JP2012004399A5 - - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 238000005422 blasting Methods 0.000 claims description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 41
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 10
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010138906A JP5566200B2 (ja) | 2010-06-18 | 2010-06-18 | 配線基板及びその製造方法 |
| US13/158,607 US8669478B2 (en) | 2010-06-18 | 2011-06-13 | Wiring substrate and method of manufacturing the same |
| CN201110162222XA CN102291933A (zh) | 2010-06-18 | 2011-06-16 | 布线基板及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010138906A JP5566200B2 (ja) | 2010-06-18 | 2010-06-18 | 配線基板及びその製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012004399A JP2012004399A (ja) | 2012-01-05 |
| JP2012004399A5 true JP2012004399A5 (enExample) | 2013-05-16 |
| JP5566200B2 JP5566200B2 (ja) | 2014-08-06 |
Family
ID=45327672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010138906A Active JP5566200B2 (ja) | 2010-06-18 | 2010-06-18 | 配線基板及びその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8669478B2 (enExample) |
| JP (1) | JP5566200B2 (enExample) |
| CN (1) | CN102291933A (enExample) |
Families Citing this family (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8569167B2 (en) * | 2011-03-29 | 2013-10-29 | Micron Technology, Inc. | Methods for forming a semiconductor structure |
| US8952540B2 (en) | 2011-06-30 | 2015-02-10 | Intel Corporation | In situ-built pin-grid arrays for coreless substrates, and methods of making same |
| US20130192879A1 (en) * | 2011-09-22 | 2013-08-01 | Ibiden Co., Ltd. | Multilayer printed wiring board |
| US20130168132A1 (en) * | 2011-12-29 | 2013-07-04 | Sumsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Printed circuit board and method of manufacturing the same |
| KR101859483B1 (ko) * | 2012-03-06 | 2018-06-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 입체 영상 표시 장치 및 그 제조 방법 |
| JP5502139B2 (ja) * | 2012-05-16 | 2014-05-28 | 日本特殊陶業株式会社 | 配線基板 |
| CN102833963B (zh) * | 2012-09-03 | 2015-04-01 | 高德(无锡)电子有限公司 | 一种改善盲钻孔工件在电镀软金时孔底露铜的水平前处理方法 |
| WO2014050081A1 (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-03 | 株式会社デンソー | 電子装置 |
| JP6056490B2 (ja) * | 2013-01-15 | 2017-01-11 | 株式会社ソシオネクスト | 半導体装置とその製造方法 |
| JP6105316B2 (ja) * | 2013-02-19 | 2017-03-29 | 京セラ株式会社 | 電子装置 |
| JP6418757B2 (ja) * | 2014-03-03 | 2018-11-07 | 新光電気工業株式会社 | 配線基板及びその製造方法と半導体装置 |
| US9704735B2 (en) | 2014-08-19 | 2017-07-11 | Intel Corporation | Dual side solder resist layers for coreless packages and packages with an embedded interconnect bridge and their methods of fabrication |
| JP2016076534A (ja) * | 2014-10-03 | 2016-05-12 | イビデン株式会社 | 金属ポスト付きプリント配線板およびその製造方法 |
| TWI559829B (zh) * | 2014-10-22 | 2016-11-21 | 矽品精密工業股份有限公司 | 封裝結構及其製法 |
| JP6453625B2 (ja) * | 2014-11-27 | 2019-01-16 | 新光電気工業株式会社 | 配線基板及びその製造方法と電子部品装置 |
| JP6812678B2 (ja) * | 2016-06-29 | 2021-01-13 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 配線板の製造方法 |
| US10446515B2 (en) * | 2017-03-06 | 2019-10-15 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Semiconductor substrate and semiconductor packaging device, and method for forming the same |
| US11309294B2 (en) * | 2018-09-05 | 2022-04-19 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Integrated fan-out packages and methods of forming the same |
| JP7076347B2 (ja) * | 2018-09-18 | 2022-05-27 | 日本特殊陶業株式会社 | 導波管 |
| KR20200055432A (ko) * | 2018-11-13 | 2020-05-21 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판 |
| KR102680005B1 (ko) * | 2018-11-27 | 2024-07-02 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판 |
| KR102724892B1 (ko) * | 2018-12-04 | 2024-11-01 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판 및 그 제조방법 |
| CN110691487B (zh) * | 2019-09-12 | 2021-06-22 | 无锡江南计算技术研究所 | 一种面向高密度组装的大功率供电背板 |
| US11862594B2 (en) * | 2019-12-18 | 2024-01-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Package structure with solder resist underlayer for warpage control and method of manufacturing the same |
| CN113207244B (zh) * | 2020-02-03 | 2024-12-10 | 奥特斯奥地利科技与系统技术有限公司 | 制造部件承载件的方法及部件承载件 |
| US12342677B2 (en) * | 2021-09-06 | 2025-06-24 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and method for fabricating electronic device by using the same |
| TW202335542A (zh) * | 2022-01-12 | 2023-09-01 | 南韓商韓國電路股份有限公司 | 印刷電路板及其製造方法 |
| KR102561794B1 (ko) * | 2022-01-12 | 2023-08-01 | 주식회사 코리아써키트 | 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3633252B2 (ja) * | 1997-01-10 | 2005-03-30 | イビデン株式会社 | プリント配線板及びその製造方法 |
| JP2002171050A (ja) | 1997-04-11 | 2002-06-14 | Ibiden Co Ltd | プリント配線板 |
| JP3346263B2 (ja) * | 1997-04-11 | 2002-11-18 | イビデン株式会社 | プリント配線板及びその製造方法 |
| JP2000022337A (ja) * | 1998-06-30 | 2000-01-21 | Matsushita Electric Works Ltd | 多層配線板及びその製造方法 |
| JP2001094260A (ja) * | 1999-09-24 | 2001-04-06 | Toshiba Chem Corp | 多層プリント配線板の製造方法 |
| JP2002290022A (ja) * | 2001-03-27 | 2002-10-04 | Kyocera Corp | 配線基板およびその製造方法ならびに電子装置 |
| JP2006093438A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Denso Corp | プリント基板及びその製造方法 |
| JP4697144B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2011-06-08 | パナソニック電工株式会社 | プリプレグ用エポキシ樹脂組成物およびプリプレグ、多層プリント配線板 |
| US7838779B2 (en) * | 2005-06-17 | 2010-11-23 | Nec Corporation | Wiring board, method for manufacturing same, and semiconductor package |
| JP2008140886A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 配線基板及びその製造方法 |
| JP4994922B2 (ja) | 2007-04-06 | 2012-08-08 | 太陽ホールディングス株式会社 | ソルダーレジスト組成物およびその硬化物 |
| KR101551898B1 (ko) * | 2007-10-05 | 2015-09-09 | 신꼬오덴기 고교 가부시키가이샤 | 배선 기판, 반도체 장치 및 이들의 제조 방법 |
| JP2009200356A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Tdk Corp | プリント配線板及びその製造方法 |
| WO2010010910A1 (ja) * | 2008-07-23 | 2010-01-28 | 日本電気株式会社 | コアレス配線基板、半導体装置及びそれらの製造方法 |
-
2010
- 2010-06-18 JP JP2010138906A patent/JP5566200B2/ja active Active
-
2011
- 2011-06-13 US US13/158,607 patent/US8669478B2/en active Active
- 2011-06-16 CN CN201110162222XA patent/CN102291933A/zh active Pending
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