JP2007121530A - 液晶装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】スイッチング素子および保持容量を備えた液晶装置を製造するのに必要な工程数やマスク枚数を減らすことのできる構成、および液晶装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶装置1でも、第1の基板10上にゲート絶縁膜2とパッシベーション膜4とが積層され、パッシベーション膜4の上層に形成された画素電極9aは、ゲート絶縁膜2とパッシベーション膜4との層間に形成されたドレイン電極6bに対して、第21のコンタクトホール81を介して接続している。また、保持容量電極7aと容量線3bとは、パッシベーション膜4の上層に画素電極9aと同時形成された島状のブリッジ接続用導電膜9b、第2のコンタクトホール82、および第3のコンタクトホール83により接続されている。
【選択図】図3
【解決手段】液晶装置1でも、第1の基板10上にゲート絶縁膜2とパッシベーション膜4とが積層され、パッシベーション膜4の上層に形成された画素電極9aは、ゲート絶縁膜2とパッシベーション膜4との層間に形成されたドレイン電極6bに対して、第21のコンタクトホール81を介して接続している。また、保持容量電極7aと容量線3bとは、パッシベーション膜4の上層に画素電極9aと同時形成された島状のブリッジ接続用導電膜9b、第2のコンタクトホール82、および第3のコンタクトホール83により接続されている。
【選択図】図3
Description
本発明は、スイッチング素子および保持容量を備えた液晶装置、およびその製造方法に関するものである。
アクティブマトリクス型の液晶装置では、図8に示すように、素子基板10′に対して、画素電極9a′と重なるように保持容量電極7a′を設けて保持容量1h′を構成することにより、液晶容量での電荷保持特性を向上することが提案されている。ここで、保持容量1h′は、その電位を規定する容量線3b′と電気的に接続する必要があることから、保持容量1h′と容量線3b′とは、画素スイッチング用の薄膜トランジスタ1c′のゲート絶縁膜を構成する第1の絶縁膜2′に形成したコンタクトホール86′を介して電気的に接続されている。また、画素電極9a′は、保持容量電極7a′の上層に形成された第2の絶縁膜4′の上層に形成されているため、第2の絶縁膜4′に形成したコンタクトホール87′を介して薄膜トランジスタのドレイン電極6b′に接続している。なお、ゲート線3a′(走査線)は、第1の絶縁膜2′の下層側に形成され、ソース線6a′は、第1の絶縁膜2′と第2の絶縁膜4′との層間に形成されている。
このような構成の液晶装置を製造するには、まず、図9(a)に示すように、素子基板20′を構成する基板11′上に、ゲート線3a′および容量線3b′を形成する。次に、図9(b)に示すように、ゲート絶縁膜としての第1の絶縁膜2′を形成した後、真性のシリコン膜からなる半導体膜5a′、およびn型シリコン膜からなるオーミックコンタクト層5b′を順次、形成する。次に、図9(c)に示すように、ソース線6a′およびドレイン電極6b′を形成した後、ソース線6a′とドレイン電極6b′との間のオーミックコンタクト層5b′を除去する。次に、図9(d)に示すように、第1の絶縁膜2′において容量線3bと重なる位置にコンタクトホール86を形成した後、図9(e)に示すように、保持容量電極7a′を形成する。次に、図9(f)に示すように、第2の絶縁膜4′を形成した後、第2の絶縁膜4′においてドレイン電極6b′と重なる位置にコンタクトホール87′を形成する。次に、図9(g)に示すように、画素電極9a′を形成する。
特開平04−326329号公報
しかしながら、図8および図9(a)〜(g)に示す従来構成では、ゲート線3aおよび容量線3bの形成工程から画素電極9aの形成工程まで計7回のフォトリソグラフィ工程を必要とするため、製造工程数やマスク枚数が多く、製造コストを増大させるという問題点がある。
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、スイッチング素子および保持容量を備えた液晶装置を製造するのに必要な工程数やマスク枚数を減らすことのできる構成、および液晶装置の製造方法を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明では、スイッチング素子と、該スイッチング素子に電気的に接続された画素電極と、保持容量とが形成された第1の基板と、該第1の基板との間に液晶を挟持する第2の基板とを有する液晶装置において、前記第1の基板上に第1の絶縁膜と、該第1の絶縁膜の上層に積層された第2の絶縁膜とを備え、前記画素電極は、前記第2の絶縁膜の上層に形成されて当該第2の絶縁膜に形成された第1のコンタクトホールを介して前記スイッチング素子に接続され、前記保持容量は、前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜との層間で当該第2の絶縁膜を介して前記画素電極に重なる保持容量電極と、前記第1の絶縁膜の下層側に形成されて前記保持容量電極の電位を規定する配線とを備え、前記保持容量電極と前記配線とは、前記第2の絶縁膜において前記保持容量電極と重なる位置に形成された第2のコンタクトホールと、前記第1の絶縁膜および前記第2の絶縁膜において前記配線と重なる位置に形成された第3のコンタクトホールと、前記第2の絶縁膜の上層に形成されて前記第2のコンタクトホールおよび前記第3のコンタクトホールを介して前記保持容量電極および前記配線に接続するブリッジ接続用導電膜とによって電気的に接続されていることを特徴とする。
