JP2011527461A5

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Publication number: JP2011527461A5
Application number: JP2011517254A
Authority: JP
Filing date: 2009-04-29
Publication date: 2015-07-02
Anticipated expiration: 2029-04-29

Description

また本発明は、本明細書に開示される反射防止コーティング組成物から形成された反射防止膜層を表面上に有する基材を含む被覆された基材であって、前記反射防止膜層が、１９３ｎｍで測定した時に０．０１≦ｋ＜０．３５の範囲の吸光パラメータ（ｋ）を有する前記基材にも関する。加えて、本発明は、ａ）本明細書に記載の反射防止コーティング組成物で基材をコーティングしそしてベークし；ｂ）反射防止膜の上にフォトレジストをコーティングしそしてベークし；ｃ）フォトレジストを像様露光し；ｄ）フォトレジストに像を現像し；ｅ）場合により、露光段階の後に基材をベークすることを含む、像を形成するための方法にも関する。加えて、本発明は、ａ）基材上に反射防止フィルムを形成し、ここで前記反射防止フィルムは本発明の反射防止コーティング組成物から形成され、該反射防止コーティング組成物中のジオール類、トリオール類、ジチオール類、トリチオール類、二酸類、三酸類、ジイミド類、ジアミド類またはイミド−アミド類は、該反射防止コーティング組成物中のポリマーの最大吸収が、フォトレジストのための露光波長よりも小さくなるように選択され、かつ露光波長は、反射防止コーティング組成物中のポリマーの吸光バンドの長波長側で最大吸収と最小吸収との間にあり、その結果として、反射防止フィルムの屈折率“ｎ”を高めかつ反射防止フィルムの吸光パラメータ“ｋ”を低める反射防止フィルムの屈折率に対する異常分散寄与を生じ；及びｂ）反射防止フィルムの上にフォトレジストフィルムを形成することを含む、反射防止フィルム及び露光波長に感度を示すフォトレジストフィルムを基材上に形成する方法にも関する。場合により、前記ジオール類、トリオール類、ジチオール類、トリチオール類、他のポリオール類、二酸類、三酸類、他のポリ酸類、ジイミド類、ジアミド類またはイミド−アミド類は、該反射防止コーティング組成物中のポリマーの最大吸収がフォトレジストの露光波長よりも小さくなるように選択することができ、ここで露光波長は、長波長側で、該反射防止コーティング組成物中のポリマーの吸光バンドの半分の高さと最小吸収との間にある。

更に本発明は、本明細書に記載の反射防止コーティング組成物から形成された反射防止膜層を表面上に有する基材を含む被覆された基材であって、反射防止膜層が、１９３ｎｍで測定して０．０１≦ｋ＜０．３５の範囲の吸光パラメータ（ｋ）を有する、前記基材にも関する。加えて、本発明は、ａ）本明細書に記載の反射防止コーティング組成物で基材をコーティングしそしてベークし；ｂ）反射防止膜の上にフォトレジストフィルムをコーティングしそしてベークし；ｃ）フォトレジストを像様露光し；ｄ）フォトレジストに像を現像し；ｅ）場合により、露光段階の後に基材をベークすることを含む、画像形成方法にも関する。加えて、本発明は、ａ）基材上に反射防止フィルムを形成し、ここで前記反射防止フィルムは、本発明の反射防止コーティング組成物から形成され、ここで該反射防止コーティング組成物中の前記ジオール類、トリオール類、ジチオール類、トリチオール類、二酸類、三酸類、ジイミド類、ジアミド類またはイミド−アミド類は、反射防止コーティング組成物中のポリマーの最大吸収は、フォトレジストの露光波長より小さくなるように選択され、ここでこの露光波長は、反射防止コーティング組成物中のポリマーの吸光バンドの長波長側で最大吸収と最小吸収との間にあり、その結果、反射防止フィルムの屈折率“ｎ”を高めかつ反射防止フィルムの吸光パラメータ“ｋ”を低める反射防止フィルムの屈折率に対する異常分散寄与を生じ；及びｂ）反射防止フィルム上にフォトレジストフィルムを形成することを含む、反射防止フィルム及び露光波長に感度のあるフォトレジストフィルムを基材上に形成する方法にも関する。場合により、前記ジオール類、トリオール類、ジチオール類、トリチオール類、他のポリオール類、二酸類、三酸類、他のポリ酸類、ジイミド類、ジアミド類またはイミド−アミド類は、反射防止コーティング組成物中のポリマーの最大吸収はフォトレジストの露光波長より小さくなるように選択することができ、ここで露光波長は、長波長側で、反射防止コーティング組成物中のポリマーの吸光バンドの半分の高さと最小吸収との間にある。

