形態は、トラップが冷却トラップ（１２０）を構成するマスククリーニング装置（１０１）である。更なるヒータ（１３０）が加熱機能を果たす。マスククリーニング装置（１０１）は、支持手段（１０５）と、エアロゾル（１５５）をマスク基板（１１０）へ吹き出すためのエアロゾルノズル（１５０）とを更に備えている。クリーニングプロセスの第１段階では、マスク基板（１１０）がヒータ（１３０）に接近し、マスク基板（１１０）が加熱される。クリーニングプロセスの第２段階では、ガス流（１７０）が停止され、マスク（１１０）が冷却トラップ（１２０）の近傍へ搬送される。冷却トラップ（１２０）は冷却される。クリーニングプロセスの第３段階では、エアロゾルノズル（１５０）がマスク基板（１１０）に向けてエアロゾル（１５５）を吹き出し、それにより、粒子がマスク基板（１１０）から分離されるようになる。この実施の形態は、分離された粒子を捕捉するためにサーモフォレティック力（ｔｈｅｒｍｏｐｈｏｒｅｔｉｃ：温度便乗性）を使用する。本発明に係る他の実施の形態は、分離された粒子を捕捉するために真空、静電力及び／又はゲッター金属を使用する。

Description

本発明は、マスク基板をクリーニングするための装置であって、
マスク基板を支えるための支持手段と、
マスク基板から粒子を分離することによりマスク基板をクリーニングするためのエアロゾルノズルと、
を備える装置に関する。

また、本発明は、マスク基板をクリーニングするための方法であって、
マスク基板を準備するステップと、
マスク基板から粒子を分離するためにエアロゾル（噴霧剤）をマスク基板上に噴射するステップと、
を含む方法に関する。

マスク基板をクリーニングするための装置は、「Ａｒエアロゾル・クリーニング技術を用いたステンシル・レティクル・クリーニング（Ｓｔｅｎｃｉｌ ｒｅｔｉｃｌｅ ｃｌｅａｎｉｎｇ ｕｓｉｎｇ ａｎ Ａｒ ａｅｒｏｓｏｌ ｃｌｅａｎｉｎｇ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ」と題された真空科学技術ジャーナルＢ（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｖａｃｕｕｍ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｂ），Ｖｏｌ．２０，Ｎｏ．１，２００２年１月／２月、第７１−７５頁）における刊行物（非特許文献１）から知られている。既知の装置はプロセスチャンバを備えており、プロセスチャンバは、パージガス注入口と、レティクルを支持するｘ−ｙ走査ステージと、エアロゾルノズルと、加速ノズルと、ドライポンプに接続されたガス排気口とを備えている。
「Ａｒエアロゾル・クリーニング技術を用いたステンシル・レティクル・クリーニング（Ｓｔｅｎｃｉｌ ｒｅｔｉｃｌｅ ｃｌｅａｎｉｎｇ ｕｓｉｎｇ ａｎ Ａｒ ａｅｒｏｓｏｌ ｃｌｅａｎｉｎｇ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ」と題された真空科学技術ジャーナルＢ（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｖａｃｕｕｍ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｂ），Ｖｏｌ．２０，Ｎｏ．１，２００２年１月／２月、第７１−７５頁）における刊行物

既知の装置における問題は、非常にサイズが小さい分離された粒子が元のレティクル上に落下する場合があるということである。このような粒子の再堆積は、この装置のクリーニング効率を制限する。形体サイズが縮小すると同時に、この問題は、対象尺度の粉塵粒径が縮小するにつれてさらに明白になり、比較的大きいエアロゾル（噴霧剤）粒子を用いてより小さい粒子を分離することは更に困難である。

本発明の目的は、粒子の再堆積が少なく、従って、高いクリーニング効率でマスク基板をクリーニングできる装置を提供することである。

本発明によれば、この目的は、マスク基板をクリーニングするための装置が、エアロゾルノズル及び支持手段の直近に配置され且つ粒子がマスク基板から分離された後に粒子を捕捉するためのトラップを備えることにより達成される。トラップを付加することによる利点は、粒子の再堆積の機会が低減し、それにより、マスククリーニング効率が向上するという点である。