また、本発明では、スイッチング素子と、該スイッチング素子に電気的に接続された画素電極と、保持容量とが形成された第1の基板と、該第1の基板との間に液晶を挟持する第2の基板とを有する液晶装置の製造方法において、前記第1の基板上に配線、第1の絶縁膜、保持容量電極、および第2の絶縁膜を順に形成していく複数の工程を有するとともに、前記第2の絶縁膜を形成した後、前記第2の絶縁膜において当該第2の絶縁膜の下層側に形成されたスイッチング素子と重なる位置、前記第2の絶縁膜において前記保持容量電極と重なる位置、および前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜において前記配線と重なる位置の各々に対して第1、第2および第3のコンタクトホールを同時形成するコンタクトホール形成工程と、該コンタクトホール形成工程の後、前記第2の絶縁膜の上層側に、前記第1のコンタクトホールを介して前記スイッチング素子に接続する前記画素電極を、前記第2のコンタクトホールおよび前記第3のコンタクトホールを介して前記保持容量電極および前記配線に接続するブリッジ接続用導電膜と同時に形成する画素電極形成工程とを有することを特徴とする。
本発明では、第2の絶縁膜の上層に形成された画素電極は、第2の絶縁膜に形成された第1のコンタクトホールを介してスイッチング素子に接続し、保持容量を構成する保持容量電極と配線とは、第2の絶縁膜において保持容量電極と重なる位置に形成された第2のコンタクトホールと、第1の絶縁膜および第2の絶縁膜において配線と重なる位置に形成された第3のコンタクトホールと、第2の絶縁膜の上層に形成されて第2のコンタクトホールおよび第3のコンタクトホールを介して前記保持容量電極および前記配線に接続するブリッジ接続用導電膜とによって電気的に接続されている。このため、第2の絶縁膜を形成した後、コンタクトホール形成工程では第1、第2および第3のコンタクトホールを同時形成するととともに、コンタクトホール形成工程の後、第2の絶縁膜の上層側に画素電極を形成する際、ブリッジ接続用導電膜を同時形成すればよい。従って、ゲート線および容量線の形成工程から画素電極の形成工程まで計6回のフォトリソグラフィ工程で済む。それ故、スイッチング素子および保持容量を備えた液晶装置を製造するのに必要な工程数やマスク枚数を減らすことができるので、液晶装置の製造コストを低減することができる。
本発明において、前記画素電極、前記保持容量電極および前記ブリッジ接続用導電膜はいずれも、光透過性導電膜であることが好ましい。このように構成すると、高い画素開口率を得ることができる。
本発明において、前記スイッチング素子は、例えば、前記第1の絶縁膜をゲート絶縁膜とする薄膜トランジスタである。この場合、当該薄膜トランジスタに対するゲート線は、前記第1の絶縁膜の下層側に形成され、当該薄膜トランジスタに対するソース線およびドレイン電極は、前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜との層間に形成される。また、前記配線は、前記ゲート線と並行して延びた容量線、あるいは前記保持容量電極が属する画素に対して前段に位置する画素のゲート線のいずれとして構成することができる。
本発明において、前記第2の基板上には、前記画素電極との間で前記液晶を駆動する対向電極が形成されている構成を採用することができる。
本発明において、前記第1の基板上には、前記画素電極との間で前記液晶を駆動する共通電極が形成されている構成を採用してもよい。
本発明に係る電気光学装置は、例えば、携帯電話機やモバイルコンピュータなどといった電子機器に用いられる。
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明に用いた各図では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を相違させてある。
[実施の形態1]
(液晶装置の全体構成)
図1(a)、(b)はそれぞれ、液晶装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのH−H′断面図である。
(液晶装置の全体構成)
図1(a)、(b)はそれぞれ、液晶装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのH−H′断面図である。
