JP2011210858A - エキスパンド装置およびエキスパンド方法 - Google Patents

エキスパンド装置およびエキスパンド方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2011210858A
JP2011210858A JP2010075658A JP2010075658A JP2011210858A JP 2011210858 A JP2011210858 A JP 2011210858A JP 2010075658 A JP2010075658 A JP 2010075658A JP 2010075658 A JP2010075658 A JP 2010075658A JP 2011210858 A JP2011210858 A JP 2011210858A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive sheet
wafer
semiconductor wafer
convex portion
expanding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010075658A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5651361B2 (ja
Inventor
Yuta Kurosawa
祐太 黒澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lintec Corp
Original Assignee
Lintec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lintec Corp filed Critical Lintec Corp
Priority to JP2010075658A priority Critical patent/JP5651361B2/ja
Publication of JP2011210858A publication Critical patent/JP2011210858A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5651361B2 publication Critical patent/JP5651361B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

【課題】外縁部に凸部を有するウェハであっても、チップを的確にエキスパンドできる半導体ウェハのエキスパンド装置およびエキスパンド方法を提供する。
【解決手段】エキスパンド装置1は、接着シートSを介してウェハWを保持する保持手段2と、ウェハWおよび接着シートSから凸部WAを分離する分離手段4と、接着シートSをウェハWの面方向外側に引っ張ることでウェハWに形成された各チップWEの間隔を広げる引張手段7とを備えて構成されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、エキスパンド装置およびエキスパンド方法に関する。
従来、半導体製造工程において、裏面全域に接着シートが貼付された半導体ウェハ(以下、単にウェハという場合がある)を所定の形状、所定のサイズに切断して半導体チップに個片化し(ダイシング工程)、個片化したチップ同士の間隔を拡大してから(エキスパンド工程)、各チップをピックアップして基板にボンディングする(ボンディング工程)ことが行われている。このような各工程のうち、ダイシングされたチップをエキスパンドするエキスパンド装置が提案されている(例えば、特許文献1,2参照)。特許文献1,2に記載されたエキスパンド装置は、裏面全域が接着シートを介してリングフレームと一体化されたウェハを接着シート側から支持するとともに、ウェハに対して接着シートを外側に引き伸ばしてチップ間隔を拡大する構成がとられている。
一方、半導体製造工程における前記ダイシングの工程において、半導体チップを薄型化するためにウェハの裏面を研削することが行われており、この研削工程において、ウェハの内側を外縁部よりも深く研削することで、外縁部よりも内側が薄く形成され、つまり厚さ方向に突出した環状の凸部を外縁部に有するとともに当該凸部で囲まれた内側に底面を有する半導体ウェハが知られている(例えば、特許文献3参照)。
特開2005−57158号公報 特開平9−190988号公報 特開2007−19461号公報
ところで、特許文献3に記載されたようなウェハの場合、凸部を含むウェハの裏面全域に接着シートが貼付され、ダイシング工程で半導体チップに個片化される。このとき、ウェハは底壁部分の厚みに応じて切り込みCが施されるため、凸部に関しては切り込みCによって個片化されることはない(図1参照)。つまり、凸部は環状に連続した状態で残っている。このため、エキスパンド工程において接着シートを外側に引き伸ばしても、凸部が邪魔をしてエキスパンドできないという不都合がある。また、エキスパンド工程において接着シートを外側に引き伸ばした際に、凸部が割れてエキスパンドできる場合もあるが、凸部が均等に割れることは期待できず、不均等な割れ方をしてしまうことから、エキスパンドされたチップの間隔がばらついてしまい、正確にピックアップできず、ボンディングに支障をきたすという問題も生じる。