本発明に係る実施の一形態において、装置は、トラップが冷却トラップを構成することを特徴とする。このタイプのトラップの主な利点は、粒子を捕捉するためにサーモフォレティック（ｔｈｅｒｍｏｐｈｏｒｅｔｉｃ：温度便乗性）力が使用されるという点である。トラップの温度がマスク基板に対して低下すれば低下するほど、トラップとマスク基板との間で粒子に作用するサーモフォレティック力が強くなる。サーモフォレティック力は、冷却トラップへと方向付けられ、冷却トラップへ向かう粒子の流れを増加させる。

本発明に係る実施の一形態において、装置は、冷却トラップが、クリーニングプロセスのサブステップでマスク基板を加熱するとともに、クリーニングプロセスの他のサブステップで粒子を捕捉するように構成されることを特徴とする。マスク基板の加熱は、マスク基板とその環境との間の温度勾配が増加させられ、従って、環境へと向かうサーモフォレティック力も増加させられるという利点を有する。これは、分離された粒子のマスク基板への流れを減少させるのに役立つ。

本発明に係る実施の一形態において、トラップは、真空トラップを含む。主な利点は、分離された粒子がマスク基板の近傍から除去され、そのため、これらの粒子が元のマスク基板上へ落下する機会が低減され、これにより、マスククリーニング効率が向上するという点である。

本発明に係る実施の一形態において、真空トラップは、分離された粒子を捕捉するための真空ギャップを備えている。これにより、マスク基板の極近傍に真空がもたらされ、そのため、分離された粒子の捕捉が向上するという利点が得られる。

本発明に係る実施の一形態において、装置は、エアロゾルノズルの近傍に配置され且つ真空ギャップへ向かうキャリアガス流を発生させるためのキャリアガスノズルを更に備えている。この特徴は、分離された粒子の捕捉が向上するという利点を有している。

本発明に係る実施の一形態において、トラップは静電トラップを含む。これは、静電荷を有する粒子がトラップにより捕捉され、それにより、粒子の再堆積が更に減少して、クリーニング効率が向上するという利点を有している。

本発明に係る実施の一形態において、静電トラップは、分離された粒子を引き付けるために前記分離された粒子の電荷の符号と反対の符号の電荷を有する部分を備えている。主な利点は、電源を用いて静電気力を調整できるという点である。

本発明に係る実施の一形態において、静電トラップは、プラスに帯電された部分及びマイナスに帯電された部分の両方を備えている。主な利点は、プラスの荷電粒子及びマイナスの荷電粒子の両方が補足されるという点である。

本発明に係る実施の一形態において、トラップは、ゲッタートラップを含む。ゲッタートラップは、有機粒子をその環境から引き付けるためにゲッタリングを使用する。従って、これらの粒子をゲッタープレート上で捕捉することができる。ゲッタートラップを付加することによる利点は、有機粒子が再堆積する機会が低減され、それにより、マスククリーニング効率が向上するという点である。

本発明に係る実施の一形態において、ゲッタートラップは、ゲッタープレートを備えている。ゲッター効果は、ゲッタープレートを形成してそれをマスク基板の近傍に配置することにより向上させられる。

本発明に係る実施の一形態において、ゲッタープレートは、アルミニウム（Ａｌ）を含む。アルミニウムは、有機分子を吸収する傾向が高いことで知られる材料のうちの一つである。

本発明に係る実施の一形態において、装置は、マスク基板を加熱するためのヒータを備えている。マスク基板を加熱することによる利点は、マスク基板とその環境との間の温度勾配が増加させられ、従って、環境へと向かうサーモフォレティック力も増加させられるという点である。ヒータを使用する他の利点は、マスク基板を加熱するために冷却トラップを設ける必要がもはやなくなる（しかし、設けることもできる）という点である。

本発明に係る実施の一形態において、装置は、マスク基板に対して熱を伝達するためにガスを放出するチャンネルを更に備えている。この手段の主な利点は、空気に比べてガス（例えばＨｅ）の熱伝導率が高いため、ヒータからマスク基板への熱伝達がかなり向上させられるという点である。