図1(a)、(b)において、本形態の液晶装置1は、TN(Twisted Nematic)モード、ECB(Electrically Controlled Birefringence)モード、あるいはVAN(Vertical Aligned Nematic)モードの透過型のアクティブマトリクス型の液晶装置であり、シール材22を介して第1の基板10(素子基板)と第2の基板20(対向基板)とが貼り合わされ、その間に液晶1fが保持されている。第1の基板10において、シール材22の外側に位置する端部領域には、データ線駆動用IC60、および走査線駆動用IC30が実装されているとともに、基板辺に沿って実装端子12が形成されている。シール材22は、第1の基板10と第2の基板20とをそれらの周辺で貼り合わせるための光硬化樹脂や熱硬化性樹脂などからなる接着剤であり、両基板間の距離を所定値とするためのグラスファイバー、あるいはガラスビーズ等のギャップ材が配合されている。なお、シール材22には、その途切れ部分によって液晶注入口25が形成され、液晶1fを注入した後、封止材26により封止されている。
詳しくは後述するが、第1の基板10には、スイッチング素子としての薄膜トランジスタ1cや画素電極9aがマトリクス状に形成され、その表面に配向膜19が形成されている。これに対して、第2の基板20には、シール材22の内側領域に遮光性材料からなる額縁24(図1(b)では図示を省略)が形成され、その内側が画像表示領域1aになっている。また、第2の基板20には、図示を省略するが、各画素の縦横の境界領域と対向する領域にブラックマトリクス、あるいはブラックストライプなどと称せられる遮光膜が形成され、その上層側には、対向電極28および配向膜29が形成されている。なお、図示を省略するが、第2の基板20において、第1の基板10の各画素に対向する領域にはRGBのカラーフィルタがその保護膜とともに形成され、それにより、液晶装置1をモバイルコンピュータ、携帯電話機、液晶テレビなどといった電子機器のカラー表示装置として用いることができる。
(第1の基板10の構成)
図2は、本発明の実施の形態1に係る液晶装置の第1の基板の電気的な構成を示す説明図である。図2に示すように、第1の基板10には、画像表示領域1aに相当する領域に複数のソース線6a(データ線)およびゲート線3a(走査線)が互いに交差する方向に形成され、これらの配線の交差部分に対応する位置に画素1bが構成されている。ゲート線3aは走査線駆動用IC30から延びており、ソース線6aはデータ線駆動用IC60から延びている。また、第1の基板10には、液晶1fの駆動を制御するための画素スイッチング用の薄膜トランジスタ1cが各画素1bに形成され、薄膜トランジスタ1cのソースにはソース線6aが電気的に接続され、薄膜トランジスタ1cのゲートにはゲート線3aが電気的に接続されている。
図2は、本発明の実施の形態1に係る液晶装置の第1の基板の電気的な構成を示す説明図である。図2に示すように、第1の基板10には、画像表示領域1aに相当する領域に複数のソース線6a(データ線)およびゲート線3a(走査線)が互いに交差する方向に形成され、これらの配線の交差部分に対応する位置に画素1bが構成されている。ゲート線3aは走査線駆動用IC30から延びており、ソース線6aはデータ線駆動用IC60から延びている。また、第1の基板10には、液晶1fの駆動を制御するための画素スイッチング用の薄膜トランジスタ1cが各画素1bに形成され、薄膜トランジスタ1cのソースにはソース線6aが電気的に接続され、薄膜トランジスタ1cのゲートにはゲート線3aが電気的に接続されている。
さらに、本形態の液晶装置1では、第1の基板10には、ゲート線3aと並行して容量線3bが形成されている。本形態では、薄膜トランジスタ1cに対して、第2の基板20との間に構成された液晶容量1gが直列に接続されているとともに、液晶容量1gに対して並列に保持容量1hが接続されている。ここで、容量線3bは、走査線駆動用IC30に接続されているが、定電位に保持されている。
このように構成した液晶装置1では、薄膜トランジスタ1cを一定期間だけそのオン状態とすることにより、ソース線6aから供給される画像信号を各画素1bの液晶容量1gに所定のタイミングで書き込む。このようにして液晶容量1gに書き込まれた所定レベルの画像信号は、液晶容量1gで一定期間保持されるとともに、保持容量1hは、液晶容量1gに保持された画像信号がリークするのを防止している。
(各画素の構成)
図3(a)、(b)は、本形態の液晶装置の画素1つ分の平面図、およびA1−B1断面図である。なお、図3(a)では、画素電極およびそれと同時形成された薄膜を太くて長い点線で示し、保持容量電極を二点鎖線で示し、ゲート線およびそれを同時形成された薄膜を実線で示し、ソース線およびそれを同時形成された薄膜を一点鎖線で示し、半導体膜を細くて短い点線で示してある。
図3(a)、(b)は、本形態の液晶装置の画素1つ分の平面図、およびA1−B1断面図である。なお、図3(a)では、画素電極およびそれと同時形成された薄膜を太くて長い点線で示し、保持容量電極を二点鎖線で示し、ゲート線およびそれを同時形成された薄膜を実線で示し、ソース線およびそれを同時形成された薄膜を一点鎖線で示し、半導体膜を細くて短い点線で示してある。
図3(a)に示すように、第1の基板10では、アルミニウムやクロムなどからなるゲート線3a、およびアルミニウムやクロムなどからなるソース線6aで囲まれた領域が画素1bとして構成され、画素1bには、ボトムゲート型の薄膜トランジスタ1cの能動層を構成するアモルファスシリコン膜からなる半導体膜5aが形成されている。また、ゲート線3aからの突出部分によってゲート電極が形成されている。薄膜トランジスタ1cの能動層を構成する半導体膜5aのうち、ソース側の端部にはソース線6aがソース電極として重なっており、ドレイン側の端部には、アルミニウムやクロムなどからなるドレイン電極6bが重なっている。また、ゲート線3aと並列して、アルミニウムやクロムなどからなる容量線3bが形成されている。ドレイン電極6bには第1のコンタクトホール81を介して、ITO膜からなる画素電極9aが接続している。
また、画素1bには、画素電極9aと部分的に重なるようにITO膜からなる保持容量電極7aが形成されている。ここで、保持容量電極7aは、ドレイン電極6bおよび容量線3bのいずれからも側方にずれた位置に形成されている。
本形態において、保持容量電極7aに対しては、第2のコンタクトホール82を介して、ITO膜からなる島状のブリッジ接続用導電膜9bが接続しているとともに、このブリッジ接続用導電膜9bは、第3のコンタクトホール83を介して容量線3bに接続している。このようにして、本形態では、保持容量電極7aおよびこの保持容量電極7aの電位を規定する容量線によって保持容量1hが構成されている。
このように構成した第1の基板10のA1−B1断面は、図3(b)に示すように表される。まず、ガラス基板や石英基板からなる絶縁基板11上には、ゲート線3a(ゲート電極)および容量線3bが形成され、ゲート線3aの表面および容量線3bの表面を覆うように、シリコン窒化膜などからなるゲート絶縁膜2(第1の絶縁膜)が形成されている。ゲート絶縁膜2の表面のうち、ゲート線3aの上層には、薄膜トランジスタ1cの能動層を構成する半導体膜5a(真性のポリシリコン膜)が形成されている。半導体膜5aのうち、ソース領域の上層には、ドープトシリコン膜からなるオーミックコンタクト層5b、およびソース線6aが形成され、ドレイン領域の上層にはオーミックコンタクト層5b、およびドレイン電極6bが形成され、薄膜トランジスタ1cが構成されている。また、ゲート絶縁膜2の上層において、ドレイン電極6bの側方位置には保持容量電極7aが形成されており、この保持容量電極7aは容量線3bからずれた位置に形成されている。また、ソース線6a、ドレイン電極6b、および保持容量電極7aの上層側には、シリコン窒化膜などからなるパッシベーション膜4(第2の絶縁膜)が形成され、このパッシベーション膜4の上層に画素電極9aが形成されている。なお、画素電極8aの上層には配向膜(図示せず)が形成されている。
ここで、保持容量電極7aは、パッシベーション膜4を介して画素電極8aに対して部分的に重なっており、この重なり部分が保持容量1hとして機能する。
このように本形態では、第1の基板10上にゲート絶縁膜2とパッシベーション膜4とが積層され、パッシベーション膜4の上層に形成された画素電極9aは、ゲート絶縁膜2とパッシベーション膜4との層間に形成されたドレイン電極6bに対して、ドレイン電極6bと重なる位置に形成された第1のコンタクトホール81を介して接続している。
また、本形態では、保持容量電極7aと容量線3bとは、直接、接続されておらず、パッシベーション膜4の上層に画素電極9aと同時形成された島状のブリッジ接続用導電膜9bを介して接続されている。すなわち、パッシベーション膜4において保持容量電極7aと重なる位置には第2のコンタクトホール82が形成されているとともに、ゲート絶縁膜2およびパッシベーション膜4には容量線3bと重なる位置に第3のコンタクトホール83が形成されており、島状のブリッジ接続用導電膜9bは、第2のコンタクトホール82を介して保持容量電極7aに接続しているとともに、第3のコンタクトホール83を介して容量線3bに接続している。
(液晶装置1の製造方法)
図4(a)〜(f)は、本形態の液晶装置1に用いた第1の基板10の製造方法を示す工程断面図である。なお、第1の基板10を製造するには、第1の基板10を多数取りできる大型基板の状態で以下の工程が行われるが、以下の説明では、大型基板についても第1の基板10として説明する。
図4(a)〜(f)は、本形態の液晶装置1に用いた第1の基板10の製造方法を示す工程断面図である。なお、第1の基板10を製造するには、第1の基板10を多数取りできる大型基板の状態で以下の工程が行われるが、以下の説明では、大型基板についても第1の基板10として説明する。
まず、図4(a)に示すように、大型のガラス基板あるいは石英基板などの絶縁基板11の表面に厚さが例えば130nmのアルミニウム膜やクロム膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングし、ゲート線3aおよび容量線3bを形成する。
