JP2007133098A - グレートーンマスク及びその製造方法 - Google Patents
グレートーンマスク及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007133098A JP2007133098A JP2005325280A JP2005325280A JP2007133098A JP 2007133098 A JP2007133098 A JP 2007133098A JP 2005325280 A JP2005325280 A JP 2005325280A JP 2005325280 A JP2005325280 A JP 2005325280A JP 2007133098 A JP2007133098 A JP 2007133098A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- semi
- tone mask
- gray
- transparent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 362
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 89
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 89
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 27
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 27
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 151
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 48
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 29
- HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);trinitrate Chemical compound [Ce+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 18
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 15
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 229910019923 CrOx Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910016006 MoSi Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
【解決手段】遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクにおいて、半透光部を形成する半透光膜が第一の薄膜として形成した金属Cr膜と、この第一の薄膜上に第二の薄膜として形成した酸化Cr膜、又は酸窒化Cr膜、又は窒化Cr膜とで構成される。
また、グレートーンマスクの製造方法は、フォトリソ工程で形成したCr膜フォトマスクの開口部の一部に半透光膜を形成することから成る。
【選択図】図1
Description
1)Crエッチング液(硝酸第二セリウム+過塩素酸系)、
2)フッ酸エチング液及び
3)Crエッチング液
を用いた三工程となる。また半透光部Bを得るためのエッチングはCrエッチング液を用いた一工程(ストッパー層の除去を行う場合は二工程)となる。また、半透光膜の組成として酸化Cr膜(CrOx膜)及び、金属Cr膜等が提案されている。
図1には、本発明によるグレートーンマスクの製造工程の一例を示す。
2:遮光膜
3:レジスト膜
4:レジストパターン
5:開口部
6:半透光膜
7:半透光部
8:レジスト膜
9:遮光部
Claims (16)
- 遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクにおいて、前記半透光部を形成する半透光膜がCr金属膜を主要素としていることを特徴とするグレートーンマスク。
- 前記半透光膜の主要素を成すCr金属膜が5〜10nmの膜厚範囲にあることを特徴とする請求項1に記載のグレートーンマスク。
- 前記半透光部を形成する半透光膜が第一の薄膜として形成したCr金属膜と、この第一の薄膜上に第二の薄膜として形成した酸化Cr膜、又は酸窒化Cr膜、又は窒化Cr膜とを含むことを特徴とする請求項1に記載のグレートーンマスク。
- 前記半透光膜の第一の薄膜を成すCr金属膜が5〜10nmの膜厚範囲にあり、第二の薄膜を成す酸化Cr膜又は酸窒化Cr膜又は窒化Cr膜が0.1〜7.5nmの膜厚範囲にあることを特徴とする請求項2に記載のグレートーンマスク。
- 前記半透光膜の透過率が20〜50%であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のグレートーンマスク。
- 遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクがフォトリソ工程で形成したCr膜フォトマスクの開口部の一部に半透光膜を形成したグレートーンマスクであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のグレートーンマスク。
- 遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクが透明基板上に半透光膜、遮光膜の順に形成されたブランクスを用いて作成され、遮光膜と前記半透光膜の金属成分が異なっていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のグレートーンマスク。
- 遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクが透明基板上に半透光膜、エッチングストッパー膜、遮光膜の順に形成されたブランクスを用いて作成され、エッチングストッパー膜の金属成分が遮光膜及び半透光膜の金属成分と異なっていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のグレートーンマスク。
- 遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクの製造方法において、透明基板上に遮光膜を形成したCr膜ブランクスを用い、Crエッチング液(硝酸第二セリウム+過塩素酸系)を用いて遮光膜をエッチングして、Cr膜フォトマスクの開口部を形成し、形成した開口部の一部に半透光膜を形成することを特徴とするグレートーンマスクの製造方法。
- フォトマスク上にスパッタリング法により金属Cr−酸化クロム二層膜から成る半透光膜を形成して、半透光部を得ることを特徴とする請求項9に記載のグレートーンマスクの製造方法。
- フォトマスク上にスパッタリング法により金属Cr−酸窒化クロム二層膜から成る半透光膜を形成して、半透光部を得ることを特徴とする請求項9に記載のグレートーンマスクの製造方法。
- フォトマスク上にスパッタリング法により金属Cr−窒化クロム二層膜から成る半透光膜を形成して、半透光部を得ることを特徴とする請求項9に記載のグレートーンマスクの製造方法。
- 遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクの製造方法において、透明基板上に金属成分の異なる半透光膜及び遮光膜を順に形成したブランクスを用い、半透光膜及び遮光膜のエッチング特性の違いを利用して作成することを特徴とするグレートーンマスクの製造方法。