本発明の実施の一形態において、装置は、支持手段をヒータからトラップへ移動させるための搬送手段を更に備えている。この実施の形態は、第１のサブステップでマスク基板をヒータの近傍に持っていくことができ、その後、第２のサブステップでマスク基板をトラップの近傍に持っていくことができるという利点を有している。その結果、この実施の形態では、ヒータとトラップとを共存させることができる。

本発明に係る実施の一形態において、装置は、更に、搬送方向において測定されるヒータとトラップとの間の距離が同一方向において測定されるマスク基板の寸法よりも小さいことを特徴とする。この実施の形態においては、マスク基板をヒータの近傍に置くことができると同時にトラップの近傍に置くことができる。この結果、マスク基板をヒータからトラップへと徐々に搬送することができる。クリーニングプロセスの特定の段階においては、マスク基板の一部が加熱され、他の部分が噴霧剤及びトラップに曝露される。これにより、クリーニング効率が向上する。

本発明に係る実施の一形態において、ヒータは、熱い物質のためのチャンネルを備えている。これは、ヒータを非常に速く加熱できるという利点を有している。

マスク基板をクリーニングするための本発明に係る方法は、
マスク基板を準備するステップと、
マスク基板から粒子を分離するためにエアロゾル（噴霧剤）をマスク基板上に噴射するステップと、
粒子がマスク基板から分離された直後に粒子を捕捉するステップと、
を含む。

本発明に係る実施の一形態において、方法は、分離された粒子が冷却トラップを用いて捕捉されることを特徴とする。

本発明に係る実施の一形態において、方法は、分離された粒子が真空トラップを用いて捕捉されることを特徴とする。

本発明に係る実施の一形態において、方法は、分離された粒子が静電トラップを用いて捕捉されることを特徴とする。

本発明に係る実施の一形態において、方法は、分離された粒子がゲッタートラップを用いて捕捉されることを特徴とする。

本発明に係る実施の一形態において、方法は、エアロゾル（噴霧剤）を噴射する前にマスク基板が加熱されることを特徴とする。

図面を参照しながら、マスク基板をクリーニングするための本発明に係る装置のこれらの態様及び他の態様を更に解明して説明する。

以下、添付図面を参照しながら、本発明について詳細に説明する。しかしながら、当業者であれば、いくつかの他の等価な実施の形態又は本発明を実行する他の方法を想起することができ、本発明の思想及び範囲が添付の請求項の表現によってのみ規定されることは理解されるであろう。総ての図面は、本発明のいくつかの態様及び実施の形態を例示しようとするものである。明確にするため、ほとんどの態様は簡略化して示されている。総ての代替物及び選択肢が示されているとは限らず、従って、本発明は与えられた図面の内容に限定されない。

図面について詳細に述べる前に、トラップが何を意味するのかについて定義することが重要である。概して言えば、トラップは、分離された粒子をそれらが分離された直後に補足することにより当該粒子を元のマスク基板上に落下させないようにするための手段である。異なるタイプのトラップを使用することができることは、図面から明らかとなる。

図１は、トラップがマスク基板１０を加熱することもできる冷却トラップ２０を構成する本発明に係る実施の一形態を示している。冷却トラップ２０はプレートを構成することが好ましいが、他の形状も可能である。マスククリーニング装置１は、マスク基板１０のための支持手段５を更に備えている。マスク基板１０は、完成したマスクであってもよいが、その製造の中間段階にあるマスクであってもよい。支持手段５は、例えば真空（簡単にするため図示せず）によりマスク基板１０をその場所に保持する。マスク基板１０の近傍には冷却トラップ２０がある。冷却トラップ２０は、冷却トラップ２０の加熱及び冷却の両方を行うための手段８０を備えている。これらの手段８０は、熱い及び冷たい液体若しくはガスのためのチャンネル、加熱するための電気チャンネル、放射線ヒータ、又は、これらの組み合わせであってもよい。マスククリーニング装置１は、マスク基板１０に向けてエアロゾル（噴霧剤）５５を吹き出すためのエアロゾルノズル５０を更に備えている。粒子を除去するためにエアロゾル５５を使用することは、当業者にとって周知の事実である。図中、エアロゾルノズル５０は左側に配置されているが、実際には、エアロゾルノズル５０を任意の位置に配置することができる。エアロゾルノズル５０の想定し得る実施の形態は、小孔を有するシリンダであり、これらの小孔を通じてエアロゾル５５が放出される。

