JP2011239324A - 音響センサ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】音圧に感応するダイアフラム33が、プレート部39と固定電極膜40からなるバックプレート34に対向し、静電容量型の音響センサ31を構成する。バックプレート34には、振動を通過させるためのアコースティックホール38が開口し、またダイアフラム33と対向する面には複数のストッパ42a、42bが突設している。バックプレート34の外周エリアに設けたストッパ42bは直径が小さく、内部エリアに設けたストッパ42aは直径が大きくなっている。
【選択図】図4
Description
図3−図7を参照して本発明の実施形態1による音響センサ31の構造を説明する。図3は実施形態1の音響センサ31を示す平面図である。図4は、音響センサ31の断面図である。また、図5は、バックプレート14の下面図である。図6は、音響センサ31からバックプレート14を取り除いた状態の平面図である。図7は、アコースティックホール38を省略してストッパ42a、42bだけを表したバックプレート14の下面図である。
図11は本発明の実施形態2による音響センサ61を示す概略断面図である。実施形態1の音響センサ31では、直径の異なる2種類のストッパ42a、42bをバックプレート34の下面に設けていたが、直径の異なる3種類以上のストッパを設けてもよい。
図12は本発明の実施形態3による音響センサ62を示す概略断面図である。実施形態1の音響センサ31では、バックプレート34にストッパ42a、42bを設けていたが、実施形態3の音響センサ62においては、ダイアフラム33の上面にストッパ42a、42bを設けている。この音響センサ62でも、ダイアフラム33の上面において、外周エリアには直径が小さなストッパ42bを設け、内部エリアには直径が大きなストッパ42aを設けている。その結果、この音響センサ62でも、音響センサ62の耐衝撃性を向上させると同時に、ダイアフラム33のスティックを防止することができる。なお、図12においては、ストッパ42a、42bの先端面と対向する箇所で固定電極膜40に孔を設けているが、これはダイアフラム33の上面と固定電極膜40とが電気的に短絡するのを防止するために設けられている。なお、固定電極膜40やダイアフラム33の表面に非導電性材料が付与されている場合には、この孔は無くてもよい。
図13は本発明の実施形態4による音響センサ63を示す概略断面図である。この音響センサ63では、シリコン基板32の上面にバックプレート34を設け、バックプレート34に対向させてバックプレート34の上にダイアフラム33を設けている。バックプレート34は、プレート部39の上面に固定電極膜40を形成されており、スペーサ55によってシリコン基板32の上面に固定されている。ダイアフラム33は、シリコン基板32に固定された支持部54によって支持されている。ストッパ42a、42bは、バックプレート34の上面から突出しており、バックプレート34の内部エリアには直径の大きなストッパ42aが配列して、外周エリアには直径の小さな42bが配列している。
図14は本発明の実施形態5による音響センサ64を示す概略断面図である。この実施形態は、実施形態4と同様なダイアフラム33及びバックプレート34の構成を有している。実施形態4と異なる点は、ストッパ42a、42bをダイアフラム33の下面に設けた点である。
図15は本発明の実施形態6による音響センサ65を示す概略断面図である。この音響センサ65では、ベンチレーションホール57内においてダイアフラム33の下面に凸部56a、56bを設けている。外周エリアに設けた凸部56bは、内周エリアに設けた凸部56aよりも直径が小さくなっている。
図16は本発明の実施形態7による音響センサ66を示す平面図である。図17は、プレート部39を取り除いて固定電極膜40とダイアフラム33を示した平面図である。図18は、音響センサ66におけるストッパ42a、42bの配置を示したバックプレート34の下面図であって、一部を拡大して示す。
32 シリコン基板
33 ダイアフラム
34 バックプレート
38 アコースティックホール
39 プレート部
40 固定電極膜
42a、42b、42c、42d、42e ストッパ
54 支持部
55 スペーサ
56a、56b 凸部
Claims (7)
- 半導体基板の上方に配設された固定膜と前記固定膜に設けた固定電極膜からなるバックプレート、および、
前記バックプレートと空隙を介して対向するようにして、前記半導体基板の上方に配設された振動電極膜を備え、
音響振動を前記振動電極膜と前記固定電極膜の間の静電容量の変化に変換する音響センサにおいて、
前記バックプレート又は前記振動電極膜の少なくとも一方の前記空隙側の面に複数の突起を設け、
前記バックプレート又は前記振動電極膜の少なくとも一方における突起形成領域に応じて前記突起の断面積を異ならせたことを特徴とする音響センサ。 - 断面積の異なる3種類以上の前記突起を有し、
前記突起は、前記バックプレート又は前記振動電極膜の少なくとも一方の中心から外周側へ向けて順次断面積が小さくなっていることを特徴とする、請求項1に記載の音響センサ。 - 前記バックプレート又は前記振動電極膜のの少なくとも一方の外周エリアに、比較的断面積の小さな前記突起を設け、前記バックプレート又は前記振動電極膜の少なくとも一方の内部エリアに、比較的断面積の大きな前記突起を設けたことを特徴とする、請求項1に記載の音響センサ。
- 比較的断面積の小さな前記突起を設けた前記外周エリアの幅が、前記バックプレート又は前記振動電極膜の幅の1/4以下であることを特徴とする、請求項3に記載の音響センサ。
