JP2011516386A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011516386A5 JP2011516386A5 JP2011503394A JP2011503394A JP2011516386A5 JP 2011516386 A5 JP2011516386 A5 JP 2011516386A5 JP 2011503394 A JP2011503394 A JP 2011503394A JP 2011503394 A JP2011503394 A JP 2011503394A JP 2011516386 A5 JP2011516386 A5 JP 2011516386A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- precipitated silica
- sir
- carbon atoms
- metal silicate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N silicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 21
- 125000004432 carbon atoms Chemical group C* 0.000 claims 9
- 239000002535 acidifier Substances 0.000 claims 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 5
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims 4
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 claims 3
- 229910052915 alkaline earth metal silicate Inorganic materials 0.000 claims 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 claims 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims 3
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 claims 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 claims 2
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- 150000004703 alkoxides Chemical group 0.000 claims 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims 2
- 239000002585 base Substances 0.000 claims 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 claims 2
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N cyanide Chemical group N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 2
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M isothiocyanate Chemical group [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims 2
- 125000002130 sulfonic acid ester group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims 2
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 102100000129 CHURC1 Human genes 0.000 claims 1
- 101710014631 CHURC1 Proteins 0.000 claims 1
- IYJYQHRNMMNLRH-UHFFFAOYSA-N Sodium aluminate Chemical compound [Na+].O=[Al-]=O IYJYQHRNMMNLRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 claims 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims 1
- 125000005082 alkoxyalkenyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- SMYKVLBUSSNXMV-UHFFFAOYSA-J aluminum;tetrahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] SMYKVLBUSSNXMV-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims 1
- 125000003262 carboxylic acid ester group Chemical group [H]C([H])([*:2])OC(=O)C([H])([H])[*:1] 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 claims 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atoms Chemical group [H]* 0.000 claims 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 claims 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims 1