次に、図4(b)に示すように、プラズマCVD法により、厚さが例えば300nmのシリコン窒化膜などからなるゲート絶縁膜2を形成する。次に、プラズマCVD法により、厚さが例えば300nmの真性のシリコン膜からなる半導体膜、および厚さが例えば50nmのn型シリコン膜からなるオーミックコンタクト層を順次、形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いて、オーミックコンタクト層5bおよび半導体膜5aを同時にパターニングする。
次に、図4(c)に示すように、厚さが例えば130nmのアルミニウム膜やクロム膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングし、ソース線6aおよびドレイン電極6bを形成する。続いて、ソース線6aおよびドレイン電極6bをマスクとして用いて、ソース線6aとドレイン電極6bとの間のオーミックコンタクト層5bをエッチングにより除去し、ソース・ドレインの分離を行う。その結果、ソース線6aおよびドレイン電極6bが形成されていない領域からオーミックコンタクト層5bが除去されるとともに、半導体膜5aの表面に一部がエッチングされる。このようにして、ボトムゲート型の画素スイッチング用の薄膜トランジスタ1cが形成される。
次に、図4(d)に示すように、プラズマCVD法により、厚さが例えば50nmのITO膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングし、保持容量電極7aを形成する。
次に、図4(e)に示すように、プラズマCVD法により、厚さが例えば200nmのシリコン窒化膜からなるパッシベーション膜4を形成した後、コンタクトホール形成工程において、フォトリソグラフィ技術を用いてゲート絶縁膜2およびパッシベーション膜4に対してエッチングを行い、第1のコンタクトホール81、第2のコンタクトホール82、および第3のコンタクトホール83を同時形成する。
次に、図4(f)に示す画素電極形成工程では、スパッタ法により、厚さが例えば50nmのITO膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングし、画素電極9aおよびブリッジ接続用導電膜9bを同時形成する。続いて、配向膜(図示せず)を形成するためのポリイミド膜を形成した後、ラビング処理を施す。
このようにして大型基板の状態で各種配線やTFTを形成した第1の基板10については、別途形成した大型の第2の基板20とシール材22で貼り合わせた後、所定のサイズに切断する。それにより、液晶注入口25が開口するので、液状注入口25から第1の基板10と第2の基板20との間に液晶1fを注入した後、液晶注入口25を封止材26により封止する。
(本形態の主な効果)
以上説明したように、本形態において、画素電極9aは、パッシベーション膜4に形成された第1のコンタクトホール81を介して薄膜トランジスタ1cのドレイン電極6bに接続し、保持容量1hを構成する保持容量電極7aと容量線3bとは、パッシベーション膜4において保持容量電極7aと重なる位置に形成された第2のコンタクトホール82と、ゲート絶縁膜2およびパッシベーション膜4において容量線3bと重なる位置に形成された第3のコンタクトホール83と、パッシベーション膜4の上層に形成されて第2のコンタクトホール82および第3のコンタクトホール83を介して保持容量電極7aおよび容量線3bに接続するブリッジ接続用導電膜9bとによって電気的に接続されている。このため、パッシベーション膜4を形成した後、コンタクトホール形成工程では第1、第2および第3のコンタクトホール81、82、83を同時形成するととともに、コンタクトホール形成工程の後、パッシベーション膜4の上層側に画素電極9aを形成する際、ブリッジ接続用導電膜9bを同時形成すればよい。従って、ゲート線3aおよび容量線3bの形成工程から画素電極9aの形成工程まで計6回のフォトリソグラフィ工程で済む。それ故、画素スイッチング用の薄膜トランジシタ1cおよび保持容量1hを備えた液晶装置1を製造するのに必要な工程数やマスク枚数を減らすことができるので、液晶装置1の製造コストを低減することができる。
以上説明したように、本形態において、画素電極9aは、パッシベーション膜4に形成された第1のコンタクトホール81を介して薄膜トランジスタ1cのドレイン電極6bに接続し、保持容量1hを構成する保持容量電極7aと容量線3bとは、パッシベーション膜4において保持容量電極7aと重なる位置に形成された第2のコンタクトホール82と、ゲート絶縁膜2およびパッシベーション膜4において容量線3bと重なる位置に形成された第3のコンタクトホール83と、パッシベーション膜4の上層に形成されて第2のコンタクトホール82および第3のコンタクトホール83を介して保持容量電極7aおよび容量線3bに接続するブリッジ接続用導電膜9bとによって電気的に接続されている。このため、パッシベーション膜4を形成した後、コンタクトホール形成工程では第1、第2および第3のコンタクトホール81、82、83を同時形成するととともに、コンタクトホール形成工程の後、パッシベーション膜4の上層側に画素電極9aを形成する際、ブリッジ接続用導電膜9bを同時形成すればよい。従って、ゲート線3aおよび容量線3bの形成工程から画素電極9aの形成工程まで計6回のフォトリソグラフィ工程で済む。それ故、画素スイッチング用の薄膜トランジシタ1cおよび保持容量1hを備えた液晶装置1を製造するのに必要な工程数やマスク枚数を減らすことができるので、液晶装置1の製造コストを低減することができる。