本発明の上記の記載は本発明を例示、説明するものである。加えて、該開示は、本発明の好ましい態様を示し、記載するものに過ぎないが、上述の通り、本発明は、他の様々な組み合わせ、改変及び環境においての使用も可能であること、かつ上記の教示及び／または関連する技術分野の技術または知識に相応して、ここに表される発明的思想の範囲内で変更または改変が可能であることは当然に理解されることである。更に、上記の態様は、本発明を実施する上での把握しているベストモードを説明し、そして他の当業者が本発明をそのままでまたは他の態様で及び本発明の特定の適用または使用によって要求される様々な改変をもって利用できるようにすることを意図したものである。応じて、上記の記載は、開示の形態に本発明を限定することを意図したものではない。また、添付の特許請求の範囲は、代替的な態様も含むと解釈されることも意図される。
本願は、特許請求の範囲に記載の発明に係るものであるが、本願の開示は以下を包含する。
１．
芳香族発色団を含まないポリマー、酸発生剤、場合により及び架橋剤を含む反射防止コーティング組成物であって、前記ポリマーは、アミノプラスト類から誘導される構造単位と、ジオール類、トリオール類、ジチオール類、トリチオール類、他のポリオール類、二酸類、三酸類、他のポリ酸類、ジイミド類、ジアミド類、イミド−アミド類、またはこれらの混合物から誘導される構造単位とを含み、前記ジオール類、ジチオール類、トリオール類、トリチオール類、二酸類、三酸類、ジイミド類、ジアミド類またはイミド−アミド類は、場合により、一つもしくはそれ以上の窒素及び／または硫黄原子を含むかあるいは一つまたはそれ以上のアルケン基を含む、前記反射防止コーティング組成物。

２．
アミノプラスト類が次のもの、すなわち

［式中、各Ｒ_８は、（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ−ＣＨ_３であり、各Ｒ_１１は水素またはＣ_１〜Ｃ_６アルキルであり、ｎは１〜４であり、そしてｍは０〜３である］

から選択されるか、あるいは
アミノプラスト類が、

［式中、Ｒ_８は（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ−ＣＨ_３であり、各Ｒ_１１は水素またはＣ_１〜Ｃ_６アルキルであり、ｎは１〜４であり、そしてｍは０〜３である］
である、
上記１の反射防止コーティング組成物。

３．
前記ジオール類、ジチオール類、トリオール類、トリチオール類、二酸類、三酸類、ジイミド類、ジアミド類またはイミド−アミド類が、次のものから選択される、上記１または２の反射防止コーティング組成物。

４．
ポリマーが、構造（１Ａ）

［式中、Ｚは、ジオール類、トリオール類、ジチオール類、トリチオール類、他のポリオール類、二酸類、三酸類、他のポリ酸類、ジイミド類、ジアミド類、イミド−アミド類、またはこれらの混合物の残基であり；Ｘは、−ＯＲ_３、−Ｏ（Ｏ＝Ｃ）Ｒ_３、または

であり、ここでＲ_３は、水素、置換されていないかもしくは置換されたアルキル、置換されていないかもしくは置換されたアルケン、置換されていないかもしくは置換されたアルキン、または環内に一つまたはそれ以上の窒素及び／または硫黄原子を場合により有する、置換されていないかもしくは置換された６員環であり；Ｒ_４及びＲ_５はそれぞれ独立してＲ_３であるか、またはＲ_４とＲ_５は、それらが結合する原子と一緒になって、環内に一つまたはそれ以上の窒素及び／または硫黄原子を場合により有する、置換されていないかもしくは置換された５または６員環を形成し；そして各Ｒ_１１は水素またはＣ_１−６アルキルである］
の繰り返し単位、または
次のもの、すなわち

から選択される繰り返し単位、
を含む、上記１〜３のいずれか一つの反射防止コーティング組成物。

５．
芳香族発色団を含むポリマーを更に含む、上記１〜４のいずれか一つの反射防止コーティング組成物。

６．
芳香族発色団を含まないポリマーであって、アミノプラスト類から誘導される構造単位と、ジオール類、トリオール類、ジチオール類、トリチオール類、他のポリオール類、二酸類、三酸類、他のポリ酸類、ジイミド類またはこれらの混合物から誘導される構造単位とを含み、ここで前記ジオール類、ジチオール類、トリオール類、トリチオール類、二酸類、三酸類、ジイミド類、ジアミド類またはイミド−アミド類が、場合により、一つもしくはそれ以上の窒素及び／または硫黄原子を含むかあるいは一つまたはそれ以上のアルケン基を含み、また該ポリマーは、次もの、すなわち