本発明の目的は、外縁部に凸部を有する半導体ウェハであっても、チップを的確にエキスパンドできるエキスパンド装置およびエキスパンド方法を提供することにある。
前記目的を達成するため、本発明のエキスパンド装置は、厚さ方向の一方に突出した環状の凸部を外縁部に有するとともに、当該凸部で囲まれた内側に底面を有する半導体ウェハに形成された各チップの間隔を広げるエキスパンド装置であって、前記半導体ウェハは、一方側に接着シートが貼付され、前記接着シートを介して前記半導体ウェハを保持する保持手段と、前記半導体ウェハおよび前記接着シートから前記凸部を分離する分離手段と、前記接着シートを半導体ウェハの面方向外側に引っ張ることで前記各チップの間隔を広げる引張手段とを備える、という構成を採用している。
この際、本発明のエキスパンド装置では、分離された前記凸部を前記接着シートから剥離して除去する除去手段を有して構成されている、ことが好ましい。
さらに、本発明のエキスパンド装置では、前記接着シートは、エネルギー線硬化型の接着シートであって、前記凸部表面に貼付された接着シートにエネルギー線を照射するエネルギー線照射手段を備える、ことが好ましい。
また、本発明のエキスパンド方法は、厚さ方向の一方に突出した環状の凸部を外縁部に有するとともに、当該凸部で囲まれた内側に底面を有する半導体ウェハに形成された各チップの間隔を広げるエキスパンド方法であって、前記半導体ウェハの一方側に貼付された接着シートを介して当該半導体ウェハを保持し、前記半導体ウェハおよび前記接着シートから当該凸部を分離し、前記接着シートを半導体ウェハの面方向外側に引っ張ることで前記半導体ウェハに形成された各チップの間隔を広げる、という構成を採用している。
以上のような発明によれば、エキスパンド工程に先立って凸部を取り除くことができるので、当該エキスパンド工程で接着シートを引き伸ばした際に、凸部が邪魔になるようなことがなくなり、チップを適正な間隔でエキスパンドすることができる。
また、分離された凸部を除去する除去手段を有することで、エキスパンド工程に先駆けて当該エキスパンド時に邪魔となる凸部を除去することができ、チップを確実にエキスパンドすることができる。
さらに、接着シートがエネルギー線硬化型のシートの場合に、エネルギー線照射手段によって凸部表面に貼付された接着シートにエネルギー線を照射することで、凸部表面の接着シートを硬化させて凸部を剥離しやすくでき、容易かつ確実に凸部を除去することができる。
本発明の実施形態に係るエキスパンド装置の部分断面図。 (A),(B)は、実施形態のエキスパンド装置の動作説明図。 変形例に係るエキスパンド装置の部分断面図。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図1において、エキスパンド装置1は、まず、ウェハW外縁部に形成された凸部WAを除去し、その後、チップWE間に適切な間隔を形成する装置である。なお、対象となるウェハWは、例えば、前記特許文献3に記載されたように、外縁部に対して内周部が薄く研削されることで、厚さ方向(裏面側)に突出した環状の凸部WAが外縁部に形成され、凸部WAで囲まれた内側が底面WBとされるとともに、その表面(研削面の反対側であり、図1の上側の面)WDに回路が形成されている。また、ウェハWは、ダイシング工程において、ダイシングブレードによって格子状の切り込みCが設けられ、所定形状のチップWEに個片化されたものや、レーザによってストリートが脆弱に改質されてチップWEに個片化可能なものである。凸部WAは、底面WBに直交する内周面WA1と、内周面WA1に直交した凸部頂面WA2と、ウェハWの外周面WA3と、表面WDの外周側領域であって、凸部頂面WA2に背向する凸部背向面WA4とからなる。そして、このウェハWは、裏面全域、つまり、凸部頂面WA2と内周面WA1および底面WB全域にマウント用テープ等の接着シートSが貼付され、この接着シートSを介してリングフレームRFと一体化されている。この接着シートSには、紫外線等のエネルギー線によって硬化し、その接着力が低下するエネルギー線硬化型の接着剤が採用されている。
エキスパンド装置1は、接着シートSを介してウェハWを保持する保持手段2と、ウェハWおよび接着シートSから凸部WAを分離する分離手段4と、接着シートSをウェハWの面方向外側に引っ張ることで各チップWEの間隔を拡げる引張手段7とを備えて構成されている。
保持手段2は、側壁部22および底壁部23からなり、上方に開口した円筒状の中央凹部21を備えている。側壁部22には、外周に沿って上方に開口した凹溝部24が設けられている。また、凹溝部24の開口には、側壁部22の上面とフラットとなる状態で、凸部頂面WA2の下方に対向するとともに、紫外線等のエネルギー線を透過可能なガラス板等からなる透過部材25が設けられている。なお、側壁部22の上面と透過部材25の上面とによって、凸部頂面WA2に貼付されている接着シートSが当接する凸部当接部26が構成されている。また、凹溝部24内部には、エネルギー線照射手段としての紫外線ランプ27が内蔵されている。さらに、側壁部22の下端には、鍔状に突出する鍔部28が設けられている。
分離手段4は、接着シートSを介して底面WBを保持する底面保持手段40と、この底面保持手段40と凸部当接部26とを図中上下方向に相対移動させることでウェハWから凸部WAを分離する移動手段50と、ウェハWの表面WDを押さえる押え手段60と、分離された凸部WAを接着シートSから剥離して除去する除去手段8と、を備えている。