本発明に係る他の実施の形態において、エアロゾルノズル５０は、粒子をマスク基板１０の一方側から他方側へ「拭い去る」ことができるように移動することができる。

マスククリーニングプロセスの第１の段階では、冷却トラップ２０が加熱され、それにより、マスク基板１０の温度が上昇する。このようにしてマスク基板１０を加熱することは、マスク基板１０が多くの場合に断熱材である石英により形成されているという事実から、特に有利である。従って、支持手段５を加熱することによりマスク基板１０を加熱することは非常に困難であり且つ時間を要する。冷却トラップ２０からマスク基板１０への熱伝達は、冷却トラップ２０内又はその近傍にチャンネル７５を設け、このチャンネルを通じてガス７０をマスク基板１０へと吹き出すことにより更に向上させられる。結果として、ガス７０は、熱を冷却トラップ２０からマスク基板１０へと伝達する。ガス７０は、例えばヘリウム（Ｈｅ）であってもよいが、他のガスも適している。好ましくは、使用されるガス７０は、空気よりも高い熱伝導率を有するものである。

マスククリーニングプロセスの第２の段階では、ガス流７０が停止され、冷却トラップ２０が冷却される。これは、液化ヘリウム（Ｈｅ）又は液化窒素（Ｎ_２）のような液化ガスを用いて行うことができる。

マスククリーニングプロセスの第３の段階では、エアロゾルノズル５０がエアロゾル５５をマスク基板１０へと吹き出し、それにより、粒子がマスク基板１０から分離される。分離された粒子の再堆積は、マスク基板１０がその環境に対して比較的高い温度を依然として有しているという事実により低減される。温度勾配により、マスク基板１０から離隔する方向において、いわゆるサーモフォレティック（ｔｈｅｒｍｏｐｈｏｒｅｔｉｃ：温度便乗性）力が粒子に作用する。冷却トラップ２０は、その環境よりもかなり低い温度を有しており、それにより、マスク基板１０から冷却トラップ２０へと向かう方向においてサーモフォレティック力が粒子に作用するため、サーモフォレティック流が冷却トラップ２０へと向かう。結果として、分離された粒子が冷却トラップ２０により捕捉され、粒子が元のマスク基板１０上へ落下する機会が低減される。

図２は、トラップが冷却トラップ１２０を構成する本発明に係る実施の一形態を示している。更なるヒータ１３０が加熱機能を果たす。ヒータ１３０はプレートを構成していることが好ましいが、他の形状も可能である。マスククリーニング装置１０１は、支持手段１０５と、マスク基板１１０に向けてエアロゾル１５５を吹き出すためのエアロゾルノズル１５０とを更に備えている。

マスククリーニングプロセスの第１の段階では、マスク基板１１０がヒータ１３０に近接しており、マスク基板１１０が加熱される。ヒータ１３０からマスク基板１１０への熱伝達は、ヒータ１３０内又はその近傍にチャンネル１７５を設け、このチャンネルを通じてガス１７０をマスク基板１１０へと吹き出すことにより更に向上させられる。結果として、ガス１７０は、熱をヒータ１３０からマスク基板１１０へと伝達する。ガス１７０は、例えばヘリウム（Ｈｅ）であってもよいが、他のガスも適している。

マスククリーニングプロセスの第２の段階では、ガス流１７０が停止させられ、マスク１１０が冷却トラップ１２０の近傍へ搬送される。装置１０１は、この搬送を可能にするための搬送手段１９０を備えている。冷却トラップ１２０は、冷却される。

マスククリーニングプロセスの第３の段階では、エアロゾルノズル１５０がエアロゾル１５５をマスク基板１１０へと吹き出し、それにより、粒子がマスク基板１１０から分離される。分離された粒子の再堆積の減少は、図１の状況と同様の方法により行われる。粒子は、一旦分離されると、図１に示される状況と同様に、サーモフォレティック力に従って冷却トラップ１２０により引き付けられる。結果として、分離された粒子が冷却トラップ１２０により捕捉され、粒子が元のマスク基板１１０上へ落下する機会が低減される。

