JP2011216662A5 - - Google Patents
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Description
このドループを補正する方法として、例えば、特許文献２に記載されているようなものがある。特許文献２の段落００３８などには、「発熱量は、レーザ発光の有無よりも、流す電流に依存する傾向が大きいので、バイアス電流を流し続けている場合には、光量は、発光区間がとぎれとぎれであっても、同じような包絡線を描いて減少する」と記載されており、特許文献２に記載の発明では、この思想に基づいた補正が行われている。
Claims (13)
- 補正電流の時間変化を与える第１時定数回路と、補正電流の初期値に相当する各パルス開始時の最大電流量を与える第２時定数回路とを含んで構成された第１ＲＣ時定数回路を備え、面発光型の半導体レーザをパルス駆動する電流源から出力された電流パルスの波形を、前記第１ＲＣ時定数回路を用いて前記半導体レーザの光出力のパルス波形が矩形に近づくように補正する
補正回路。 - 前記電流パルスの波形を、前記電流パルスの波高値が前記第１ＲＣ時定数回路のＲＣ時定数に応じて経時的に飽和するように補正する
請求項１に記載の補正回路。 - 前記第１時定数回路および前記第２時定数回路のＲＣ時定数は、１μｓｅｃ以上３μｓｅｃ以下の範囲内の値となっている
請求項１または請求項２に記載の補正回路。 - 前記半導体レーザは、一対の多層膜反射鏡で活性層を挟み込んだ垂直共振器構造を有し、
当該補正回路は、前記電流パルスの波形を、前記電流パルスの波高値が前記活性層の温度変動に対応して変動するように補正する
請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の補正回路。 - 当該補正回路は、前記最大電流量を、前記半導体レーザの周囲温度、駆動電流および温度変動に応じて変化させる
請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の補正回路。 - 前記電流パルスの波高値を経時的に減衰させる複数の第３時定数回路を含む第２ＲＣ時定数回路を備え、前記電流源から出力された電流パルスの波形を、前記第１ＲＣ時定数回路および前記第２ＲＣ時定数回路を用いて前記半導体レーザの光出力のパルス波形が矩形に近づくように補正する
請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載の補正回路。 - 各第３時定数回路のＲＣ時定数は、互いに異なっており、
前記複数の第３時定数回路のうち少なくとも１つの時定数回路である第４時定数回路のＲＣ時定数は、２０ｎｓｅｃ以上５０ｎｓｅｃ以下の範囲内の値となっており、
前記複数の第３時定数回路のうち前記第４時定数回路以外の時定数回路である１または複数の第５時定数回路のＲＣ時定数は、５０ｎｓｅｃを超える値となっている
請求項６に記載の補正回路。 - 前記第２ＲＣ時定数回路は、前記電流パルスの波高値のピークを調整する複数の第６時定数回路を含み、
各第６時定数回路のＲＣ時定数は、互いに異なっており、
前記複数の第６時定数回路のうち少なくとも１つの時定数回路である第７時定数回路のＲＣ時定数は、２０ｎｓｅｃ以上５０ｎｓｅｃ以下の範囲内の値となっており、
前記複数の第６時定数回路のうち前記第７時定数回路以外の時定数回路である１または複数の第８時定数回路のＲＣ時定数は、５０ｎｓｅｃを超える値となっている
請求項７に記載の補正回路。 - 前記活性層は、ＧａＩｎＰまたはＡｌＧａＩｎＰを含み、
前記活性層の発光波長と前記垂直共振器構造の発振波長との差分である波長デチューニングが、１５ｎｍ以上となっている
請求項１ないし請求項８のいずれか一項に記載の補正回路。 - 前記活性層は、ＧａＡｓまたはＡｌＧａＡｓを含み、
前記活性層の発光波長と前記垂直共振器構造の発振波長との差分である波長デチューニングが、１３ｎｍ以上となっている
請求項１ないし請求項８のいずれか一項に記載の補正回路。 - 面発光型の半導体レーザをパルス駆動する電流源と、
補正電流の時間変化を与える第１時定数回路と、補正電流の初期値に相当する各パルス開始時の最大電流量を与える第２時定数回路とを含んで構成された第１ＲＣ時定数回路を有し、面発光型の半導体レーザをパルス駆動する電流源から出力された電流パルスの波形を、前記第１ＲＣ時定数回路を用いて前記半導体レーザの光出力のパルス波形が矩形に近づくように補正する補正回路と
を備えた駆動回路。 - １または複数の面発光型の半導体レーザと、
前記半導体レーザをパルス駆動する電流源と、
補正電流の時間変化を与える第１時定数回路と、補正電流の初期値に相当する各パルス開始時の最大電流量を与える第２時定数回路とを含んで構成された第１ＲＣ時定数回路を有し、面発光型の半導体レーザをパルス駆動する電流源から出力された電流パルスの波形を、前記第１ＲＣ時定数回路を用いて前記半導体レーザの光出力のパルス波形が矩形に近づくように補正する補正回路と
を備えた発光装置。 - 面発光型の半導体レーザをパルス駆動する電流源から出力された電流パルスの波形を、補正電流の時間変化を与える第１時定数回路と、補正電流の初期値に相当する各パルス開始時の最大電流量を与える第２時定数回路とを含んで構成された第１ＲＣ時定数回路を含む補正回路を用いて、前記半導体レーザの光出力のパルス波形が矩形に近づくように補正する
電流パルス波形の補正方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010083267A JP5651983B2 (ja) | 2010-03-31 | 2010-03-31 | 補正回路、駆動回路、発光装置、および電流パルス波形の補正方法 |
| US12/929,677 US8829813B2 (en) | 2010-03-31 | 2011-02-08 | Correction circuit, drive circuit, light-emitting device and correction method of current pulse waveform |
| KR1020110024286A KR101691672B1 (ko) | 2010-03-31 | 2011-03-18 | 보정 회로, 구동 회로, 발광 장치, 및 전류 펄스 파형의 보정 방법 |
| CN201110071814.0A CN102208907B (zh) | 2010-03-31 | 2011-03-24 | 校正电路、驱动电路、发光器件和电流脉冲波形的校正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010083267A JP5651983B2 (ja) | 2010-03-31 | 2010-03-31 | 補正回路、駆動回路、発光装置、および電流パルス波形の補正方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011216662A JP2011216662A (ja) | 2011-10-27 |
| JP2011216662A5 true JP2011216662A5 (ja) | 2013-04-25 |
| JP5651983B2 JP5651983B2 (ja) | 2015-01-14 |
Family
