JP2011245787A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011245787A5 JP2011245787A5 JP2010122658A JP2010122658A JP2011245787A5 JP 2011245787 A5 JP2011245787 A5 JP 2011245787A5 JP 2010122658 A JP2010122658 A JP 2010122658A JP 2010122658 A JP2010122658 A JP 2010122658A JP 2011245787 A5 JP2011245787 A5 JP 2011245787A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask blank
- manufacturing
- main surface
- small hole
- side wall
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 65
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 21
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 15
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 claims description 9
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 6
- 238000009499 grossing Methods 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N azane;chromium Chemical compound N.[Cr] SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N chromium carbide Chemical compound [Cr]#C[Cr]C#[Cr] UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 239000011553 magnetic fluid Substances 0.000 claims description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 229910003470 tongbaite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010122658A JP5597444B2 (ja) | 2010-05-28 | 2010-05-28 | マスクブランク用基板の製造方法、インプリントモールド用マスクブランクの製造方法、及びインプリントモールドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010122658A JP5597444B2 (ja) | 2010-05-28 | 2010-05-28 | マスクブランク用基板の製造方法、インプリントモールド用マスクブランクの製造方法、及びインプリントモールドの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011245787A JP2011245787A (ja) | 2011-12-08 |
| JP2011245787A5 true JP2011245787A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2013-05-30 |
| JP5597444B2 JP5597444B2 (ja) | 2014-10-01 |
Family
ID=45411648
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010122658A Expired - Fee Related JP5597444B2 (ja) | 2010-05-28 | 2010-05-28 | マスクブランク用基板の製造方法、インプリントモールド用マスクブランクの製造方法、及びインプリントモールドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5597444B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5935453B2 (ja) * | 2012-03-30 | 2016-06-15 | 大日本印刷株式会社 | 基板の製造方法、および、ナノインプリントリソグラフィ用テンプレートの製造方法 |
| JP6019685B2 (ja) * | 2012-04-10 | 2016-11-02 | 大日本印刷株式会社 | ナノインプリント方法及びナノインプリント装置 |
| JP6028413B2 (ja) * | 2012-06-27 | 2016-11-16 | 大日本印刷株式会社 | ナノインプリント用テンプレートの製造方法及びテンプレート |
| JP6252098B2 (ja) * | 2012-11-01 | 2017-12-27 | 信越化学工業株式会社 | 角形金型用基板 |
| JP6089918B2 (ja) * | 2013-04-19 | 2017-03-08 | 大日本印刷株式会社 | インプリントモールドの製造方法および基材 |
| JP6055732B2 (ja) * | 2013-07-26 | 2016-12-27 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板、マスクブランク、およびそれらの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法 |
| JP6277663B2 (ja) * | 2013-10-18 | 2018-02-14 | 大日本印刷株式会社 | インプリント用基板の製造方法 |
| JP6377480B2 (ja) * | 2014-09-30 | 2018-08-22 | Hoya株式会社 | 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びインプリントモールドの製造方法 |
| JP6384537B2 (ja) * | 2016-10-18 | 2018-09-05 | 大日本印刷株式会社 | ナノインプリント用テンプレート |
| JP6319474B2 (ja) * | 2017-02-07 | 2018-05-09 | 大日本印刷株式会社 | インプリントモールド |
| JP7263885B2 (ja) * | 2019-03-29 | 2023-04-25 | 大日本印刷株式会社 | 被加工基板及びインプリント方法 |
| CN112349582B (zh) * | 2019-08-08 | 2024-09-06 | 东莞新科技术研究开发有限公司 | 一种减少内应力的晶圆切割方法 |
| JP2019201224A (ja) * | 2019-08-19 | 2019-11-21 | 大日本印刷株式会社 | インプリントモールド用基材及びインプリントモールド |
| US12109734B2 (en) | 2020-09-24 | 2024-10-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Manufacturing of imprint mold-forming substrate |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004029735A (ja) * | 2002-03-29 | 2004-01-29 | Hoya Corp | 電子デバイス用基板、該基板を用いたマスクブランクおよび転写用マスク、並びにこれらの製造方法、研磨装置および研磨方法 |
| JP5092262B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2012-12-05 | ぺんてる株式会社 | 金型キャビティーの形成方法 |
| JP2009170773A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Toppan Printing Co Ltd | インプリントモールドおよびインプリント装置 |
| JP5221168B2 (ja) * | 2008-02-28 | 2013-06-26 | Ｈｏｙａ株式会社 | インプリントモールド用マスクブランク及びインプリントモールドの製造方法 |
| JP5515516B2 (ja) * | 2009-08-27 | 2014-06-11 | 大日本印刷株式会社 | ナノインプリント方法、パターン形成体、及びナノインプリント装置 |
| JP2011224925A (ja) * | 2010-04-22 | 2011-11-10 | Disco Corp | 凹凸構造を形成するための治具 |
-
2010
- 2010-05-28 JP JP2010122658A patent/JP5597444B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2011245787A5 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
| JP5587672B2 (ja) | マスクブランク用基板の製造方法、インプリントモールド用マスクブランクの製造方法、及びインプリントモールドの製造方法 | |
| JP5597444B2 (ja) | マスクブランク用基板の製造方法、インプリントモールド用マスクブランクの製造方法、及びインプリントモールドの製造方法 | |
| JP2011245816A5 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
| JP6398902B2 (ja) | インプリント・リソグラフィ用角形基板及びその製造方法 | |
| JP6496739B2 (ja) | 堆積保持力を増大させるための表面テクスチャリングのための形状寸法およびパターン | |
| CN101025445A (zh) | 微透镜用模具的制造方法 | |
| TWI646598B (zh) | Microscopic three-dimensional structure forming method and microscopic three-dimensional structure | |
| JP6805834B2 (ja) | インプリントモールド | |
| JP2017175056A (ja) | インプリントモールド用基板、マスクブランク、インプリントモールド用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及びインプリントモールドの製造方法 | |
| JP2011088340A (ja) | テンプレート及びパターン形成方法 | |
| JP2008221516A (ja) | 基板の加工方法、インプリントモールド及びその製造方法 | |
| WO2017006447A1 (ja) | 段差付ウエハおよびその製造方法 | |
| JP5677876B2 (ja) | 成形型の製造方法 | |
| JP5906963B2 (ja) | パターン構造体の製造方法およびパターン形成用基材 | |
| CN104867826A (zh) | 一种避免硅片边缘薄膜剥离的方法 | |
| JP2007133153A (ja) | マイクロレンズ用型の製造方法 | |
| JP5200726B2 (ja) | インプリント方法、プレインプリントモールド、プレインプリントモールド製造方法、インプリント装置 | |
| JP2014179630A (ja) | インプリントモールドの製造方法 | |
| JP4789971B2 (ja) | 金型およびその製造方法 | |
| JP2016002665A (ja) | モールド製造用構造体の製造方法、およびモールドの製造方法 | |
| WO2011125099A1 (ja) | スタンパ製造用原盤 | |
| KR101410916B1 (ko) | 양각 금형 가공 방법 | |
| JP7192409B2 (ja) | インプリントモールド用基板及びインプリントモールド、並びにそれらの製造方法 | |
| JP2007313814A (ja) | モールドおよびその製造方法 |