JP2011215197A - フォトマスク及びその製造方法 - Google Patents

フォトマスク及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2011215197A
JP2011215197A JP2010080506A JP2010080506A JP2011215197A JP 2011215197 A JP2011215197 A JP 2011215197A JP 2010080506 A JP2010080506 A JP 2010080506A JP 2010080506 A JP2010080506 A JP 2010080506A JP 2011215197 A JP2011215197 A JP 2011215197A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
film
semi
light
photomask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010080506A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2011215197A5 (https=
Inventor
Koichiro Yoshida
光一郎 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoya Corp filed Critical Hoya Corp
Priority to JP2010080506A priority Critical patent/JP2011215197A/ja
Priority to TW100110215A priority patent/TW201202839A/zh
Priority to KR1020110028708A priority patent/KR101375006B1/ko
Priority to CN2011100803406A priority patent/CN102207675A/zh
Publication of JP2011215197A publication Critical patent/JP2011215197A/ja
Publication of JP2011215197A5 publication Critical patent/JP2011215197A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/80—Etching
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
    • G03F7/2059—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a scanning corpuscular radiation beam, e.g. an electron beam
    • G03F7/2063—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a scanning corpuscular radiation beam, e.g. an electron beam for the production of exposure masks or reticles
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P76/00—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography
    • H10P76/20—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography of masks comprising organic materials
    • H10P76/204—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography of masks comprising organic materials of organic photoresist masks
    • H10P76/2041—Photolithographic processes
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P76/00—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography
    • H10P76/40—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography of masks comprising inorganic materials
    • H10P76/408—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography of masks comprising inorganic materials characterised by their sizes, orientations, dispositions, behaviours or shapes
    • H10P76/4085—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography of masks comprising inorganic materials characterised by their sizes, orientations, dispositions, behaviours or shapes characterised by the processes involved to create the masks

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
JP2010080506A 2010-03-31 2010-03-31 フォトマスク及びその製造方法 Pending JP2011215197A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010080506A JP2011215197A (ja) 2010-03-31 2010-03-31 フォトマスク及びその製造方法
TW100110215A TW201202839A (en) 2010-03-31 2011-03-24 Photomask and method of manufacturing the same
KR1020110028708A KR101375006B1 (ko) 2010-03-31 2011-03-30 포토마스크 및 그 제조 방법
CN2011100803406A CN102207675A (zh) 2010-03-31 2011-03-31 光掩模及其制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010080506A JP2011215197A (ja) 2010-03-31 2010-03-31 フォトマスク及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011215197A true JP2011215197A (ja) 2011-10-27
JP2011215197A5 JP2011215197A5 (https=) 2013-04-04

Family

ID=44696580

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010080506A Pending JP2011215197A (ja) 2010-03-31 2010-03-31 フォトマスク及びその製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2011215197A (https=)
KR (1) KR101375006B1 (https=)
CN (1) CN102207675A (https=)
TW (1) TW201202839A (https=)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013235037A (ja) * 2012-05-02 2013-11-21 Hoya Corp フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法
JP2018045016A (ja) * 2016-09-13 2018-03-22 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法
JP2019510253A (ja) * 2016-03-31 2019-04-11 インテル・コーポレーション 高分解能のフォトマスク又はレチクル及びその製造方法