- 238000006011 modification reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000000877 morphologic Effects 0.000 claims 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 claims 1
- 150000001282 organosilanes Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- 239000000047 product Substances 0.000 claims 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 claims 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims 1
Claims (23)
- 以下の物理化学特性
CTAB表面積 ≧150m2/g
BET表面積 ≧150m2/g
DBP数 180〜350g/(100g)
半幅/ピーク ≦0.95
d25%/d75% 1.00〜1.80
相対幅γ(加圧) ≦2.8(g nm)/ml
微粉度F.V.(加圧)100〜140Å
を有する沈降シリカ。 - 0.20〜0.85の形態指数IMを有することを特徴とする、請求項1に記載の沈降シリカ。
- 0.20〜0.75の孔容量比V2/V1(加圧)を有することを特徴とする、請求項1または2に記載の沈降シリカ。
- Al2O3含有量が0.1〜5.0質量%であることを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項に記載の沈降シリカ。
- 加圧状体の微粒度F.V.(加圧)が100〜130Åであることを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項に記載の沈降シリカ。
- 孔径分布の相対幅γ(加圧)が1.5〜2.5(gnm)/mlであることを特徴とする、請求項1から5までのいずれか1項に記載の沈降シリカ。
- ピークの位置に対して正規化されたピークの半高幅(半幅/ピーク)が0.65〜0.9であることを特徴とする、請求項1から6までのいずれか1項に記載の沈降シリカ。
- d25%/d75%比が1.20〜1.80であることを特徴とする、請求項1から7までのいずれか1項に記載の沈降シリカ。
- d25%/d75%比が1.4〜1.75であることを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1項に記載の沈降シリカ。
- BET表面積が160〜210m2/gであり、かつ/またはCTAB表面積が160〜190m2/gであり、かつ/または形態指数IMが0.50〜0.80であり、かつ/または孔容量比V2/V1(加圧)が0.3〜0.6であり、かつ/またはAl2O3含有量が0.1〜2質量%であり、かつ/または修正シアーズ数Vol2が23〜27ml/(5g)であることを特徴とする、請求項1から9までのいずれか1項に記載の沈降シリカ。
- 篩残留物測定(Ro−Tap)により、粒子の少なくとも80質量%が300μmより大きく、10質量%以下が75μmより小さくなるように構成された粒径分布を有する造粒物であるか、またはレーザ回折によって測定された平均粒径d50が15〜80μmである粉末であるか、または篩残留物測定(Alpine)によって測定された粒径d50が80μm〜1000μmである球形粒子であることを特徴とする、請求項1から10までのいずれか1項に記載の沈降シリカ。
- 沈降シリカを製造するための方法であって、
a)アルカリ金属珪酸塩もしくはアルカリ土類金属珪酸塩の水溶液、および/または有機および/または無機塩基を初充填する工程と、
b)少なくとも1つのアルカリ金属珪酸塩および/またはアルカリ土類金属珪酸塩と少なくとも1つの酸性化剤とを、75〜88℃で60〜120分、好ましくは70〜90分にわたって撹拌しながらこの初充填物に同時に計量導入する工程と、
d)少なくとも1つの酸性化剤を用いて再度酸性化して、pHを約5〜約8とする工程と、
e)少なくとも1つの酸性化剤を用いて再度酸性化して、pHを4〜5とする工程と、その際、酸性化剤の計量導入速度は工程d)の計量導入速度より小さい、
f)沈殿懸濁物を濾過する工程と、
g)濾過ケーキを洗浄する工程と、
h)濾過ケーキを場合によって液化する工程と、
i)乾燥する工程と、
j)場合によって粉砕および/または造粒する工程と、
を含む方法。 - 工程b)と工程d)との間に、
c)工程b)で使用した酸性化剤および/または別の酸性化剤の添加を、工程b)における計量導入速度と同じまたは異なる計量導入速度で、沈殿懸濁物のpHが7〜10に達するまで継続し、このpHの得られた懸濁物を80〜98℃の高温で40〜80分間継続的に撹拌する工程を実施することを特徴とする、請求項12に記載の方法。 - 工程g)と工程i)との間に、
h)濾過ケーキを液化する工程を実施することを特徴とする、請求項12または13に記載の方法。 - 液化中に、好ましくはアルミン酸塩の形、より好ましくはアルミン酸ナトリウムの形のアルミニウムを添加することを特徴とする、請求項14に記載の方法。
- 工程i)の後に、
j)粉砕および/または造粒する工程を実施することを特徴とする、請求項12から15までのいずれか1項に記載の方法。 - ローラ圧縮機を用いて造粒を実施することを特徴とする、請求項16に記載の方法。
- 使用する塩基が、アルカリ金属珪酸塩および/またはアルカリ土類金属珪酸塩および/またはアルカリ金属水酸化物および/またはアルカリ土類金属水酸化物であることを特徴とする、請求項1から17までのいずれか1項に記載の方法。
- 工程a)からj)の1つの工程中に、有機塩または無機塩を添加することを特徴とする、請求項12から18までのいずれか1項に記載の方法。