- 半透光膜が第一の薄膜として形成したCr金属膜と、この第一の薄膜上に第二の薄膜として形成した酸化Cr膜、又は酸窒化Cr膜、又は窒化Cr膜とを含むことを特徴とする請求項13に記載グレートーンマスクの製造方法。
- 遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクの製造方法において、透明基板上に半透光膜、エッチングストッパー膜、遮光膜の順に形成されたブランクスを用い、エッチングストッパー膜の金属成分が遮光膜及び半透光膜の金属成分と異なっていることを特徴とするグレートーンマスクの製造方法。
- 半透光膜が第一の薄膜として形成したCr金属膜と、この第一の薄膜上に第二の薄膜として形成した酸化Cr膜、又は酸窒化Cr膜、又は窒化Cr膜とを含むことを特徴とする請求項15に記載グレートーンマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005325280A JP4695964B2 (ja) | 2005-11-09 | 2005-11-09 | グレートーンマスク及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005325280A JP4695964B2 (ja) | 2005-11-09 | 2005-11-09 | グレートーンマスク及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007133098A true JP2007133098A (ja) | 2007-05-31 |
JP4695964B2 JP4695964B2 (ja) | 2011-06-08 |
Family
ID=38157989
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005325280A Active JP4695964B2 (ja) | 2005-11-09 | 2005-11-09 | グレートーンマスク及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4695964B2 (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007178649A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 階調マスク |
JP2008046624A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-28 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
JP2008310332A (ja) * | 2007-06-14 | 2008-12-25 | Lg Chem Ltd | 液晶表示素子用フォトマスクおよびこれを用いたカラーフィルタの製造方法 |
JP2010078923A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Hoya Corp | 多階調フォトマスク、フォトマスクブランク、及びパターン転写方法 |
CN102181838A (zh) * | 2011-05-05 | 2011-09-14 | 深圳市科利德光电材料股份有限公司 | 铬版制造工艺 |
JP2011215197A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Hoya Corp | フォトマスク及びその製造方法 |
JP2013061670A (ja) * | 2012-11-30 | 2013-04-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 階調マスク |
JP2015102664A (ja) * | 2013-11-25 | 2015-06-04 | Hoya株式会社 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク及びパターン転写方法 |
JP2018045016A (ja) * | 2016-09-13 | 2018-03-22 | Hoya株式会社 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法 |
JP2020519958A (ja) * | 2017-06-22 | 2020-07-02 | 深▲セン▼市▲華▼星光▲電▼半▲導▼体▲顕▼示技▲術▼有限公司 | フォトマスク構造及びアレイ基板の製造方法 |
JP2020197698A (ja) * | 2019-05-28 | 2020-12-10 | アルバック成膜株式会社 | マスクブランクス、ハーフトーンマスク、製造方法、製造装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61273545A (ja) * | 1985-05-29 | 1986-12-03 | Mitsubishi Electric Corp | フオトマスク |
JPH06120201A (ja) * | 1992-10-08 | 1994-04-28 | Ibm Japan Ltd | 半導体装置のウエット・エッチング方法 |
JPH07168342A (ja) * | 1993-10-18 | 1995-07-04 | Mitsubishi Electric Corp | 位相シフトマスク、その位相シフトマスクの製造方法およびその位相シフトマスクを用いた露光方法 |
JPH10229043A (ja) * | 1996-12-14 | 1998-08-25 | Hoya Corp | X線マスクブランク及びその製造方法並びにx線マスクの製造方法 |
JP2005010814A (ja) * | 2004-10-01 | 2005-01-13 | Hoya Corp | グレートーンマスク及びその製造方法 |
JP2005024730A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Hoya Corp | グレートーンマスクの製造方法 |
-
2005
- 2005-11-09 JP JP2005325280A patent/JP4695964B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61273545A (ja) * | 1985-05-29 | 1986-12-03 | Mitsubishi Electric Corp | フオトマスク |
JPH06120201A (ja) * | 1992-10-08 | 1994-04-28 | Ibm Japan Ltd | 半導体装置のウエット・エッチング方法 |
JPH07168342A (ja) * | 1993-10-18 | 1995-07-04 | Mitsubishi Electric Corp | 位相シフトマスク、その位相シフトマスクの製造方法およびその位相シフトマスクを用いた露光方法 |
JPH10229043A (ja) * | 1996-12-14 | 1998-08-25 | Hoya Corp | X線マスクブランク及びその製造方法並びにx線マスクの製造方法 |
JP2005024730A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Hoya Corp | グレートーンマスクの製造方法 |
