JP2020519958A - フォトマスク構造及びアレイ基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記フォトマスクユニットは、
前記アレイ基板の表面の対応する領域に第1透明電極を形成するための第1フォトマスクと、
前記第1フォトマスクに接続され、前記アレイ基板の表面の対応する領域に第2透明電極を形成するための第2フォトマスクと、を含み、
前記第1透明電極と前記第2透明電極から画素電極が構成され、
前記第1フォトマスクと前記第2フォトマスクとは異なる光透過率を有し、且つ前記第2フォトマスクの光透過率は前記第1フォトマスクの光透過率未満であることにより、異なる光照射量を形成する。
前記フォトマスクユニットは、
前記アレイ基板の表面の対応する領域に第1透明電極を形成するための第1フォトマスクと、
前記第1フォトマスクに接続され、前記アレイ基板の表面の対応する領域に第2透明電極を形成するための第2フォトマスクと、を含み、
前記第1フォトマスクと前記第2フォトマスクとは異なる光透過率を有し、且つ前記第2フォトマスクの光透過率は前記第1フォトマスクの光透過率未満であることにより、異なる光照射量を形成する。
前記基板の表面に薄膜トランジスタのゲート及びゲートラインを形成するステップと、
前記基板の表面に薄膜トランジスタのアクティブ層、ソース、ドレイン、パッシベーション層及びパッシベーション層ビアホールを形成するステップと、
前記基板の表面に透明金属層を堆積し、且つ前記透明金属層の表面にフォトレジストをコーティングするステップと、
前記フォトマスク構造を使用して前記フォトレジストにパターニング処理を行い、前記第1フォトマスク及び前記第2フォトマスクを同時に使用して前記フォトレジストの異なる領域を露光するステップと、
前記フォトレジストを現像してフォトレジストパターンを形成し、次に前記透明金属層の前記フォトレジストを被覆していない部分をエッチングし、最終的に前記透明金属層の表面の前記フォトレジストを剥離し、画素電極パターンを形成するステップと、を含む。
本発明の有益な効果は、以下のとおりである。従来のフォトマスク構造に比べて、本発明のフォトマスク構造は、同一フォトマスクユニットが2種の異なる光照射量を有するフォトマスクを含み、アレイ基板の同一層の異なる領域のフォトレジストが異なる光照射量を受けることを実現でき、特定の領域において底部金属の反射によって該領域の露光強度がほかの領域より大きいことに起因する該領域のフォトレジストとほかの領域のフォトレジストとの高さ差を相殺し、それにより同一層のフォトレジストの各領域が同一高さを有することを実現し、従来技術のHTMフォトマスクは各領域がともに同一透過率の半透過膜を用いるため、アレイ基板の製造時、同一層のITO表面の異なる領域のフォトレジストに膜厚の差が存在し、ひいては比較的薄いフォトレジストが消失することを引き起こし、さらに後続のドライエッチングプロセス時にITOがエッチングされて弱まり、それによりITOの断線(オープン)を招いてしまうという技術的課題を解決する。
実施例又は従来技術の技術案をより明確に説明するために、以下、実施例又は従来技術の説明に必要な図面を簡単に説明するが、明らかなように、以下説明される図面は単に発明のいくつかの実施例であり、当業者にとって、創造的な努力をせずにこれらの図面に基づきほかの図面を取得し得る。
以下、各実施例の説明は、添付する図面を参照し、本発明の実施可能な特定の実施例を例示するためのものである。本発明に係る方向用語、たとえば「上」、「下」、「前」、「後」、「左」、「右」、「内」、「外」、「側面」等は、添付する図面を参照する方向に過ぎない。従って、使用される方向用語は本発明を説明及び理解するためのものに過ぎず、本発明を限定するためのものではない。図中、構造が類似するユニットは同一符号で示される。
102 フォトマスクユニット
103 スリット領域
104 第1接続領域
105 第2接続領域
201 スリット領域
202 第1接続領域
203 第2接続領域
301 スリット領域
302 第1接続領域
303 第2接続領域
401 スリット領域
402 第2接続領域
402 第1接続領域
403 第2接続領域
Claims (17)
- フォトマスク構造であって、ディスプレイパネルのアレイ基板の表面に金属パターンを形成することに用いられる、アレイ状に分布する複数のフォトマスクユニットを含み、
前記フォトマスクユニットは、
前記アレイ基板の表面の対応する領域に第1透明電極を形成するための第1フォトマスクと、
前記第1フォトマスクに接続され、前記アレイ基板の表面の対応する領域に第2透明電極を形成するための第2フォトマスクと、を含み、
前記第1透明電極と前記第2透明電極から画素電極が構成され、