底面保持手段40は、底面WBの全域と略同一平面形状に形成されている。この底面保持手段40の上面には、接着シートSの底面WBに貼付されている部分である底面貼付部分S1を介して底面WBを吸着保持する複数の吸引口41が形成され、これら複数の吸引口41は、底面保持手段40内部に形成されたチャンバー42を介して図示しない吸引ポンプ等の吸引装置に接続されている。
移動手段50は、駆動機器としての直動モータ51を備え、そのモータ本体52が底壁部23に固定されるとともに、出力軸53が底面保持手段40の図1中下面に連結されている。これにより、保持手段2と底面保持手段40とをウェハWの底面WBに直交する方向に相対移動させてウェハWから凸部WAを分離可能となっている。
押え手段60は、ウェハWの底面WBの平面形状に合わせて円盤状に形成された支持体61と、この支持体61の図1中下面外周縁に沿って環状に形成されてウェハWの表面WDに当接可能な当接部材62と、図示しないフレームに支持されて支持体61を図1中上下方向に昇降させる駆動機器としての直動モータ63とを備え、直動モータ63が直動モータ51と同期して作動することで、ウェハWから凸部WAを分離可能となっている。支持体61における当接部材62の外周側には、複数の孔若しくは円環状の孔からなり、図示しない吸引源に連結されて塵や埃、ウェハWの破片等の塵埃を吸引して除去する塵埃除去手段としての吸引孔61Aが設けられている。なお、塵埃除去手段は、塵埃を除去する限りにおいて何ら限定されることはなく、例えば、接着テープによって塵埃を接着して除去してもよいし、大気や窒素等の気体をウェハW側に吹き付けることによって塵埃を除去するように構成してもよい。また、当接部材62の外周側だけに限らず、当接部材62の内側に設けてもよい。当接部材62は、特に限定されることはないが、ゴムや樹脂等の弾性部材によって構成され、ウェハWの表面WDにおける凸部背向面WA4との境界領域の内側に位置し、底面保持手段40との間に底面WB領域を挟み込み可能に設けられている。なお、当接部材62は、環状以外に底面WBの平面形状に合わせて円盤状(中実状)に形成してもよい。また、当接部材62は、金属等の非弾性部材によって構成してもよい。
除去手段8は、支持体61の図1中上面に設けられたブラケット80Aと、このブラケット80Aに対して図1中上下方向に摺動可能に設けられるとともに、ブラケット80Aからの脱落を防止するシャフトエンド80Bを有するシャフト80Cと、シャフト80Cを図1中下方に付勢する巻ばね等で構成された付勢手段80Dと、図示しない吸引ポンプ等の吸引手段に連通されるとともに、シャフト80Cの図1中下方に取り付けられた吸着パッド80Eと、を備えている。
引張手段7は、リングフレームRFを図1中下方から支持する外側テーブル75と、この外側テーブル75を図中上下方向に移動させる駆動手段70と、外側テーブル75の外周面の少なくとも図中左右両側面の上端に設けられた断面視略L字形状のフレーム保持手段90と、を備える。駆動手段70は、鍔部28の図1中上方に設けられ、その出力軸73が外側テーブル75に接続された駆動機器としての直動モータ72を備える。また、フレーム保持手段90は、図示しないモータ等の駆動機器によって回動可能に設けられ、外側テーブル75上にリングフレームRFを固定可能に設けられている。また、外側テーブル75は、側壁部22に嵌合可能な円環状に形成されており、直動モータ71により、その上面が凸部当接部26と同一面となる初期位置と、この初期位置よりも下方の下降位置との間で昇降可能となっていることで、接着シートSをウェハWの面方向外側に引っ張り、各チップWEの間隔を広げることが可能に設けられている。
以上のエキスパンド装置1において、チップWEをエキスパンドする手順としては、まず、接着シートSを介してリングフレームRFと一体化されたウェハWを図示しない搬送手段によって搬送し、底面保持手段40上に底面WCを位置させると、凸部当接部26上に凸部頂面WA2が位置し、かつ外側テーブル75上にリングフレームRFが位置した状態で保持手段2上に支持される。次に、保持手段2は、図示しない吸引装置を駆動して吸引口41から空気を吸引し、接着シートSを介して底面保持手段40で底面WBを吸着保持する。そして、フレーム保持手段90を図1中二点鎖線で示す位置から、実線で示す位置に回動させて、外側テーブル75とでリングフレームRFを保持する。次いで、紫外線ランプ27が発光することで、凸部頂面WA2に貼付された接着シートS部分の接着剤を硬化させてその接着力を低下させる。
次に、図2(A)に示すように、直動モータ63が駆動して当接部材62と吸着パッド80EとをウェハWの表面WDに当接させる。その後、吸引口41で底面WBを吸着保持したままで、直動モータ51と直動モータ63とを同期駆動し、当接部材62と底面保持手段40とを凸部当接部26に対して下降させることで、ウェハWの表面WDにおける凸部背向面WA4との境界が割れ、ウェハWから凸部WAが分離する。このとき、ウェハWが割れて塵埃を発生する場合があるが、吸引孔61Aによって、塵埃を吸引して除去することができるので、ウェハWの表面WDに塵埃が付着するような不都合を回避することができる。吸着パッド80Eは、付勢手段80Dの付勢力に抗して同図中上方に押し上げられると同時に、図示しない吸引手段によって吸引力が付与されて凸部WAを吸着保持する。次いで、直動モータ63が駆動することで、凸部WAを吸着保持した状態で、当接部材62と吸着パッド80EとがウェハWの表面WDから離間させる。このとき、凸部頂面WA2に貼付された接着シートS部分に紫外線が照射されているので、凸部WAを簡単に接着シートSから剥離して除去することができる。