JP2005010814A (ja) * | 2004-10-01 | 2005-01-13 | Hoya Corp | グレートーンマスク及びその製造方法 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007178649A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 階調マスク |
JP2008046624A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-28 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
JP2008310332A (ja) * | 2007-06-14 | 2008-12-25 | Lg Chem Ltd | 液晶表示素子用フォトマスクおよびこれを用いたカラーフィルタの製造方法 |
JP2010078923A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Hoya Corp | 多階調フォトマスク、フォトマスクブランク、及びパターン転写方法 |
JP2011215197A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Hoya Corp | フォトマスク及びその製造方法 |
CN102181838A (zh) * | 2011-05-05 | 2011-09-14 | 深圳市科利德光电材料股份有限公司 | 铬版制造工艺 |
JP2013061670A (ja) * | 2012-11-30 | 2013-04-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 階調マスク |
JP2015102664A (ja) * | 2013-11-25 | 2015-06-04 | Hoya株式会社 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク及びパターン転写方法 |
JP2018045016A (ja) * | 2016-09-13 | 2018-03-22 | Hoya株式会社 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法 |
JP2020519958A (ja) * | 2017-06-22 | 2020-07-02 | 深▲セン▼市▲華▼星光▲電▼半▲導▼体▲顕▼示技▲術▼有限公司 | フォトマスク構造及びアレイ基板の製造方法 |
JP2020197698A (ja) * | 2019-05-28 | 2020-12-10 | アルバック成膜株式会社 | マスクブランクス、ハーフトーンマスク、製造方法、製造装置 |
JP7366810B2 (ja) | 2019-05-28 | 2023-10-23 | アルバック成膜株式会社 | マスクブランクス、ハーフトーンマスク、製造方法、製造装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4695964B2 (ja) | 2011-06-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4695964B2 (ja) | グレートーンマスク及びその製造方法 | |
JP5555789B2 (ja) | フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法 | |
KR101100522B1 (ko) | 4계조 포토마스크의 제조방법, 및 이에 이용되는포토마스크 블랭크 | |
JP5306507B2 (ja) | ブランクマスク及びフォトマスク | |
KR102140572B1 (ko) | 포토 마스크 블랭크, 포토 마스크의 제조 방법 및 마스크 패턴 형성 방법 | |
KR101145453B1 (ko) | 마스크 블랭크 및 포토마스크 | |
TWI387845B (zh) | 灰階遮罩及圖案轉印方法 | |
JP4898679B2 (ja) | グレートーンマスク用ブランクスを用いたグレートーンマスクの製造方法 | |
KR101823276B1 (ko) | 전사용 마스크의 제조 방법 및 반도체 디바이스의 제조 방법 | |
JP2007249198A (ja) | 4階調フォトマスクの製造方法、及びフォトマスクブランク | |
JP7059234B2 (ja) | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 | |
JP2007178649A (ja) | 階調マスク | |
KR101333931B1 (ko) | 포토마스크 블랭크, 포토마스크 및 포토마스크의 제조방법 | |
JP2007188069A (ja) | マスクブランクおよび階調マスク | |
JP2011090344A (ja) | グレートーンマスク及びグレートーンマスクの製造方法、並びにパターン転写方法 | |
JP2006227365A (ja) | グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク | |
KR20170113083A (ko) | 위상 시프트 마스크 블랭크, 위상 시프트 마스크 및 표시 장치의 제조 방법 | |
JP2018109672A (ja) | ハーフトーンマスク、フォトマスクブランクス及びハーフトーンマスクの製造方法 | |
JP2008052120A (ja) | マスクブランク及びフォトマスク並びにこれらの製造方法 | |
TW201019045A (en) | Multi-tone photomask, pattern transfer method and method of producing a display device using the multi-tone photomask | |
KR101430763B1 (ko) | 마스크 블랭크 및 포토마스크 | |
JP2011027878A (ja) | 多階調フォトマスク、多階調フォトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 | |
JP2005010814A (ja) | グレートーンマスク及びその製造方法 | |
JP2009229893A (ja) | 多階調フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法 | |
JP5630592B1 (ja) | フォトマスクの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080604 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100915 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101020 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101215 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110202 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110228 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140304 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4695964 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |