JP2011215440A5 - - Google Patents

Description

本発明の一側面としての反射防止構造は、基板上に配置され該基板から離れるに従って屈折率が低くなる第１の層と、該第１の層の上に配置され屈折率が一様な第２の層と、を有し、
前記第２の層の屈折率をｎａ、前記第１の層の前記第２の層側の有効屈折率をｎｂ、とするとき、
ｎｂ−ｎａ＞０．１０
なる条件を満足することを特徴とする。

Claims (16)

1. 基板上に配置され該基板から離れるに従って屈折率が低くなる第１の層と、該第１の層の上に配置され屈折率が一様な第２の層と、を有し、
   前記第２の層の屈折率をｎａ、前記第１の層の前記第２の層側の有効屈折率をｎｂ、とするとき、
   ｎｂ−ｎａ＞０．１０
   なる条件を満足することを特徴とする反射防止構造。
2. １．１０＜ｎａ＜１．３５
   なる条件を満足することを特徴とする請求項１に記載の反射防止構造。
3. 前記基板の屈折率をｎｓ、前記第１の層の前記基板側の有効屈折率をｎｃ、とするとき、
   ｜ｎｓ−ｎｃ｜＜０．１０
   なる条件を満足することを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止構造。
4. 前記基板と前記第１の層との間に配置され屈折率が一様な第３の層を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止構造。
5. 前記第１の層は、入射光の波長以下の微細な凹凸形状から成るベース層と、該ベース層よりも低い屈折率を有し前記ベース層に充填される第１の媒質と、を含み、前記第１の層における前記第１の媒質の充填率は、前記基板から離れるに従って高くなることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の反射防止構造。
6. 前記ベース層は、前記基板と同じ媒質であることを特徴とする請求項５に記載の反射防止構造。
7. 前記第１の媒質は、前記第２の層と同じ媒質であることを特徴とする請求項５又は６に記載の反射防止構造。
8. 前記第２の層は、多孔質層であることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の反射防止構造。
9. 前記第２の層は、シリカもしくはフッ化マグネシウムを含むことを特徴とする請求項８に記載の反射防止構造。
10. 前記第２の層は、メソポーラス層であることを特徴とする請求項８に記載の反射防止構造。
11. 前記第２の層の厚さをＤａ、λｏ＝５５０ｎｍ、とするとき、
    ０．１＜ｎａ・Ｄａ／λｏ＜０．５
    なる条件を満足することを特徴とする請求項１から１０のいずれか一項に記載の反射防止構造。
12. ｎｂ−ｎａ＞０．１７
    なる条件を満足することを特徴とする請求項１から１１のいずれか一項に記載の反射防止構造。
13. 前記第１の層と前記第２の層との間に界面を有することを特徴とする請求項１から１２のいずれか一項に記載の反射防止構造。
14. 前記界面での反射光と、前記第２の層と空気との界面での反射光と、が互いに干渉して打ち消し合うことを特徴とする請求項１３に記載の反射防止構造。
15. 前記基板と請求項１から１４のいずれか一項に記載の反射防止構造とを有することを特徴とする光学素子。
16. 請求項１５に記載の光学素子と撮像素子とを備えることを特徴とする光学機器。