- 回転フラッシュ乾燥器またはノズル塔を乾燥に使用することを特徴とする、請求項12から19までのいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1から11までのいずれか1項に記載の沈降シリカ、または請求項12から20までのいずれか1項に従って製造された沈降シリカであって、それらの表面が、式I〜III:
[SiR1 n(RO)r(Alk)m(Ar)p]q[B] (I)
SiR1 n(RO)3-n(アルキル) (II)、または
SiR1 n(RO)3-n(アルケニル) (III)
[式中、
Bは、−SCN、−SH、−Cl、−NH2、−OC(O)CHCH2、−OC(O)C(CH3)CH2(q=1のとき)または−Sw−(q=2のとき)であり、Bは、Alkに化学的に結合し、
RおよびR1は、ヒドロキシル基、アミノ基、アルコキシド基、シアニド基、チオシアニド基、ハロゲン基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、チオール基、安息香酸基、安息香酸エステル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、アクリレート基、メタクリレート基、有機シラン基によって場合によって置換されていてよい、2〜30個の炭素原子を有する脂肪族、オレフィン、芳香族またはアリール芳香族の基であり、RおよびR1は、同一の、または異なる定義または置換を有することができ、
nは、0、1または2であり、
Alkは、1〜6個の炭素原子を有する二価の非分枝状または分枝状炭化水素基であり、
mは、0または1であり、
Arは、ヒドロキシル基、アミノ基、アルコキシド基、シアニド基、チオシアニド基、ハロゲン基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、チオール基、安息香酸基、安息香酸エステル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、アクリレート基、メタクリレート基、有機シラン基によって置換されていてよい、6〜12個の炭素原子、好ましくは6個の炭素原子を有するアリール基であり、
pは、pおよびnがどちらも0でないことを条件として0または1であり、
qは、1または2であり、
wは、2〜8の数字であり、
rは、r+n+m+p=4であることを条件として1、2または3であり、
アルキルは、1〜20個の炭素原子、好ましくは2〜8個の炭素原子を有する一価の非分枝状または分枝状飽和炭化水素基であり、
アルケニルは、2〜20個の炭素原子、好ましくは2〜8個の炭素原子を有する一価の非分枝状または分枝状不飽和炭化水素基である]の有機シランで改質されたことを特徴とする、沈降シリカ。 - 請求項1から11までのいずれか1項に記載の沈降シリカ、または請求項12から20までのいずれか1項に従って製造された沈降シリカであって、それらの表面が、組成がSiR2 4-nXn(n=1、2、3、4)、
[SiR2 xXyO]z(0≦x≦2;0≦y≦2;3≦z≦10、x+y=2)、
[SiR2 xXyN]z(0≦x≦2;0≦y≦2;3≦z≦10、x+y=2)、
SiR2 nXmOSiR2 oXp(0≦n≦3;0≦m≦3;0≦o≦3;0≦p≦3、n+m=3、o+p=3)、
SiR2 nXmNSiR2 oXp(0≦n≦3;0≦m≦3;0≦o≦3;0≦p≦3、n+m=3、o+p=3)、および/または
SiR2 nXm[SiR2 xXyO]zSiR2 oXp(0≦n≦3;0≦m≦3;0≦x≦2;0≦y≦2;0≦o≦3;0≦p≦3;1≦z≦10000、n+m=3、x+y=2、o+p=3)
[式中、
R2は、1〜20個の炭素原子を有する置換および/または非置換のアルキル基および/またはアリール基、および/またはアルコキシ基および/またはアルケニル基および/またはアルキニル基および/または硫黄含有基であり、
Xは、シラノール基、アミノ基、チオール基、ハロゲン基、アルコキシ基、アルケニル基および/または水素基である]の有機珪素化合物で改質されたことを特徴とする、沈降シリカ。 - 請求項21または22のいずれかに記載のシリカを製造するための方法であって、沈降シリカを、沈降シリカ100部に対して0.5〜50部、特に沈降シリカ100部に対して1〜15部の混合物での有機珪素化合物で改質し、沈降シリカと有機珪素化合物の反応を、有機珪素化合物とシリカ懸濁物を混合し、続いて乾燥および熱処理することによって、混合物の調製時に(インサイチューで)実施するか、または混合物を噴霧し、次いで加熱することによって外部で実施することを特徴とする、方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102008017747.4 | 2008-04-07 | ||
DE102008017747A DE102008017747A1 (de) | 2008-04-07 | 2008-04-07 | Gefällte Kieselsäuren als Verstärkerfüllstoff für Elastomermischungen |
PCT/EP2009/053243 WO2009124829A1 (de) | 2008-04-07 | 2009-03-19 | Gefällte kieselsäuren als verstärkerfüllstoff für elastomermischungen |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011516386A JP2011516386A (ja) | 2011-05-26 |
JP2011516386A5 true JP2011516386A5 (ja) | 2012-04-12 |
JP5502851B2 JP5502851B2 (ja) | 2014-05-28 |
Family
ID=40792861
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011503394A Active JP5502851B2 (ja) | 2008-04-07 | 2009-03-19 | エラストマー混合物のための強化充填剤としての沈降珪酸 |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8658816B2 (ja) |