また、本形態において、画素電極9a、保持容量電極7aおよびブリッジ接続用導電膜9bはいずれも、ITO膜(光透過性導電膜)からなるため、高い画素開口率を得ることができる。
[実施の形態2]
実施の形態1では、TNモード、ECBモード、VANモードのアクティブマトリクス型の液晶装置を例に説明したが、図5および図6を参照して説明するように、IPS(In−Plane Switching)モードの液晶装置(電気光学装置)に本発明を適用してもよい。
実施の形態1では、TNモード、ECBモード、VANモードのアクティブマトリクス型の液晶装置を例に説明したが、図5および図6を参照して説明するように、IPS(In−Plane Switching)モードの液晶装置(電気光学装置)に本発明を適用してもよい。
図5は、本発明の実施の形態1に係る液晶装置の第1の基板の電気的な構成を示す説明図である。図6(a)、(b)は、本形態の液晶装置の画素1つ分の平面図、およびA2−B2断面図である。なお、図6(a)でも、画素電極およびそれと同時形成された薄膜を太くて長い点線で示し、保持容量電極を二点鎖線で示し、ゲート線およびそれを同時形成された薄膜を実線で示し、ソース線およびそれを同時形成された薄膜を一点鎖線で示し、半導体膜を細くて短い点線で示してある。なお、本形態の液晶装置は、基本的な構成が実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示することにして、それらの説明を省略する。
図6および図7(a)、(b)に示すように、IPSモードの液晶装置1では、例えば、例えば、画素電極9aに対向する共通電極7bが第1の基板10上で容量線6bに接続している構成になっている。すなわち、IPSモードの液晶装置1でも、第1の基板10では、アルミニウムやクロムなどからなるゲート線3a、およびアルミニウムやクロムなどからなるソース線6aで囲まれた領域が画素1bとして構成され、画素1bには、ボトムゲート型の薄膜トランジスタ1cの能動層を構成するアモルファスシリコン膜からなる半導体膜5aが形成されている。また、ゲート線3aからの突出部分によってゲート電極が形成されている。薄膜トランジスタ1cの能動層を構成する半導体膜5aのうち、ソース側の端部にはソース線6aがソース電極として重なっており、ドレイン側の端部には、アルミニウムやクロムなどからなるドレイン電極6bが重なっている。また、ゲート線3aと並列して、アルミニウムやクロムなどからなる容量線3bが形成されている。ドレイン電極6bには第1のコンタクトホール81を介して、ITO膜からなる画素電極9aが接続している。また、画素1bには、画素電極9aと部分的に重なるようにITO膜からなる保持容量電極7aが形成されている。ここで、保持容量電極7aは、ドレイン電極6bおよび容量線3bのいずれからも側方にずれた位置に形成されている。
また、本形態では、画素電極9aが櫛歯状に形成されている一方、保持容量電極7aに対しては、櫛歯状の画素電極9aに対して横方向で対向する櫛歯状の共通電極7bが一体に形成されている。
このように構成した液晶装置1でも、実施の形態1と同様、第1の基板10上にゲート絶縁膜2とパッシベーション膜4とが積層され、パッシベーション膜4の上層に形成された画素電極9aは、ゲート絶縁膜2とパッシベーション膜4との層間に形成されたドレイン電極6bに対して、ドレイン電極6bと重なる位置に形成された第1のコンタクトホール81を介して接続している。また、本形態では、保持容量電極7aと容量線3bとは、直接、接続されておらず、パッシベーション膜4の上層に画素電極9aと同時形成された島状のブリッジ接続用導電膜9bを介して接続されている。すなわち、パッシベーション膜4において保持容量電極7aと重なる位置には第2のコンタクトホール82が形成されているとともに、ゲート絶縁膜2およびパッシベーション膜4には容量線3bと重なる位置に第3のコンタクトホール83が形成されており、島状のブリッジ接続用導電膜9bは、第2のコンタクトホール82を介して保持容量電極7aに接続しているとともに、第3のコンタクトホール83を介して容量線3bに接続している。このようにして、本形態では、保持容量電極7aおよびこの保持容量電極7aの電位を規定する容量線によって保持容量1hが構成されている。