図３は、トラップが冷却トラップ２２０を構成する本発明に係る実施の一形態を示している。更なるヒータ２３０が加熱機能を果たす。ヒータ２３０はプレートを構成していることが好ましいが、他の形状も可能である。マスククリーニング装置２０１は、支持手段２０５と、マスク基板２１０に向けてエアロゾル２５５を吹き出すためのエアロゾルノズル２５０とを更に備えている。また、装置２０１は、搬送方向Ｘにおいて測定されたヒータ２３０と冷却トラップ２２０との間の距離Ｄが同一方向Ｘにおいて測定されたマスク基板２１０の寸法Ｌよりも小さいことを特徴としている。

マスククリーニングプロセスの第１の段階では、冷却トラップ２２０がヒータ２３０に近接しており、マスク基板２１０が加熱される。ヒータ２３０からマスク基板２１０への熱伝達は、ヒータ２３０内又はその近傍にチャンネル２７５を設け、このチャンネルを通じてガス２７０をマスク基板２１０へと吹き出すことにより更に向上させられる。結果として、ガス２７０は、熱をヒータ２３０からマスク基板２１０へと伝達する。ガス２７０は、例えばヘリウム（Ｈｅ）であってもよいが、他のガスも適している。

マスククリーニングプロセスの第２の段階では、ガス流２７０が停止され、マスク２１０が徐々に冷却トラップ２２０の方へ搬送される。装置２０１は、この漸進的な搬送を可能にするための搬送手段２９０を備えている。好ましくは、この搬送中に、冷却トラップ２２０が冷却され、ヒータ２３０が加熱される。クリーニングプロセスのこの段階では、エアロゾルノズル２５０がエアロゾル２５５をマスク基板２１０へと吹き出し、それにより、粒子がマスク基板２１０から分離されるようになる。分離された粒子の再堆積の減少は、図１の状況と同様の方法で行われる。粒子は、一旦分離されると、図１に示される状況と同様に、サーモフォレティック力に従って冷却トラップ２２０により引き付けられる。結果として、分離された粒子が冷却トラップ２２０により捕捉され、粒子が元のマスク基板２１０上へ落下する機会が低減される。

図４は、トラップが真空トラップ３２５を構成する本発明に係る実施の一形態を示している。マスククリーニング装置３０１は、支持手段３０５と、搬送手段３９０と、エアロゾル３５５をマスク基板３１０へと吹き出すためのエアロゾルノズル３５０とを更に備えている。先の図面と同様に、装置３０１は、ヒータ３３０内又はその近傍にチャンネル３７５を更に備えており、このチャンネルを通じてガス３７０がマスク基板３１０へと吹き出される。

真空トラップ３２５は、プレート３２０に真空ギャップ３４０を備えている。真空ギャップ３４０内は、マスク基板３１０の近傍よりも低い圧力となっている。この低圧は、ギャップへ向かう空気流を形成し、これにより、分離された粒子が捕捉される。低圧は例えば真空ポンプ（図示せず）によって形成することができる。明らかに、上記真空ポンプは、マスク基板の近傍の粒子を捕捉するために使用されるものであり、マスク基板を取り巻く環境の全体に亘って圧力を下げるために使用されるものではない。

粒子の分離は、エアロゾル３５５を吹き出すためのエアロゾルノズル３５０を使用して先の図面の場合と同様の方法で行われる。分離された粒子の再堆積の減少は、更なるヒータ３３０を使用して先の実施の形態の場合と同様の方法で行われることが好ましい。ヒータ３３０はプレートを構成していることが好ましいが、他の形状も可能である。マスククリーニング装置３０１の他の改良は、真空ギャップ３４０へとキャリアガス３６５を吹き出すためのキャリアガスノズル３６０の付加によって達成される。