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101624436B1 (ko) * 2011-12-21 2016-05-25 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 대형 위상 시프트 마스크 및 대형 위상 시프트 마스크의 제조 방법
JP6081716B2 (ja) * 2012-05-02 2017-02-15 Hoya株式会社 フォトマスク、パターン転写方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法
KR101282040B1 (ko) * 2012-07-26 2013-07-04 주식회사 에스앤에스텍 플랫 패널 디스플레이용 위상반전 블랭크 마스크 및 포토 마스크
CN103969943A (zh) * 2013-01-25 2014-08-06 北京京东方光电科技有限公司 一种对基板进行标记的方法
JP5686216B1 (ja) * 2013-08-20 2015-03-18 大日本印刷株式会社 マスクブランクス、位相シフトマスク及びその製造方法
JP6522277B2 (ja) * 2013-11-19 2019-05-29 Hoya株式会社 フォトマスク、フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法
JP6282847B2 (ja) * 2013-11-19 2018-02-21 Hoya株式会社 フォトマスク及び該フォトマスクを用いた基板の製造方法
JP6767735B2 (ja) * 2015-06-30 2020-10-14 Hoya株式会社 フォトマスク、フォトマスクの設計方法、フォトマスクブランク、および表示装置の製造方法
JP6726553B2 (ja) * 2015-09-26 2020-07-22 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
KR102096269B1 (ko) * 2016-03-31 2020-04-03 주식회사 엘지화학 포토 마스크 및 이를 이용한 컬러필터용 컬럼 스페이서의 제조방법
JP6514143B2 (ja) * 2016-05-18 2019-05-15 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法
CN108563098A (zh) * 2018-01-17 2018-09-21 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版及其制备方法
TWI710850B (zh) * 2018-03-23 2020-11-21 日商Ｈｏｙａ股份有限公司 光罩、光罩基底、光罩之製造方法、及電子元件之製造方法
KR102179729B1 (ko) 2018-03-27 2020-11-17 주식회사 엘지화학 블랙 격벽 패턴 필름 및 이의 제조방법

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08334885A (ja) * 1995-06-02 1996-12-17 Toppan Printing Co Ltd ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法
JPH09106064A (ja) * 1995-09-13 1997-04-22 Samsung Electron Co Ltd ハーフトーン位相反転マスクの製造方法
JP2007133098A (ja) * 2005-11-09 2007-05-31 Ulvac Seimaku Kk グレートーンマスク及びその製造方法
JP2009042753A (ja) * 2007-07-19 2009-02-26 Hoya Corp フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法
JP2009058606A (ja) * 2007-08-30 2009-03-19 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ及びその製造方法とフォトマスク及び液晶表示装置
JP2009063638A (ja) * 2007-09-04 2009-03-26 Fujitsu Microelectronics Ltd フォトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法
JP2009080510A (ja) * 2003-04-09 2009-04-16 Hoya Corp フォトマスクの製造方法およびフォトマスクブランク
JP2009227365A (ja) * 2008-03-19 2009-10-08 Hidaka Seiki Kk テンション付与装置及び熱交換器用フィンの製造装置
JP2009237419A (ja) * 2008-03-28 2009-10-15 Hoya Corp 多階調フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法
JP2009265620A (ja) * 2008-04-02 2009-11-12 Hoya Corp 位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法
JP2010117627A (ja) * 2008-11-14 2010-05-27 Dainippon Printing Co Ltd フォトマスクブランクスおよびその製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3630929B2 (ja) * 1997-07-18 2005-03-23 Ｈｏｙａ株式会社 ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法
JP3037941B2 (ja) * 1997-12-19 2000-05-08 ホーヤ株式会社 ハーフトーン型位相シフトマスク及びハーフトーン型位相シフトマスクブランク
US6037083A (en) * 1998-12-22 2000-03-14 Hoya Corporation Halftone phase shift mask blanks, halftone phase shift masks, and fine pattern forming method
JP4587837B2 (ja) * 2005-02-18 2010-11-24 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク
KR20070083191A (ko) * 2006-02-20 2007-08-23 호야 가부시키가이샤 포토마스크의 결함 검사방법 및 포토마스크
JP4809752B2 (ja) 2006-11-01 2011-11-09 株式会社エスケーエレクトロニクス 中間調フォトマスク及びその製造方法
JP5064116B2 (ja) * 2007-05-30 2012-10-31 Ｈｏｙａ株式会社 フォトマスクの検査方法、フォトマスクの製造方法及び電子部品の製造方法
TWI431408B (zh) * 2007-07-23 2014-03-21 Hoya Corp 光罩資訊之取得方法、光罩之品質顯示方法、顯示裝置之製造方法以及光罩製品
JP5254581B2 (ja) * 2007-08-22 2013-08-07 Ｈｏｙａ株式会社 フォトマスク及びフォトマスクの製造方法
JP4934236B2 (ja) * 2007-09-29 2012-05-16 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスクブランク、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法
JP4849276B2 (ja) * 2008-08-15 2012-01-11 信越化学工業株式会社 グレートーンマスクブランク、グレートーンマスク、及び製品加工標識又は製品情報標識の形成方法