その他の構成およびその製造方法は実施の形態1と同様であるため、説明を省略するが、本形態でも、実施の形態1と同様、ゲート線3aおよび容量線3bの形成工程から画素電極9aの形成工程まで計6回のフォトリソグラフィ工程で済む。それ故、画素スイッチング用の薄膜トランジシタ1cおよび保持容量1hを備えた液晶装置1を製造するのに必要な工程数やマスク枚数を減らすことができるので、液晶装置1の製造コストを低減することができる。また、画素電極9a、保持容量電極7aおよびブリッジ接続用導電膜9bはいずれも、ITO膜(光透過性導電膜)からなるため、高い画素開口率を得ることができる。
[その他の実施の形態]
上記実施の形態1、2では、容量線3bを用いて保持容量1hを構成したが、保持容量電極7aが属する画素1bに対して前段の画素1bのゲート線3aを保持容量電極7aと電気的に接続して保持容量1hを形成する場合に本発明を適用してもよい。
上記実施の形態1、2では、容量線3bを用いて保持容量1hを構成したが、保持容量電極7aが属する画素1bに対して前段の画素1bのゲート線3aを保持容量電極7aと電気的に接続して保持容量1hを形成する場合に本発明を適用してもよい。
また、上記実施の形態1、2では、ボトムゲート構造の薄膜トランジスタ1cをスイッチング素子として用いた液晶装置に本発明を適用したが、トップゲート構造の薄膜トランジスタ、あるいはTFD(Tin Film Diode)素子などの非線形素子をスイッチング素子として用いた液晶装置に本発明を適用してもよい。
[電子機器の実施形態]
図7は、本発明に係る液晶装置を各種の電子機器の表示装置として用いる場合の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、パーソナルコンピュータや携帯電話機などであり、表示情報出力源170、表示情報処理回路171、電源回路172、タイミングジェネレータ173、そして液晶装置1を有する。また、液晶装置1は、パネル175および駆動回路176を有しており、前述した液晶装置1を用いることができる。表示情報出力源170は、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等といったメモリ、各種ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ173によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路171に供給する。表示情報処理回路171は、シリアル−パラレル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像信号をクロック信号CLKと共に駆動回路176へ供給する。電源回路172は、各構成要素に所定の電圧を供給する。
図7は、本発明に係る液晶装置を各種の電子機器の表示装置として用いる場合の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、パーソナルコンピュータや携帯電話機などであり、表示情報出力源170、表示情報処理回路171、電源回路172、タイミングジェネレータ173、そして液晶装置1を有する。また、液晶装置1は、パネル175および駆動回路176を有しており、前述した液晶装置1を用いることができる。表示情報出力源170は、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等といったメモリ、各種ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ173によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路171に供給する。表示情報処理回路171は、シリアル−パラレル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像信号をクロック信号CLKと共に駆動回路176へ供給する。電源回路172は、各構成要素に所定の電圧を供給する。
1 液晶装置、1b 画素、1c 薄膜トランジスタ(スイッチング素子)、1f 液晶、1g 液晶容量、1h 保持容量、2 ゲート絶縁膜(第1の絶縁膜)、3a ゲート線(走査線)、3b 容量線(配線)、4 パッシベーション膜(第2の絶縁膜)、6a ソース線(データ線)、6b ドレイン電極、7a 保持容量電極、9a 画素電極、9b ブリッジ接続用導電膜、81 第1のコンタクトホール、82 第2のコンタクトホール、83 第3のコンタクトホール
Claims (7)
- スイッチング素子と、該スイッチング素子に電気的に接続された画素電極と、保持容量とが形成された第1の基板と、
該第1の基板との間に液晶を挟持する第2の基板とを有する液晶装置において、
前記第1の基板上に第1の絶縁膜と、該第1の絶縁膜の上層に積層された第2の絶縁膜とを備え、
前記画素電極は、前記第2の絶縁膜の上層に形成されて当該第2の絶縁膜に形成された第1のコンタクトホールを介して前記スイッチング素子に接続され、