その後、吸引口41の吸引を停止し、直動モータ72により外側テーブル75を初期位置から下降位置へ下降させることにより、凸部WAが除去されて底面保持手段40上に残されたウェハW’は、図2(B)に示すように、接着シートSがウェハWの面方向外側に引っ張られ、切り込みC部分でそれぞれのチップWEの間隔が拡がりエキスパンドが施される。なお、レーザによってストリートが脆弱に改質されているウェハWの場合、接着シートSがウェハWの面方向外側に引っ張られることで脆弱なストリートが割れ、それぞれのチップWEの間隔が拡がりエキスパンドが施される。それぞれのチップWEの間隔が所定の間隔となったことが図示しないセンサ等によって検出されると、直動モータ72の下降が停止され、それぞれのチップWEは、適宜なボンディング装置によってピックアップされて基板にボンディングされることとなる。
以上のような、実施形態によれば、エキスパンド工程の前の段階で凸部WAを除去することができるので、エキスパンド工程において凸部WAが邪魔になることがなく、各チップWEを適正な間隔でエキスパンドすることができ、所定位置にエキスパンドされたチップWEを確実にピックアップして効率よくボンディングを実施することができる。
以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示され、かつ説明されているが、本発明の技術的思想および目的の範囲から逸脱することなく、以上述べた実施形態に対し、形状、材質、数量、その他の詳細な構成において、当業者が様々な変形を加えることができるものである。また、上記に開示した形状、材質などを限定した記載は、本発明の理解を容易にするために例示的に記載したものであり、本発明を限定するものではないから、それらの形状、材質などの限定の一部もしくは全部の限定を外した部材の名称での記載は、本発明に含まれるものである。
例えば、前記実施形態では、ウェハWの底面WBを下降させて凸部WAと底面WBとを分離したが、図3に示すように、凸部当接部26を駆動機器としての直動モータ82Aを介して図3中上下方向に昇降可能に構成し、底面WBを下降させることなく凸部WAを上昇させて凸部WAと底面WBとを分離するように構成してもよい。また、底面WBを下降させるとともに、凸部WAを上昇させて凸部WAと底面WBとを分離するように構成してもよい。
また、前記実施形態では、リングフレームRFを下降させることで、接着シートSをウェハWの面方向外側に引き伸ばしたが、接着シートSを下降させることなく、接着シートSをウェハWの面方向外側に引っ張ることで、それぞれのチップWEの間隔を拡げるように構成してもよい。
さらに、前記実施形態におけるエネルギー線照射手段(紫外線ランプ27)は、本発明の必須要件ではなく、省略することができる。
また、前記実施形態では、保持手段2において、ウェハWを吸着保持するように構成したが、本発明においてウェハWを保持する手段としては、吸着保持に限らず、例えばチャック手段を用いた保持など、他の適宜な保持手段が利用可能である。これと同様に、除去手段8でも吸着保持以外の支持手段として、他の接着シート等を凸部に貼付して引っ張ったり、係合手段で凸部を係合して引っ張ったりなど、適宜な凸部支持手段が利用可能である。
さらに、前記実施形態において、外側テーブル75に回動可能に設けられた外側保持手段90でリングフレームRFを保持する構成としたが、吸着保持してもよい。
また、前記実施形態において、外側テーブル75を下降させずに、底面保持手段40を図1に示す位置よりも上昇させることで、エキスパンドしてもよい。
さらに、ウェハWは、シリコン半導体ウェハや化合物半導体ウェハであってもよい。
また、前記実施形態では、除去手段8を押え手段60に取り付けた構成としたが、除去手段8を押え手段60から分離し、独立して動作可能に構成してもよい。
さらに、底面保持手段40の上面がエネルギー線を透過可能な構成とし、チャンバー42内に前記実施形態と同様のエネルギー線照射手段を配置してもよい。これにより、各チップWEを簡単に接着シートSからピックアップすることができる。
また、エネルギー線照射手段は、紫外線を照射するものに限らず、電子線など適宜なエネルギー線を照射して接着シートを硬化させるものであればよい。
さらに、ウェハWが予め複数のチップWEに個片化可能でないものを対象とし、当該ウェハWから凸部WAを除去した後に、ダイシングブレードやレーザ等によって複数のチップWEに個片化可能としてもよい。
また、前記実施形態における駆動機器は、回動モータ、直動モータ、単軸ロボット、多関節ロボット等の電動機器、エアシリンダ、油圧シリンダ、ロッドレスシリンダ及びロータリシリンダ等のアクチュエータ等を採用することができる(実施形態で例示したものと重複するものもある)。
1…エキスパンド装置
2…保持手段
4…分離手段
7…引張手段
8…除去手段
27…紫外線ランプ(エネルギー線照射手段)
S…接着シート
W…半導体ウェハ
WA…凸部
WB…底面