前記第1フォトマスクと前記第2フォトマスクとは異なる光透過率を有し、且つ前記第2フォトマスクの光透過率は前記第1フォトマスクの光透過率未満であることにより、異なる光照射量を形成するフォトマスク構造。 - 前記第1フォトマスクは対称的に設置される2つのスリット領域を含み、前記第2フォトマスクは2つの前記スリット領域を接続するための第1接続領域、及び前記第1接続領域の一端に接続される第2接続領域を含む請求項1に記載のフォトマスク構造。
- 前記第1フォトマスクと前記第2フォトマスクはともにハーフトーンフォトマスクを採用する請求項2に記載のフォトマスク構造。
- 前記第1フォトマスクはシングルスリット回折フォトマスクを採用し、前記第2フォトマスクはハーフトーンフォトマスクを採用する請求項2に記載のフォトマスク構造。
- 前記第1フォトマスクのスリット幅は1.6um〜1.8umである請求項4に記載のフォトマスク構造。
- 前記第1フォトマスクは対称的に設置される2つのスリット領域、及び2つの前記スリット領域を接続するための第1接続領域を含み、前記第2フォトマスクは前記第1接続領域の一端に接続される第2接続領域を含む請求項1に記載のフォトマスク構造。
- 前記第1フォトマスクはハーフトーンフォトマスクを採用し、前記第2フォトマスクはシングルスリット回折フォトマスクを採用する請求項6に記載のフォトマスク構造。
- フォトマスク構造であって、それはアレイ状に分布する複数のフォトマスクユニットを含み、ディスプレイパネルのアレイ基板の表面に金属パターンを形成することに用いられ、
前記フォトマスクユニットは、
前記アレイ基板の表面の対応する領域に第1透明電極を形成するための第1フォトマスクと、
前記第1フォトマスクに接続され、前記アレイ基板の表面の対応する領域に第2透明電極を形成するための第2フォトマスクと、を含み、
前記第1フォトマスクと前記第2フォトマスクとは異なる光透過率を有し、且つ前記第2フォトマスクの光透過率は前記第1フォトマスクの光透過率未満であることにより、異なる光照射量を形成するフォトマスク構造。 - 前記第1フォトマスクは対称的に設置される2つのスリット領域を含み、前記第2フォトマスクは2つの前記スリット領域を接続するための第1接続領域、及び前記第1接続領域の一端に接続される第2接続領域を含む請求項8に記載のフォトマスク構造。
- 前記第1フォトマスクと前記第2フォトマスクはともにハーフトーンフォトマスクを採用する請求項9に記載のフォトマスク構造。
- 前記第1フォトマスクはシングルスリット回折フォトマスクを採用し、前記第2フォトマスクはハーフトーンフォトマスクを採用する請求項9に記載のフォトマスク構造。
- 前記第1フォトマスクのスリット幅は1.6um〜1.8umである請求項11に記載のフォトマスク構造。
- 前記第1フォトマスクは対称的に設置される2つのスリット領域、及び2つの前記スリット領域を接続するための第1接続領域を含み、前記第2フォトマスクは前記第1接続領域の一端に接続される第2接続領域を含む請求項8に記載のフォトマスク構造。
- 前記第1フォトマスクはハーフトーンフォトマスクを採用し、前記第2フォトマスクはシングルスリット回折フォトマスクを採用する請求項13に記載のフォトマスク構造。
- アレイ基板の製造方法であって、請求項1〜7のいずれか一項に記載のフォトマスク構造を使用し、前記製造方法は、
基板の表面に薄膜トランジスタのゲート及びゲートラインを形成するステップと、
前記基板の表面に薄膜トランジスタのアクティブ層、ソース、ドレイン、パッシベーション層及びパッシベーション層ビアホールを形成するステップと、
前記基板の表面に透明金属層を堆積し、且つ前記透明金属層の表面にフォトレジストをコーティングするステップと、
前記フォトマスク構造を使用して前記フォトレジストにパターニング処理を行い、前記第1フォトマスク及び前記第2フォトマスクを同時に使用して前記フォトレジストの異なる領域を露光するステップと、
前記フォトレジストを現像してフォトレジストパターンを形成し、次に前記透明金属層の前記フォトレジストを被覆していない部分をエッチングし、最終的に前記透明金属層の表面の前記フォトレジストを剥離し、画素電極パターンを形成するステップと、を含むアレイ基板の製造方法。 - 前記第1フォトマスクは対称的に設置される2つのスリット領域を含み、前記第2フォトマスクは2つの前記スリット領域を接続するための第1接続領域、及び前記第1接続領域の一端に接続される第2接続領域を含む請求項15に記載の方法。
- 前記第1フォトマスクと前記第2フォトマスクはともにハーフトーンフォトマスクを採用する請求項16に記載の方法。
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