図５は、トラップが静電トラップ４２５を構成する本発明に係る実施の一形態を示している。マスククリーニング装置４０１は、支持手段４０５と、搬送手段４９０と、エアロゾル４５５をマスク基板４１０へと吹き出すためのエアロゾルノズル４５０とを更に備えている。先の図面と同様に、装置４０１は、ヒータ４３０内又はその近傍にチャンネル４７５を更に備えており、このチャンネルを通じてガス４７０がマスク基板４１０へと吹き出される。

静電トラップ４２０は、帯電素子４６２，４６４を備えている。好ましい実施の形態においては、プラスに帯電された素子４６２及びマイナスに帯電された素子４６４の両方が使用され、これにより、プラス荷電粒子及びマイナス荷電粒子の両方が捕捉されるという利点を有する。更なる改良は、各帯電符号毎に一つ以上の帯電素子を使用することにより達成される。これらの素子は、図示のように交互に配置されることが好ましい。この実施の形態において、プレート４２０は、帯電素子４６２，４６４のための保持手段として使用される。他の実施の形態においては、これらの保持手段が不要であることもある。例えば、素子４６２，４６４を帯電させるために電源４６０を使用することができる。この特定の実施の形態においても、トラップは、図４と同様に、真空ギャップ４４０とキャリアガスノズル４６０とを備える真空トラップを構成している。粒子の分離は、先の図面の場合と同様に、エアロゾル４５５を吹き出すためのエアロゾルノズル４５０、及び、好ましくは真空ギャップ４４０へとキャリアガス４６５を吹き出すためのキャリアガスノズル４６０を使用して行われる。

図６は、トラップがゲッタートラップ５２５を構成する本発明に係る実施の一形態を示している。マスククリーニング装置５０１は、支持手段５０５と、搬送手段５９０と、エアロゾル５５５をマスク基板５１０へと吹き出すためのエアロゾルノズル５５０とを更に備えている。先の図面と同様に、装置５０１は、ヒータ５３０内又はその近傍にチャンネル５７５を更に備えており、このチャンネルを通じてガス５７０がマスク基板５１０へと吹き出される。

ゲッタートラップ５２５は、ゲッタープレート５２０を備えている。特定の金属は、一旦酸化されると空気から有機（分子）粒子を引き付けるという特性を有することが知られている。このプロセスは、ゲッタリングと呼ばれる。粒子がゲッタープレートに触れると、粒子をゲッタープレートから容易に分離することができず、従って、ゲッタープレートはトラップとして機能する。ゲッタープレート５２０はマスク基板５１０の近傍に配置されることが好ましい。また、ゲッタートラップは、ここで使用されているプレート形状以外の形状を有していてもよい。好ましい実施の形態において、ゲッタープレート５２０は、アルミニウムを含む。これは、酸化アルミニウムが有機分子を吸収する傾向が高いからである。例えば空気と接触すると、純粋なアルミニウムの表面上に酸化物層が非常に急速に形成される。例えばチタン（Ｔｉ）のような他の金属がゲッター金属として使用されてもよい。

粒子の分離は、エアロゾル５５５を吹き出すためのエアロゾルノズル５５０を使用して先の図面の場合と同様の方法で行われる。分離された粒子の再堆積は、更なるヒータ５３０を使用して先の実施の形態の場合と同様の方法で低減されることが好ましい。ヒータ５３０はプレートを構成していることが好ましいが、他の形状も可能である。

尚、明細書本文は、請求項を限定するのではなく、請求項を裏付けるように意図されている。図示の例示に対しては、多くの変形例が考えられる。単独で使用することができる四つの異なる種類のトラップについて説明した。しかしながら、これらのトラップを更に組み合わせることもできる。図５で説明した組み合わせ以外に、例えば以下のような他の組み合わせ、即ち、
−冷却トラップと真空トラップとの組み合わせ、
−冷却トラップと静電トラップとの組み合わせ、
−冷却トラップとゲッタートラップとの組み合わせ、又は、
−冷却トラップとゲッタートラップと真空トラップと静電トラップとの組み合わせ、
も可能である（包括的なリストではない）。

明細書本文で既に言及したように、マスククリーニング装置のいくつかの部分、即ち、ヒータ、キャリアガスノズル、熱伝達を向上させるためにマスク基板に向けてガスを吹き出すチャンネル等は任意である。当業者であれば、この明細書本文で言及された加熱・冷却方法とは異なる加熱・冷却方法を容易に考え出すこともできる。これらの変形例及び他の変形例は添付の請求項の範囲から逸脱しない。

本発明に係る第１の実施の形態を示している。 本発明に係る第２の実施の形態を示している。 本発明に係る第３の実施の形態を示している。 本発明に係る第４の実施の形態を示している。 本発明に係る第５の実施の形態を示している。 本発明に係る第６の実施の形態を示している。

Claims (23)

1. マスク基板をクリーニングするための装置であって、
   前記マスク基板を支えるための支持手段と、
   前記マスク基板から粒子を分離することにより前記マスク基板をクリーニングするためのエアロゾルノズルと、
   を備え、
   前記エアロゾルノズル及び前記支持手段の直近に配置され、粒子が前記マスク基板から分離された後に粒子を捕捉するためのトラップを備えることを特徴とする装置。
2. 前記トラップは、冷却トラップを構成することを特徴とする請求項１に記載の装置。
3. 前記冷却トラップは、クリーニングプロセスのサブステップで前記マスク基板を加熱するとともに、クリーニングプロセスの他のサブステップで粒子を捕捉するように構成されていることを特徴とする請求項２に記載の装置。
4. 前記トラップは、真空トラップを構成することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の装置。
5. 前記真空トラップは、分離された粒子を捕捉するための真空ギャップを備えていることを特徴とする請求項４に記載の装置。
6. 前記エアロゾルノズルの近傍に配置され、前記真空ギャップへ向かうキャリアガス流を発生させるためのキャリアガスノズルを備えることを特徴とする請求項４又は５に記載の装置。
7. 前記トラップは、静電トラップを構成することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の装置。
8. 前記静電トラップは、分離された粒子を引き付けるために前記分離された粒子の電荷の符号と反対の符号の電荷を有する部分を備えることを特徴とする請求項７に記載の装置。
9. 前記静電トラップは、プラスに帯電されて分離された粒子及びマイナスに帯電されて分離された粒子の両方を引き付けるためにプラスに帯電された部分及びマイナスに帯電された部分の両方を備えることを特徴とする請求項８に記載の装置。
10. 前記トラップは、ゲッタートラップを構成することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の装置。
11. 前記ゲッタートラップは、ゲッタープレートを備えることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
12. 前記ゲッタープレートは、アルミニウム（Ａｌ）を含むことを特徴とする請求項１０又は１１に記載の装置。
13. 前記マスク基板を加熱するためのヒータを備えることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の装置。
14. 前記マスク基板に対して熱を伝達するためにガスを放出するチャンネルを備えることを特徴とする請求項３又は１３に記載の装置。
15. 前記支持手段を前記ヒータから前記トラップへ移動させるための搬送手段を備えることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の装置。
16. 搬送方向（Ｘ）において測定される前記ヒータと前記トラップとの間の距離（Ｄ）は、同一方向（Ｘ）において測定される前記マスク基板の寸法（Ｌ）よりも小さいことを特徴とする請求項１３乃至１５のいずれか一項に記載の装置。
17. 前記ヒータは、熱い物質のためのチャンネルを備えることを特徴とする請求項１３乃至１６のいずれか一項に記載の装置。
18. マスク基板をクリーニングするための方法であって、
    前記マスク基板を準備するステップと、
    前記マスク基板から粒子を分離するためにエアロゾルを前記マスク基板上に噴射するステップと、
    を含み、
    粒子が前記マスク基板から分離された直後に粒子を捕捉することを特徴とする方法。
19. 分離された粒子は、冷却トラップを用いて捕捉されることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
20. 分離された粒子は、真空トラップを用いて捕捉されることを特徴とする請求項１８又は１９に記載の方法。
21. 分離された粒子は、静電トラップを用いて捕捉されることを特徴とする請求項１８乃至２０のいずれか一項に記載の方法。
22. 分離された粒子は、ゲッタートラップを用いて捕捉されることを特徴とする請求項１８乃至２１のいずれか一項に記載の方法。
23. エアロゾルを噴射する前に、前記マスク基板が加熱されることを特徴とする請求項１８乃至２２に記載の方法。

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