Claims (4)

  1. 厚さ方向の一方に突出した環状の凸部を外縁部に有するとともに、当該凸部で囲まれた内側に底面を有する半導体ウェハに形成された各チップの間隔を広げるエキスパンド装置であって、
    前記半導体ウェハは、一方側に接着シートが貼付され、
    前記接着シートを介して前記半導体ウェハを保持する保持手段と、
    前記半導体ウェハおよび前記接着シートから前記凸部を分離する分離手段と、
    前記接着シートを半導体ウェハの面方向外側に引っ張ることで前記各チップの間隔を広げる引張手段とを備えることを特徴とするエキスパンド装置。
  2. 分離された前記凸部を前記接着シートから剥離して除去する除去手段を有して構成されていることを特徴とする請求項1に記載のエキスパンド装置。
  3. 前記接着シートは、エネルギー線硬化型の接着シートであって、
    前記凸部表面に貼付された接着シートにエネルギー線を照射するエネルギー線照射手段を備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のエキスパンド装置。
  4. 厚さ方向の一方に突出した環状の凸部を外縁部に有するとともに、当該凸部で囲まれた内側に底面を有する半導体ウェハに形成された各チップの間隔を広げるエキスパンド方法であって、
    前記半導体ウェハの一方側に貼付された接着シートを介して当該半導体ウェハを保持し、
    前記半導体ウェハおよび前記接着シートから当該凸部を分離し、
    前記接着シートを半導体ウェハの面方向外側に引っ張ることで前記半導体ウェハに形成された各チップの間隔を広げることを特徴とするエキスパンド方法。
JP2010075658A 2010-03-29 2010-03-29 エキスパンド装置およびエキスパンド方法 Active JP5651361B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010075658A JP5651361B2 (ja) 2010-03-29 2010-03-29 エキスパンド装置およびエキスパンド方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010075658A JP5651361B2 (ja) 2010-03-29 2010-03-29 エキスパンド装置およびエキスパンド方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011210858A true JP2011210858A (ja) 2011-10-20
JP5651361B2 JP5651361B2 (ja) 2015-01-14