前記保持容量は、前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜との層間で当該第2の絶縁膜を介して前記画素電極に重なる保持容量電極と、前記第1の絶縁膜の下層側に形成されて前記保持容量電極の電位を規定する配線とを備え、
前記保持容量電極と前記配線とは、前記第2の絶縁膜において前記保持容量電極と重なる位置に形成された第2のコンタクトホールと、前記第1の絶縁膜および前記第2の絶縁膜において前記配線と重なる位置に形成された第3のコンタクトホールと、前記第2の絶縁膜の上層に形成されて前記第2のコンタクトホールおよび前記第3のコンタクトホールを介して前記保持容量電極および前記配線に接続するブリッジ接続用導電膜とによって電気的に接続されていることを特徴とする液晶装置。 - 前記画素電極、前記保持容量電極および前記ブリッジ接続用導電膜はいずれも、光透過性導電膜であることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
- 前記スイッチング素子は、前記第1の絶縁膜をゲート絶縁膜とする薄膜トランジスタであって、
当該薄膜トランジスタに対するゲート線は、前記第1の絶縁膜の下層側に形成され、当該薄膜トランジスタに対するソース線およびドレイン電極は、前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜との層間に形成され、
前記配線は、前記ゲート線と並行して延びた容量線、あるいは前記保持容量電極が属する画素に対して前段に位置する画素のゲート線であることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶装置。 - 前記第2の基板上には、前記画素電極との間で前記液晶を駆動する対向電極が形成されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の液晶装置。
- 前記第1の基板上には、前記画素電極との間で前記液晶を駆動する共通電極が形成されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の液晶装置。
- スイッチング素子と、該スイッチング素子に電気的に接続された画素電極と、保持容量が形成された第1の基板と、
該第1の基板との間に液晶を挟持する第2の基板とを有する液晶装置の製造方法において、
前記第1の基板上に配線、第1の絶縁膜、保持容量電極、および第2の絶縁膜を順に形成していく複数の工程を有するとともに、
前記第2の絶縁膜を形成した後、前記第2の絶縁膜において当該第2の絶縁膜の下層側に形成されたスイッチング素子と重なる位置、前記第2の絶縁膜において前記保持容量電極と重なる位置、および前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜において前記配線と重なる位置の各々に対して第1、第2および第3のコンタクトホールを同時形成するコンタクトホール形成工程と、
該コンタクトホール形成工程の後、前記第2の絶縁膜の上層側に、前記第1のコンタクトホールを介して前記スイッチング素子に接続する前記画素電極を、前記第2のコンタクトホールおよび前記第3のコンタクトホールを介して前記保持容量電極および前記配線に接続するブリッジ接続用導電膜と同時形成する画素電極形成工程とを有することを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 前記スイッチング素子は、前記第1の絶縁膜をゲート絶縁膜とする薄膜トランジスタであって、
当該薄膜トランジスタに対するゲート線は、前記第1の絶縁膜の下層側に形成され、当該薄膜トランジスタに対するソース線およびドレイン電極は、前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜との層間に形成され、
前記配線は、前記ゲート線と並行して延びた容量線、あるいは前記保持容量電極が属する画素に対して前段に位置する画素のゲート線であることを特徴とする請求項6に記載の液晶装置の製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013146216A1 (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-03 | シャープ株式会社 | 半導体装置、半導体装置の製造方法および表示装置 |
JP2020519958A (ja) * | 2017-06-22 | 2020-07-02 | 深▲セン▼市▲華▼星光▲電▼半▲導▼体▲顕▼示技▲術▼有限公司 | フォトマスク構造及びアレイ基板の製造方法 |
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2005
- 2005-10-26 JP JP2005311406A patent/JP2007121530A/ja not_active Withdrawn
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