- 前記半導体基板はその上面から下方へ向けて空洞部を形成され、前記振動電極膜が前記半導体基板の上面に配設され、前記バックプレートが前記振動電極膜を覆うようにして前記半導体基板の上面に固定され、前記バックプレートに複数のアコースティックホールが開口されていることを特徴とする、請求項1に記載の音響センサ。
- 前記振動電極膜の下面のうち前記半導体基板の上面と対向する領域に複数の凸部が設けられ、前記領域の外周部に設けた前記凸部の断面積が、前記領域の内周部に設けた前記凸部の断面積よりも小さいことを特徴とする、請求項1に記載の音響センサ
- 前記バックプレートが前記半導体基板の上面に固定され、前記振動電極膜が前記バックプレートの上方に配設されていることを特徴とする、請求項1に記載の音響センサ。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020110034737A KR101202102B1 (ko) | 2010-05-13 | 2011-04-14 | 음향 센서 |
CN201110120750.9A CN102325294B (zh) | 2010-05-13 | 2011-05-11 | 声音传感器 |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010110946A JP5402823B2 (ja) | 2010-05-13 | 2010-05-13 | 音響センサ |
Publications (2)
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JP2011239324A true JP2011239324A (ja) | 2011-11-24 |
JP5402823B2 JP5402823B2 (ja) | 2014-01-29 |
Family
ID=44504361
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2010110946A Expired - Fee Related JP5402823B2 (ja) | 2010-05-13 | 2010-05-13 | 音響センサ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8541852B2 (ja) |
EP (1) | EP2386840B1 (ja) |
JP (1) | JP5402823B2 (ja) |
KR (1) | KR101202102B1 (ja) |
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US9723423B2 (en) | 2014-03-14 | 2017-08-01 | Omron Corporation | Acoustic transducer |
WO2018008181A1 (ja) * | 2016-07-08 | 2018-01-11 | オムロン株式会社 | Mems構造及び、mems構造を有する静電容量型センサ、圧電型センサ、音響センサ |
JP2018007199A (ja) * | 2016-07-08 | 2018-01-11 | オムロン株式会社 | Mems構造及び、mems構造を有する静電容量型センサ、圧電型センサ、音響センサ |
US11064299B2 (en) | 2016-07-08 | 2021-07-13 | Omron Corporation | MEMS structure, capacitive sensor, piezoelectric sensor, acoustic sensor having mems structure |
JP2018098615A (ja) * | 2016-12-12 | 2018-06-21 | オムロン株式会社 | 音響センサ及び静電容量型トランスデューサ |
JP2019518341A (ja) * | 2017-05-15 | 2019-06-27 | ゴルテック インコーポレイテッド | Memsマイクロホン |
JP2021015899A (ja) * | 2019-07-12 | 2021-02-12 | 新日本無線株式会社 | 圧電素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110278684A1 (en) | 2011-11-17 |
EP2386840A3 (en) | 2017-03-22 |
CN102325294B (zh) | 2014-07-09 |
EP2386840B1 (en) | 2020-04-01 |
KR101202102B1 (ko) | 2012-11-16 |
EP2386840A2 (en) | 2011-11-16 |
JP5402823B2 (ja) | 2014-01-29 |
KR20110125584A (ko) | 2011-11-21 |
US8541852B2 (en) | 2013-09-24 |
CN102325294A (zh) | 2012-01-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130920 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees | ||
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