EP (1) | EP2262730B1 (ja) |
JP (1) | JP5502851B2 (ja) |
KR (1) | KR101567617B1 (ja) |
CN (2) | CN101990519A (ja) |
BR (1) | BRPI0911068B1 (ja) |
DE (1) | DE102008017747A1 (ja) |
ES (1) | ES2476894T3 (ja) |
MX (1) | MX2010010931A (ja) |
PL (1) | PL2262730T3 (ja) |
PT (1) | PT2262730E (ja) |
RU (1) | RU2544697C2 (ja) |
TW (1) | TWI399339B (ja) |
WO (1) | WO2009124829A1 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5039346B2 (ja) * | 2006-09-12 | 2012-10-03 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用粉末及び溶射皮膜 |
DE102008017731A1 (de) * | 2008-04-07 | 2009-10-08 | Continental Aktiengesellschaft | Kautschukmischung |
US8114935B2 (en) | 2009-05-04 | 2012-02-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Microporous precipitated silica |
US20130196848A1 (en) * | 2010-05-21 | 2013-08-01 | Grace Gmbh & Co. Kg | Porous inorganic oxide particles and methods of making and using the same |
US9221962B2 (en) * | 2010-07-09 | 2015-12-29 | Bridgestone Corporation | Rubber composition and pneumatic tire using the same |
CN102225948A (zh) * | 2011-05-05 | 2011-10-26 | 厦门大学 | 硅三硫醇及其制备方法 |
FR2988384B1 (fr) * | 2012-03-22 | 2015-09-11 | Rhodia Operations | Procede de preparation de silice precipitee comprenant une etape de fort compactage |
CN103073762B (zh) * | 2012-12-31 | 2015-10-28 | 特拓(青岛)轮胎技术有限公司 | 一种用于路航系列乘用车轮胎胎面的橡胶组合物技术 |
KR101507825B1 (ko) * | 2013-10-31 | 2015-04-07 | 한국타이어 주식회사 | 타이어용 고무 조성물 및 이를 이용하여 제조한 타이어 |
DE102014200563A1 (de) | 2014-01-15 | 2015-07-16 | Evonik Industries Ag | Oligomere Organosilane, deren Herstellung und Verwendung in Kautschukmischungen |
TR201809610T4 (tr) * | 2014-02-28 | 2018-07-23 | Rhodia Operations | Çökeltilmiş silikaların hazırlanmasına yönelik proses, özellikle polimerlerin takviyesine yönelik çökeltilmiş silikalar ve bunların kullanımları. |
US10457502B2 (en) | 2014-05-22 | 2019-10-29 | Symbotic Canada Ulc | Tool and method for layer depalletizing |
US10981795B2 (en) | 2015-12-23 | 2021-04-20 | Tata Chemicals Limited | Precipitated silica |
WO2017109743A1 (en) * | 2015-12-23 | 2017-06-29 | Tata Chemicals Limited | Precipitated silica |
FR3058148A1 (fr) * | 2016-10-31 | 2018-05-04 | Compagnie Generale Des Etablissements Michelin | Composition de caoutchouc comprenant une charge renforcante specifique |
JP7071401B2 (ja) | 2017-05-05 | 2022-05-18 | ローディア オペレーションズ | 沈降シリカ及びその製造プロセス |
WO2018202756A1 (en) | 2017-05-05 | 2018-11-08 | Rhodia Operations | Precipitated silica and process for its manufacture |
JP6781106B2 (ja) * | 2017-06-09 | 2020-11-04 | 東ソー・シリカ株式会社 | ゴム補強充填用含水ケイ酸及びその製造方法 |
CN109968554B (zh) * | 2019-03-21 | 2021-01-15 | 青岛科技大学 | 一种GR-SiO2/CI材料制备方法及雾化成胶装置 |
