JP2008270491A - ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明は、ステージを有し、ステージを少なくとも第1方向に移動させるステージ装置であって、第1方向に延びるようにステージに固定された保持部を備える。保持部は、物品を保持する保持面を有する第1部分と、第1部分とステージとの間に配置された第2部分とを含み、第1方向における第2部分の長さは第1部分の長さ未満である。
【選択図】図5a
Description
図1は、本発明に係るステージ装置の一例を露光装置の原版ステージ(レチクルステージ)に適用した実施形態の装置全体を示す図である。照明光学系1で、露光光を光源から導出し成形均一な露光光とする。レチクルステージ2に原版(レチクル)を搭載し、露光光に対して原版(レチクル)をスキャン露光させる。投影光学系3で原版(レチクル)上のパターンをシリコン基板より成るウエハ上に投影転写する。ウエハステージ4は、シリコン基板であるウエハを搭載し、レチクルステージ2と同期して露光光に対してスキャン移動露光する。露光装置本体5は、レチクルステージ2、投影光学系3、ウエハステージ4等を支持する。原版(レチクル)6には、投影パターンが形成されている。
投影光学系3は、複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子と凹面鏡とを有する光学系(カタディオプトリック光学系)、複数のレンズ素子とキノフォーム等の回折光学素子とを有する光学系、全ミラー型の光学系等を使用することができる。
レチクルステージ2及びウエハステージ4は、例えばリニアモータによって移動可能である。ステップアンドスキャン投影露光方式の場合には、それぞれのステージは同期して移動する。また、レチクルのパターンをウエハ上に位置合わせするためにウエハステージおよびレチクルステージの少なくともいずれかに別途アクチュエータを備える。このような露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用されうる。
次に、図9及び図10を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図9は、デバイス(ICやLSIなどの半導体チップ、LCD、CCD等)の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
Claims (7)
- ステージを有し、前記ステージを少なくとも第1方向に移動させるステージ装置であって、
前記第1方向に延びるように前記ステージに固定された保持部を備え、
前記保持部は、物品を保持する保持面を有する第1部分と、前記第1部分と前記ステージとの間に配置された第2部分とを含み、
前記第1方向における前記第2部分の長さは前記第1部分の長さ未満であることを特徴とするステージ装置。 - 前記保持部は、前記第2部分と前記ステージとの間に配置された第3部分をさらに含み、
前記第1方向における前記第2部分の長さは前記第3部分の長さ未満であることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。 - 前記第2部分は、前記第1部分と前記第3部分とを弾性ヒンジ結合で接続することを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。
- 前記第1方向における前記第2部分の長さは前記第1部分の長さの70%以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 原版に描かれたパターンを、投影光学系を介して基板に投影転写する露光装置であって、
前記原版を支持し移動する原版ステージ装置を備え、
前記原版ステージ装置が、請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のステージ装置を含むことを特徴とする露光装置。 - 原版に描かれたパターンを、投影光学系を介して基板に投影転写する露光装置であって、
粗動ステージ装置と、前記粗動ステージの上で移動する微動ステージ装置とを備え、
前記微動ステージ装置が、請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のステージ装置を含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項5又は請求項6に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記露光された基板を現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010123694A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-06-03 | Canon Inc | 走査露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2011192987A (ja) * | 2010-03-11 | 2011-09-29 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2014194521A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-10-09 | Nuflare Technology Inc | 試料支持装置 |
JP2017227914A (ja) * | 2012-12-12 | 2017-12-28 | 大日本印刷株式会社 | 露光用部材、露光マスクの保持部材 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017089214A1 (en) | 2015-11-23 | 2017-06-01 | Asml Netherlands B.V. | Positioning device, lithographic apparatus and device manufacturing method |
WO2023217553A1 (en) * | 2022-05-12 | 2023-11-16 | Asml Netherlands B.V. | A movable stage for a lithographic apparatus |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000106344A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-04-11 | Canon Inc | ステ―ジ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびにステ―ジ駆動方法 |
JP2003324053A (ja) * | 2002-04-30 | 2003-11-14 | Nikon Corp | ステージ装置および露光装置 |
JP2005093654A (ja) * | 2003-09-17 | 2005-04-07 | Canon Inc | ステージ装置、該ステージ装置を用いた露光装置および該露光装置を用いたデバイス製造方法 |
WO2005074015A1 (ja) * | 2004-01-29 | 2005-08-11 | Nikon Corporation | 板部材の支持方法、板部材支持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
JP2005243751A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Canon Inc | 位置決め装置 |
JP2006041302A (ja) * | 2004-07-29 | 2006-02-09 | Canon Inc | 露光装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001201846A (ja) * | 2000-01-21 | 2001-07-27 | Nikon Corp | 枠部材、マスクと露光装置 |
JP4411100B2 (ja) * | 2004-02-18 | 2010-02-10 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
JP4298547B2 (ja) * | 2004-03-01 | 2009-07-22 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置およびそれを用いた露光装置 |
JP2006261156A (ja) * | 2005-03-15 | 2006-09-28 | Canon Inc | 原版保持装置およびそれを用いた露光装置 |
-
2007
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2008
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000106344A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-04-11 | Canon Inc | ステ―ジ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびにステ―ジ駆動方法 |
JP2003324053A (ja) * | 2002-04-30 | 2003-11-14 | Nikon Corp | ステージ装置および露光装置 |
JP2005093654A (ja) * | 2003-09-17 | 2005-04-07 | Canon Inc | ステージ装置、該ステージ装置を用いた露光装置および該露光装置を用いたデバイス製造方法 |
WO2005074015A1 (ja) * | 2004-01-29 | 2005-08-11 | Nikon Corporation | 板部材の支持方法、板部材支持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
JP2005243751A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Canon Inc | 位置決め装置 |
JP2006041302A (ja) * | 2004-07-29 | 2006-02-09 | Canon Inc | 露光装置 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010123694A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-06-03 | Canon Inc | 走査露光装置およびデバイス製造方法 |
US8400611B2 (en) | 2008-11-18 | 2013-03-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning exposure apparatus and device manufacturing method |
JP2011192987A (ja) * | 2010-03-11 | 2011-09-29 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
US8755030B2 (en) | 2010-03-11 | 2014-06-17 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2017227914A (ja) * | 2012-12-12 | 2017-12-28 | 大日本印刷株式会社 | 露光用部材、露光マスクの保持部材 |
JP2014194521A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-10-09 | Nuflare Technology Inc | 試料支持装置 |
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