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08334885A (ja) * 1995-06-02 1996-12-17 Toppan Printing Co Ltd ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法
JPH09106064A (ja) * 1995-09-13 1997-04-22 Samsung Electron Co Ltd ハーフトーン位相反転マスクの製造方法
JP2009080510A (ja) * 2003-04-09 2009-04-16 Hoya Corp フォトマスクの製造方法およびフォトマスクブランク
JP2007133098A (ja) * 2005-11-09 2007-05-31 Ulvac Seimaku Kk グレートーンマスク及びその製造方法
JP2009042753A (ja) * 2007-07-19 2009-02-26 Hoya Corp フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法
JP2009058606A (ja) * 2007-08-30 2009-03-19 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ及びその製造方法とフォトマスク及び液晶表示装置
JP2009063638A (ja) * 2007-09-04 2009-03-26 Fujitsu Microelectronics Ltd フォトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法
JP2009227365A (ja) * 2008-03-19 2009-10-08 Hidaka Seiki Kk テンション付与装置及び熱交換器用フィンの製造装置
JP2009237419A (ja) * 2008-03-28 2009-10-15 Hoya Corp 多階調フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法
JP2009265620A (ja) * 2008-04-02 2009-11-12 Hoya Corp 位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法
JP2010117627A (ja) * 2008-11-14 2010-05-27 Dainippon Printing Co Ltd フォトマスクブランクスおよびその製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013235037A (ja) * 2012-05-02 2013-11-21 Hoya Corp フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法
JP2019510253A (ja) * 2016-03-31 2019-04-11 インテル・コーポレーション 高分解能のフォトマスク又はレチクル及びその製造方法
JP2018045016A (ja) * 2016-09-13 2018-03-22 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW201202839A (en) 2012-01-16
KR20110110005A (ko) 2011-10-06
KR101375006B1 (ko) 2014-04-16
CN102207675A (zh) 2011-10-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011215197A (ja) フォトマスク及びその製造方法
JP5555789B2 (ja) フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法
JP5409238B2 (ja) フォトマスク、フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置用画素電極の製造方法
TWI604264B (zh) 光罩及顯示裝置之製造方法
CN107402496B (zh) 光掩模的制造方法、光掩模及显示装置的制造方法
CN104423141A (zh) 光掩模及其制造方法、图案转印方法和显示装置制造方法
TWI745873B (zh) 光罩、光罩之製造方法、及顯示裝置之製造方法
TWI648593B (zh) 光罩之製造方法、光罩、及顯示裝置之製造方法
JP2011215197A5 (https=)
JP5635577B2 (ja) フォトマスクの製造方法、フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法
KR20170010032A (ko) 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크, 패턴 전사 방법 및 표시 장치의 제조 방법
JP2014066863A5 (https=)
KR101703395B1 (ko) 포토마스크의 제조 방법, 패턴 전사 방법 및 표시 장치의 제조 방법
CN113253564B (zh) 光掩模、光掩模的制造方法、显示装置用器件的制造方法
JP5372403B2 (ja) 多階調フォトマスク、及びパターン転写方法
JP2009237419A (ja) 多階調フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法
JP2017068281A (ja) フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法
KR101343256B1 (ko) 포토마스크의 제조 방법, 패턴 전사 방법 및 표시 장치의 제조 방법
JP6744955B2 (ja) フォトマスクの製造方法、フォトマスク及び表示装置の製造方法
TW201823855A (zh) 光罩之製造方法、光罩、及顯示裝置之製造方法
JP2009229868A (ja) グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130214

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130214

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140124

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140225

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20140624