ID=44697592
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010083267A Active JP5651983B2 (ja) | 2010-03-31 | 2010-03-31 | 補正回路、駆動回路、発光装置、および電流パルス波形の補正方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8829813B2 (ja) |
| JP (1) | JP5651983B2 (ja) |
| KR (1) | KR101691672B1 (ja) |
| CN (1) | CN102208907B (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5659476B2 (ja) * | 2009-09-25 | 2015-01-28 | ソニー株式会社 | 補正回路、駆動回路および発光装置 |
| JP5949411B2 (ja) * | 2012-10-04 | 2016-07-06 | ソニー株式会社 | 補正回路、駆動回路、発光装置、および電流パルス波形の補正方法 |
| JP5855058B2 (ja) * | 2012-10-29 | 2016-02-09 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
| JP6335643B2 (ja) * | 2014-05-23 | 2018-05-30 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
| WO2016096647A1 (en) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | Koninklijke Philips N.V. | Laser sensor module |
| JP6561006B2 (ja) | 2016-03-29 | 2019-08-14 | 株式会社日立エルジーデータストレージ | 映像表示装置 |
| WO2018096949A1 (ja) * | 2016-11-28 | 2018-05-31 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 駆動装置および発光装置 |
| JP6616368B2 (ja) * | 2017-09-14 | 2019-12-04 | ファナック株式会社 | レーザ加工前に光学系の汚染レベルに応じて加工条件を補正するレーザ加工装置 |
| DE112019005741T5 (de) | 2018-11-16 | 2021-07-29 | Sony Semiconductor Solutions Corporation | Verfahren zur ansteuerung eines oberflächenemissionslasers undoberflächenemissionslaservorrichtung |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0626421B2 (ja) * | 1987-02-25 | 1994-04-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 半導体レ−ザのドル−プ補正装置 |
| JP2642121B2 (ja) * | 1988-02-10 | 1997-08-20 | 株式会社リコー | 半導体レーザー出力制御装置 |
| JP2917333B2 (ja) * | 1989-11-30 | 1999-07-12 | 日本電気株式会社 | 光送信方法及び光送信装置 |
| US5065401A (en) * | 1991-02-26 | 1991-11-12 | Spectra Diode Laboratories, Inc. | Pulse jitter reduction method for a laser diode or array |
| JP2000138415A (ja) * | 1998-11-02 | 2000-05-16 | Fujikura Ltd | 半導体レーザ駆動回路 |
| DE10063707A1 (de) * | 2000-12-20 | 2002-07-04 | Heidelberger Druckmasch Ag | Verfahren zur thermischen Stabilisierung einer Laserdiode in einem Recorder |
| JP2002237650A (ja) * | 2001-02-09 | 2002-08-23 | Canon Inc | 発光素子光量制御方式、発光素子光量制御装置およびそれを用いた画像記録装置 |
| CN101180778A (zh) * | 2005-03-30 | 2008-05-14 | 诺瓦光电技术公司 | 稳频竖直扩展腔表面发射激光器 |
| JP4495052B2 (ja) * | 2005-08-26 | 2010-06-30 | 古河電気工業株式会社 | 面発光レーザ素子、光送信モジュール、光コネクタおよび光通信システム |
| JP5016853B2 (ja) * | 2006-06-09 | 2012-09-05 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置及びレーザ光量補正方法 |
| JP5083867B2 (ja) * | 2007-03-02 | 2012-11-28 | 株式会社リコー | 光源駆動装置、光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2008306118A (ja) | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Sony Corp | 面発光型半導体レーザ |
| JP5058939B2 (ja) * | 2007-11-27 | 2012-10-24 | キヤノン株式会社 | 面発光レーザ、該面発光レーザによって構成される光学機器 |
| CN101482911A (zh) * | 2009-01-22 | 2009-07-15 | 中国科学院等离子体物理研究所 | 可变积分时间常数的积分器 |
| JP5659476B2 (ja) * | 2009-09-25 | 2015-01-28 | ソニー株式会社 | 補正回路、駆動回路および発光装置 |
-
2010
- 2010-03-31 JP JP2010083267A patent/JP5651983B2/ja active Active
-
2011
- 2011-02-08 US US12/929,677 patent/US8829813B2/en active Active
- 2011-03-18 KR KR1020110024286A patent/KR101691672B1/ko active IP Right Grant
- 2011-03-24 CN CN201110071814.0A patent/CN102208907B/zh active Active
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