Family

ID=44941624

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010075658A Active JP5651361B2 (ja) 2010-03-29 2010-03-29 エキスパンド装置およびエキスパンド方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5651361B2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014093493A (ja) * 2012-11-07 2014-05-19 Lintec Corp シート貼付装置及び貼付方法
JP2014154642A (ja) * 2013-02-06 2014-08-25 Disco Abrasive Syst Ltd 紫外線照射装置
JP2016157903A (ja) * 2015-02-26 2016-09-01 株式会社ディスコ ウエーハの分割方法及びチャックテーブル
JP2017103493A (ja) * 2017-03-07 2017-06-08 大日本印刷株式会社 粘着剤硬化装置および粘着剤硬化方法
KR20180123958A (ko) * 2017-05-10 2018-11-20 린텍 가부시키가이샤 이간 장치 및 이간 방법
KR20180130430A (ko) * 2017-05-29 2018-12-07 린텍 가부시키가이샤 이간 장치 및 이간 방법

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004335909A (ja) * 2003-05-12 2004-11-25 Tokyo Seimitsu Co Ltd 板状部材の分割方法及び分割装置
JP2008294287A (ja) * 2007-05-25 2008-12-04 Nitto Denko Corp 半導体ウエハの保持方法
JP2010062375A (ja) * 2008-09-04 2010-03-18 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの加工方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004335909A (ja) * 2003-05-12 2004-11-25 Tokyo Seimitsu Co Ltd 板状部材の分割方法及び分割装置
JP2008294287A (ja) * 2007-05-25 2008-12-04 Nitto Denko Corp 半導体ウエハの保持方法
JP2010062375A (ja) * 2008-09-04 2010-03-18 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの加工方法

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014093493A (ja) * 2012-11-07 2014-05-19 Lintec Corp シート貼付装置及び貼付方法
JP2014154642A (ja) * 2013-02-06 2014-08-25 Disco Abrasive Syst Ltd 紫外線照射装置
JP2016157903A (ja) * 2015-02-26 2016-09-01 株式会社ディスコ ウエーハの分割方法及びチャックテーブル
JP2017103493A (ja) * 2017-03-07 2017-06-08 大日本印刷株式会社 粘着剤硬化装置および粘着剤硬化方法
KR20180123958A (ko) * 2017-05-10 2018-11-20 린텍 가부시키가이샤 이간 장치 및 이간 방법
CN108878311A (zh) * 2017-05-10 2018-11-23 琳得科株式会社 分离装置及分离方法
JP2018190886A (ja) * 2017-05-10 2018-11-29 リンテック株式会社 離間装置および離間方法
KR102398710B1 (ko) 2017-05-10 2022-05-16 린텍 가부시키가이샤 이간 장치 및 이간 방법
CN108878311B (zh) * 2017-05-10 2023-09-26 琳得科株式会社 分离装置及分离方法
KR20180130430A (ko) * 2017-05-29 2018-12-07 린텍 가부시키가이샤 이간 장치 및 이간 방법
KR102396892B1 (ko) 2017-05-29 2022-05-11 린텍 가부시키가이샤 이간 장치 및 이간 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP5651361B2 (ja) 2015-01-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5651361B2 (ja) エキスパンド装置およびエキスパンド方法
JP4739900B2 (ja) 転着装置及び転着方法
EP2058850B1 (en) Semiconductor substrate jig and method of manufacturing a semiconductor device
JP5253996B2 (ja) ワーク分割方法およびテープ拡張装置
CN101529575A (zh) 芯片的拾取方法及拾取装置
CN101529577A (zh) 固定夹具及芯片的拾取方法以及拾取装置
CN107452609B (zh) 晶片的加工方法
JP6013806B2 (ja) ウエーハの加工方法
EP2631938A1 (en) Sheet adhesion device and adhesion method
JP4680693B2 (ja) 板状部材の分割装置
JP2016178244A (ja) シート剥離装置および剥離方法、並びに、シート転写装置
JP5651362B2 (ja) ダイシング装置およびダイシング方法
JP5912805B2 (ja) 板状物の転写方法
JP7231548B2 (ja) 薄型化板状部材の製造方法、及び製造装置
JP5961047B2 (ja) ウエーハの加工方法
JP4238669B2 (ja) エキスパンド方法及びエキスパンド装置
JP5992803B2 (ja) シート貼付装置及び貼付方法
JP5660909B2 (ja) 環状凸部除去装置及び環状凸部除去方法
JP5346773B2 (ja) 半導体ウェハの凸部除去装置および除去方法
JP5346774B2 (ja) 半導体ウェハの凸部除去装置および除去方法
JP2010123806A (ja) 支持装置、支持方法、ダイシング装置、およびダイシング方法
JP2010192510A (ja) ワークの移載方法および移載装置
JP5973203B2 (ja) シート貼付装置および貼付方法
JP6176627B2 (ja) フォトマスクの製造方法
JP5869245B2 (ja) シート貼付装置及びシート貼付方法並びに転写装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130111

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140123

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140204

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140403

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140701

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20141111

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20141117

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5651361

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250