JP2011192987A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板上のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムとを含む。投影システムの光学素子は調節可能である。リソグラフィ装置は、調節可能な光学素子を制御するためのコントローラを含む。コントローラは、パターニングデバイスの曲げから生じる拡大を少なくとも部分的に補償するように光学素子を駆動するように構成される。
【選択図】図2
Description
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、
パターニングデバイスにトルクまたは力を加えるように構成されたアクチュエータと、
アクチュエータに接続され、投影システムの像面湾曲エラーを決定し、決定された像面湾曲エラーを少なくとも部分的に補償するようにパターニングデバイスにトルクまたは力を加えるようにアクチュエータを駆動するように構成されたコントローラと、
を含むリソグラフィ装置が提供される。
1.ステップモードでは、パターニングデバイス支持体(例えばマスクテーブル)MT、すなわち、「マスク支持体」および基板テーブルWT、すなわち、「基板支持体」を基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一静的露光)。その後、基板テーブルWT、すなわち、「基板支持体」は、Xおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cを露光することができる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光時に結像されるターゲット部分Cのサイズが限定される。
2.スキャンモードでは、パターニングデバイス支持体(例えばマスクテーブル)MT、すなわち、「マスク支持体」および基板テーブルWT、すなわち、「基板支持体」を同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。パターニングデバイス(例えばマスクテーブル)MT、すなわち、「マスク支持体」に対する基板テーブルWT、すなわち、「基板支持体」の速度および方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率および像反転特性によって決めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光時のターゲット部分の幅(非スキャン方向)が限定される一方、スキャン動作の長さによって、ターゲット部分の高さ(スキャン方向)が決まる。
3.別のモードでは、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、パターニングデバイス支持体(マスクテーブル)MT、すなわち、「マスク支持体」を基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWT、すなわち、「基板支持体」を動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。このモードでは、通常、パルス放射源が採用され、また、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWT、すなわち、「基板支持体」の移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (18)
- 放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムであって、調節可能な光学素子を含む、投影システムと、
前記パターニングデバイスにトルクまたは力を加えるアクチュエータと、
前記アクチュエータおよび前記調節可能な光学素子に接続され、前記パターニングデバイスにトルクまたは力を加えるように前記アクチュエータを駆動し、かつ、前記パターニングデバイスの曲げに従って前記調節可能な光学素子を駆動するコントローラと、を含み、
前記コントローラは、前記曲げから生じる前記パターニングデバイスの拡大を少なくとも部分的に補償するように前記調節可能な光学素子を駆動する、リソグラフィ装置。 - 前記パターニングデバイスの曲げを測定するように構成されたセンサを含み、前記センサのセンサ出力信号は、前記コントローラに供給される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コントローラは、
前記基板の高さマップから前記パターニングデバイスの所望の曲げを決定し、
前記所望の曲げに対応して前記アクチュエータを駆動し、
前記パターニングデバイスの前記曲げから生じる前記拡大を少なくとも部分的に補償するように前記光学素子を駆動する、請求項1または2のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記コントローラは、
前記センサ出力信号から前記パターニングデバイスの曲げを導出し、
前記パターニングデバイスの前記導出された曲げに応答して前記光学素子を駆動する、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記支持体は、前記パターニングデバイスを支持するために、3点の懸架を含む、請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アクチュエータは、前記支持体と前記パターニングデバイスとの間に配置され、前記アクチュエータは、
前記パターニングデバイスに接触する接触部を含み、
前記接触部は、バネとアクチュエータ素子の並列接続によって保持される、請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記バネはリーフバネを含む、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アクチュエータ素子は、圧電素子および弾性の直列接続を含む、請求項6または7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記接触部は、真空クランプ領域を含む、請求項6から8のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記接触部は、前記パターニングデバイスに接触する2つの接触ピンを含む、請求項6から9のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 複数のアクチュエータが、スキャン方向に沿って前記パターニングデバイスの両側に配置される、請求項1乃至10のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
前記パターニングデバイスにトルクまたは力を加えるアクチュエータと、
前記アクチュエータに接続され、前記投影システムの像面湾曲エラーを決定し、前記決定された像面湾曲エラーを少なくとも部分的に補償するように前記パターニングデバイスにトルクまたは力を加えるように前記アクチュエータを駆動するようコントローラと、
を含むリソグラフィ装置。 - 前記コントローラは、前記投影システムの少なくとも一部の温度測定から前記像面湾曲エラーを決定する、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コントローラは、少なくとも1回のアライメント測定から前記像面湾曲エラーを決定する、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- パターニングデバイスによって放射ビームのパターンを付けてパターン付き放射ビームを形成することと、
投影システムによって前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影することと、
アクチュエータによって前記パターニングデバイスにトルクまたは力を加えることと、
前記パターニングデバイスの曲げに従って前記投影システム光学素子を調節することと、
を含み、
前記投影システムの前記光学素子を調節することは、前記パターニングデバイスの曲げから生じる拡大を少なくとも部分的に補償する、デバイス製造方法。 - 前記パターニングデバイスの前記曲げは、センサによって測定される、請求項15に記載の方法。
- 前記基板の高さマップから前記パターニングデバイスの所望の曲げを決定することと、
前記所望の曲げに対応して前記アクチュエータを駆動することと、
前記パターニングデバイスの前記曲げから生じる前記拡大を少なくとも部分的に補償するように前記光学素子を駆動することと、
をさらに含む、請求項15または16のいずれか一項記載の方法。 - 前記センサのセンサ出力信号から前記パターニングデバイスの曲げを導出することと、
前記パターニングデバイスの前記導出された曲げに応答して前記光学素子を駆動することと、
をさらに含む、請求項15から17のいずれか一項に記載の方法。
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