DE102020208510A1 (de) * | 2020-07-07 | 2022-01-13 | Evonik Operations Gmbh | Modifizierte Kieselsäuren, Verfahren zur deren Herstellung und deren Verwendung |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4094771A (en) | 1976-01-13 | 1978-06-13 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler | Process for preparation of a sprayable precipitated silicic acid suspension |
DE3437473A1 (de) | 1984-10-12 | 1986-04-17 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | An der oberflaeche modifizierte synthetische, silikatische fuellstoffe, ein verfahren zur herstellung und deren verwendung |
DE4004781A1 (de) | 1990-02-16 | 1991-08-22 | Degussa | Verfahren zur herstellung von mit organosiliciumverbindungen modifizierten fuellstoffen, die so hergestellten fuellstoffe und deren verwendung |
FR2678259B1 (fr) * | 1991-06-26 | 1993-11-05 | Rhone Poulenc Chimie | Nouvelles silices precipitees sous forme de granules ou de poudres, procedes de synthese et utilisation au renforcement des elastomeres. |
JP3410522B2 (ja) * | 1993-09-09 | 2003-05-26 | 水澤化学工業株式会社 | 粒状非晶質シリカの製造方法 |
EP0670813B1 (fr) * | 1993-09-29 | 2003-03-12 | Rhodia Chimie | Silice precipitee |
DE4427137B4 (de) * | 1993-10-07 | 2007-08-23 | Degussa Gmbh | Fällungskieselsäure |
JP3719687B2 (ja) * | 1995-07-21 | 2005-11-24 | 東ソー・シリカ株式会社 | シリカゲルの製造方法 |
DE19609619A1 (de) | 1996-03-12 | 1997-09-18 | Degussa | Staubarme, gut dispergierbare Granulate auf der Basis von mit Organosiliciumverbindungen modifizierten silikatischen Füllstoffen |
FR2763581B1 (fr) * | 1997-05-26 | 1999-07-23 | Rhodia Chimie Sa | Silice precipitee utilisable comme charge renforcante pour elastomeres |
BR9806096B1 (pt) | 1997-08-21 | 2009-01-13 | mercaptosilano bloqueado; processo para a manufatura de uma borracha com carga; processo para a manufatura de um mercaptosilano bloqueado; composiÇço de borracha; e silano. | |
DE19740440A1 (de) * | 1997-09-15 | 1999-03-18 | Degussa | Leicht dispergierbare Fällungskieselsäure |
DE19807700A1 (de) | 1998-02-24 | 1999-08-26 | Degussa | Fällungskieselsäuregranulate |
US5956175A (en) | 1998-07-31 | 1999-09-21 | Msc Specialty Films Inc | Solar control window film |
DE10137109A1 (de) | 2001-07-30 | 2003-02-27 | Infineon Technologies Ag | Siliziumhaltiger Resist für die Fotolithografie |
RU2270167C2 (ru) * | 2001-08-13 | 2006-02-20 | Родиа Шими | Способ получения диоксидов кремния, диоксиды кремния с особым гранулометрическим распределением и/или распределением пор и их применение, в частности, для упрочнения полимеров |
DE10146325A1 (de) * | 2001-09-20 | 2003-04-10 | Degussa | Fällungskieselsäure mit hohem BET/CTAB-Verhältnis |
DE10163945C1 (de) | 2001-09-26 | 2003-05-08 | Degussa | Geblockte Mercaptosilane, ein Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung |
DE10223658A1 (de) | 2002-05-28 | 2003-12-18 | Degussa | Organosiliciumverbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
DE10330118A1 (de) | 2002-08-03 | 2004-02-12 | Degussa Ag | Fällungskieselsäure mit hoher Oberfläche |
DE102005043201A1 (de) | 2005-09-09 | 2007-03-15 | Degussa Ag | Fällungskieselsäuren mit einer besonderen Porengrößenverteilung |
-
2008
- 2008-04-07 DE DE102008017747A patent/DE102008017747A1/de not_active Withdrawn
-
2009
- 2009-03-19 RU RU2010145015/05A patent/RU2544697C2/ru active
- 2009-03-19 KR KR1020107024891A patent/KR101567617B1/ko active IP Right Grant
- 2009-03-19 CN CN2009801122501A patent/CN101990519A/zh active Pending
- 2009-03-19 ES ES09731187.2T patent/ES2476894T3/es active Active
- 2009-03-19 BR BRPI0911068-2A patent/BRPI0911068B1/pt active IP Right Grant
- 2009-03-19 CN CN201610060026.4A patent/CN105836751A/zh active Pending
- 2009-03-19 PL PL09731187T patent/PL2262730T3/pl unknown
- 2009-03-19 MX MX2010010931A patent/MX2010010931A/es active IP Right Grant
- 2009-03-19 US US12/935,205 patent/US8658816B2/en active Active
- 2009-03-19 PT PT97311872T patent/PT2262730E/pt unknown
- 2009-03-19 EP EP09731187.2A patent/EP2262730B1/de active Active
- 2009-03-19 JP JP2011503394A patent/JP5502851B2/ja active Active
- 2009-03-19 WO PCT/EP2009/053243 patent/WO2009124829A1/de active Application Filing
- 2009-04-02 TW TW098111020A patent/TWI399339B/zh active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2011516386A5 (ja) | ||
CN106062088B (zh) | 经处理的填料、包含该填料的组合物和由该填料制备的制品 | |
JP6704051B2 (ja) | 炭酸カルシウム含有材料のアルコキシシラン処理 | |
CN102471082B (zh) | 氧化镁颗粒、其制造方法、散热性填料、树脂组合物、散热性脂膏和散热性涂料组合物 | |
TWI395711B (zh) | 疏水性矽石粉末之製造方法 | |
JP6209031B2 (ja) | シリカ粒子およびその製造方法 | |
CN109476544A (zh) | 用于生产地质聚合物或地质聚合物复合材料的方法 | |
RU2010145015A (ru) | Осажденные кремниевые кислоты в качестве усиливающего наполнителя для эластомерных композиций | |
JP2011236118A (ja) | 球状アルミナ粉末の製造方法 | |
JP2008545845A (ja) | 改質ナノ粒子 | |
JP5242588B2 (ja) | 処理されたアルミナ水和物材料およびその用途 | |
CN101796144A (zh) | 经环状物处理的金属氧化物 | |
US10723628B2 (en) | SiO2 containing dispersion with high salt stability | |
CA2927426C (en) | Polyarylene sulfide resin powder/grain composition and method for producing same | |
JP2010510953A (ja) | 高い比表面積を有する透明な硫化亜鉛 | |
JP2020506147A (ja) | 優れた分散性を有するアルミノシリケートナノ粒子の製造方法、前記アルミノシリケートナノ粒子を含むゴム補強材およびこれを含むタイヤ用ゴム組成物 | |
JP2009527444A (ja) | 酸化アルミニウム含有分散液 | |
JP2000351847A (ja) | ゴム粉末ならびに微粉状充填剤含有ゴムおよび加硫性ゴム混合物の製造法 | |
TW541284B (en) | Inhomogeneous silicas for elastomer compounds | |
JP2007197655A (ja) | 微小粒子含有組成物及びその製造方法 | |
JP2019210166A (ja) | 低ソーダα−アルミナ粉体及びその製造方法 | |
JP3998792B2 (ja) | 含水ケイ酸及びその製造方法 | |
JP2016073919A (ja) | 粉粒体の製造方法 | |
TWI516448B (zh) | Preparation of needle - like strontium carbonate particles | |
JP3888728B2 (ja) | 高純度球状シリカの製造法 |