から選択される繰り返し単位を含む、前記ポリマー。

７．
上記１〜５のいずれか一つの反射防止コーティング組成物から形成された反射防止膜層を表面上に有する基材を含む、被覆された基材であって、前記反射防止膜層が、１９３ｎｍで測定して０．０１≦ｋ＜０．３５の範囲の吸光パラメータ（ｋ）を有する、前記被覆された基材。

８．
ａ）上記１〜５のいずれか一つの反射防止コーティング組成物で基材をコーティングし、そしてベークし；ｂ）この反射防止膜の上にフォトレジストフィルムをコーティングし、そしてベークし；ｃ）フォトレジストを像様露光し；ｄ）フォトレジストに像を現像し；ｅ）場合により、露光段階の後に基材をベークする、ことを含む画像形成方法。

９．
ａ）基材上に反射防止フィルムを形成し、ここでこの反射防止フィルムは、上記１〜５のいずれか一つの反射防止コーティング組成物から形成され、該反射防止コーティング組成物中のジオール類、トリオール類、ジチオール類、トリチオール類、二酸類、三酸類、ジイミド類、ジアミド類またはイミド−アミド類は、反射防止コーティング組成物中のポリマーの最大吸収が、フォトレジストの露光波長より小さくなるように選択され、ここで露光波長は、反射防止コーティング組成物中のポリマーの吸光バンドの長波長側で、最大吸収と最小吸収との間にあり、その結果、反射防止フィルムの屈折率“ｎ”を高めかつ反射防止フィルムの吸光パラメータ“ｋ”を低める、反射防止フィルムの屈折率に対する異常分散寄与を生じ；及び
ｂ）前記反射防止フィルムの上にフォトレジストフィルムを形成する、
ことを含む、反射防止フィルム及び露光波長に感度を示すフォトレジストフィルムを基材上に形成する方法。

１０．
ａ）基材上に反射防止フィルムを形成し、ここで該反射防止フィルムは、上記１〜５のいずれか一つの反射防止コーティング組成物から形成され、該反射防止コーティング組成物中のジオール類、トリオール類、ジチオール類、トリチオール類、二酸類、三酸類、ジイミド類、ジアミド類またはイミド−アミド類は、該反射防止コーティング組成物中のポリマーの最大吸収が、フォトレジストの露光波長よりも小さくなるように選択され、ここで露光波長は、長波長側で、反射防止コーティング組成物中のポリマーの吸光バンドの半分の高さと、最小吸収との間にあり、その結果、反射防止フィルムの屈折率“ｎ”を高めかつ反射防止フィルムの吸光パラメータ“ｋ”を低める、反射防止フィルムの屈折率に対する異常分散寄与を生じ；及び
ｂ）上記反射防止フィルムの上にフォトレジストフィルムを形成する、
ことを含む、上記９の方法。

１１．
前記ジオール類、トリオール類、ジチオール類、トリチオール類、二酸類、三酸類、ジイミド類、ジアミド類またはイミド−アミド類が上記３に記載のものである、上記９または１０の方法。

１２．
反射防止コーティング組成物に関して、ポリマーが、次のもの、すなわち

から選択される繰り返し単位を含む、上記９〜１１のいずれか一つの方法。

Claims

ａ）基材上に反射防止フィルムを形成し、ここでこの反射防止フィルムは、請求項１〜４のいずれか一つの反射防止コーティング組成物から形成され、該反射防止コーティング組成物中のジオール類、トリオール類、ジチオール類、トリチオール類、二酸類、三酸類、ジイミド類、ジアミド類またはイミド−アミド類は、反射防止コーティング組成物中のポリマーの最大吸収が、フォトレジストの露光波長より小さくなるように選択され、ここで露光波長は、反射防止コーティング組成物中のポリマーの吸光バンドの長波長側で、最大吸収と最小吸収との間にあり、その結果、反射防止フィルムの屈折率“ｎ”を高めかつ反射防止フィルムの吸光パラメータ“ｋ”を低める、反射防止フィルムの屈折率に対する異常分散寄与を生じ；及び
ｂ）前記反射防止フィルムの上にフォトレジストフィルムを形成する、
ことを含む、反射防止フィルム及び露光波長に感度を示すフォトレジストフィルムを基材上に形成する方法。