JP2011057666A - 含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ペルフルオロアルキルスルホニルフロライド(Rf1SO2F)とアンモニアとを反応させて反応液を得る第1の工程と、前記反応液とLi,Na,Kのいずれかのアルカリ金属元素Mの、水酸化物、炭酸塩、及び重炭酸塩の中から選ばれた少なくとも1種のアルカリ金属化合物とを反応させて、ペルフルオロアルキルスルホンアミドのアルカリ金属塩(Rf1SO2NH・M)を含む混合物を得る第2の工程と、前記混合物とペルフルオロアルキルスルホニルハライド(Rf2SO2X)とを反応させる第3の工程と、を備える含フッ素スルホニルイミド化合物((Rf1SO2)(Rf2SO2)N・M)の製造方法を採用する。但し、Rf1及びRf2は炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のペルフルオロアルキル基であり、Xはフッ素又は塩素である。
【選択図】なし
Description
[1] 下記式(4)に示される含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法であって、
下記式(5)に示されるペルフルオロアルキルスルホニルフロライドとアンモニアとを反応させて反応液を得る第1の工程と、
前記反応液と、Li,Na,Kのいずれかのアルカリ金属元素Mの、水酸化物、炭酸塩、及び重炭酸塩の中から選ばれた少なくとも1種のアルカリ金属化合物と、を反応させて、下記式(6)に示されるペルフルオロアルキルスルホンアミドのアルカリ金属塩を含む混合物を得る第2の工程と、
前記混合物と、下記式(7)に示されるペルフルオロアルキルスルホニルハライドと、を反応させる第3の工程と、を備えることを特徴とする含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。
(Rf1SO2)(Rf2SO2)N・M ・・・(4)
Rf1SO2F ・・・(5)
Rf1SO2NH・M ・・・(6)
Rf2SO2X ・・・(7)
但し、上記式(4)〜(7)において、Rf1及びRf2は炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のペルフルオロアルキル基である。
また、上記式(7)において、Xはフッ素(F)又は塩素(Cl)である。
上記式(5)に示されるペルフルオロアルキルスルホニルフロライドとアンモニアとを反応させて、下記式(8)に示されるペルフルオロアルキルスルホンアミドのアンモニウム塩とフッ化アンモニウムとを含む反応液を得る第1の工程と、
前記反応液と、Li,Na,Kのいずれかのアルカリ金属元素Mの、水酸化物、炭酸塩、及び重炭酸塩の中から選ばれた少なくとも1種のアルカリ金属化合物と、を反応させて、上記式(6)に示されるペルフルオロアルキルスルホンアミドのアルカリ金属塩と、下記式(9)に示されるアルカリ金属フッ化物と、を含む混合物を得る第2の工程と、
前記混合物と、上記式(7)に示されるペルフルオロアルキルスルホニルハライドと、を反応させる第3の工程と、を備えることを特徴とする前項1に記載の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。
Rf1SO2NH・NH4 ・・・(8)
MF ・・・(9)
但し、上記式(8)において、Rf1は炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のペルフルオロアルキル基である。
前記第2の工程において、前記反応液と前記アルカリ金属化合物との反応を前記水溶液中で行うことを特徴とする前項1又2に記載の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。
[4] 前記第2の工程において発生するアンモニアを回収して前記第1の工程に供給する第4の工程を、さらに備えることを特徴とする前項1乃至3のいずれか一項に記載の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。
[6] 前記アンモニア水の、前記ペルフルオロアルキルスルホニルフロライドに対するモル量が3〜20倍の範囲であることを特徴とする前項1乃至5のいずれか一項に記載の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。
[7] 前記ペルフルオロアルキルスルホニルフロライドと、前記アンモニア水と、の反応温度が、0〜70℃の範囲であることを特徴とする前項1乃至6のいずれか一項に記載の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。
本実施形態のペルフルオロアルキルスルホンイミド塩の製造方法は、下記式(10)に示されるペルフルオロアルキルスルホンイミド塩を製造する方法であって、下記式(11)に示されるペルフルオロアルキルスルホニルフロライドとアンモニアとを反応させて反応液を得る第1の工程と、前記反応液と、Li,Na,Kのいずれかのアルカリ金属元素Mの、水酸化物、炭酸塩、及び重炭酸塩の中から選ばれた少なくとも1種のアルカリ金属化合物と、を反応させて、下記式(12)に示されるペルフルオロアルキルスルホンアミドのアルカリ金属塩を含む混合物を得る第2の工程と、前記混合物と、下記式(13)に示されるペルフルオロアルキルスルホニルハライドと、を反応させる第3の工程と、を備えて概略構成されている。
(Rf1SO2)(Rf2SO2)N・M ・・・(10)
Rf1SO2F ・・・(11)
Rf1SO2NH・M ・・・(12)
Rf2SO2X ・・・(13)
但し、上記式(10)〜(13)において、Rf1及びRf2は炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のペルフルオロアルキル基である。
また、上記式(13)において、Xはフッ素(F)又は塩素(Cl)である。
本実施形態の含フッ素スルホニルイミドであるペルフルオロアルキルスルホンイミド塩の製造方法は、Rf1とRf2とが同一の対称性イミド、特にRf1とRf2とが異なる非対称性イミド化合物の合成に有効である。
ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウム塩、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドナトリウム塩、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドカリウム塩、ビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミドリチウム塩、ビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミドナトリウム塩、ビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミドカリウム塩、ビス(ヘプタフルオロプロパンスルホニル)イミドリチウム塩、ビス(ヘプタフルオロプロパンスルホニル)イミドナトリウム塩、ビス(ヘプタフルオロプロパンスルホニル)イミドカリウム塩、ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミドリチウム塩、ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミドナトリウム塩、ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミドカリウム塩;ペンタフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]エタンスルホニルアミドリチウム塩、ペンタフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]エタンスルホニルアミドナトリウム塩、ペンタフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]エタンスルホニルアミドカリウム塩、ヘプタフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]プロパンスルホニルアミドリチウム塩、ヘプタフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]プロパンスルホニルアミドナトリウム塩、ヘプタフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]プロパンスルホニルアミドカリウム塩、ノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミドリチウム塩、ノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミドナトリウム塩、ノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミドカリウム塩、ヘプタフルオロ−N−[(ペンタフルオロエタン)スルホニル]プロパンスルホニルアミドリチウム塩、ヘプタフルオロ−N−[(ペンタフルオロエタン)スルホニル]プロパンスルホニルアミドナトリウム塩、ヘプタフルオロ−N−[(ペンタフルオロエタン)スルホニル]プロパンスルホニルアミドカリウム塩、ノナフルオロ−N−[(ペンタフルオロエタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミドリチウム塩、ノナフルオロ−N−[(ペンタフルオロエタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミドナトリウム塩、ノナフルオロ−N−[(ペンタフルオロエタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミドカリウム塩、ノナフルオロ−N−[(ヘプタフルオロプロパン)スルホニル]ブタンスルホニルアミドリチウム塩、ノナフルオロ−N−[(ヘプタフルオロプロパン)スルホニル]ブタンスルホニルアミドナトリウム塩、ノナフルオロ−N−[(ヘプタフルオロプロパン)スルホニル]ブタンスルホニルアミドカリウム塩;が挙げられる。
本実施形態の第1の工程は、上記式(11)に示されるペルフルオロアルキルスルホニルフロライドとアンモニアとを反応させて、ペルフルオロアルキルスルホンイミド塩の原料として用いるペルフルオロアルキルスルホンアミドのアンモニウム塩を含む反応液を得る工程である。より具体的には、上記式(11)に示されるペルフルオロアルキルスルホニルフロライドとアンモニアとを反応させて、下記式(14)に示されるペルフルオロアルキルスルホンアミドのアンモニウム塩とフッ化アンモニウム(NH4F)とを含む反応液を得る。
Rf1SO2NH・NH4 ・・・(14)
第1の工程において、アンモニア水を用いる場合には、上記ペルフルオロアルキルスルホニルフロライドとアンモニア水とを反応させて反応液を得る。
すなわち、下記式(15)に示すように、ペルフルオロアルキルスルホニルフロライドがアンモニア水と反応して、上記式(14)に示すペルフルオロアルキルスルホンアミドのアンモニウム塩とフッ化アンモニウムとが生成する。
すなわち、上記式(11)で示されるペルフルオロアルキルスルホニルフロライドとしては、トリフルオロメタンスルホニルフロライド、ペンタフルオロエタンスルホニルフロライド、ヘプタフルオロプロパンスルホニルフロライド、ノナフルオロブタンスルホニルフロライドが挙げられる。
また、上記式(14)で表されるペルフルオロアルキルスルホンアミドのアンモニウム塩としては、トリフルオロメタンスルホンアミドアンモニウム塩、ペンタフルオロエタンスルホンアミドアンモニウム塩、ヘプタフルオロプロパンスルホンアミドアンモニウム塩、ノナフルオロブタンスルホンアミドアンモニウム塩が挙げられる。
本実施形態の第2の工程は、第1の工程で得られた上記反応液と、Li,Na,Kのいずれかのアルカリ金属元素Mの、水酸化物、炭酸塩、及び重炭酸塩の中から選ばれた少なくとも1種のアルカリ金属化合物と、を反応させて、上記式(12)に示されるペルフルオロアルキルスルホンアミドのアルカリ金属塩と、下記式(16)に示されるアルカリ金属フッ化物と、を含む混合物を得る工程である。
MF ・・・(16)
すなわち、上記式(12)で示されるペルフルオロアルキルスルホンアミドのアルカリ金属塩としては、トリフルオロメタンスルホンアミドリチウム塩、トリフルオロメタンスルホンアミドナトリウム塩、トリフルオロメタンスルホンアミドカリウム塩、ペンタフルオロエタンスルホンアミドリチウム塩、ペンタフルオロエタンスルホンアミドナトリウム塩、ペンタフルオロエタンスルホンアミドカリウム塩、ヘプタフルオロプロパンスルホンアミドリチウム塩、ヘプタフルオロプロパンスルホンアミドナトリウム塩、ヘプタフルオロプロパンスルホンアミドカリウム塩、ノナフルオロブタンスルホンアミドリチウム塩、ノナフルオロブタンスルホンアミドナトリウム塩、ノナフルオロブタンスルホンアミドカリウム塩が挙げられる。
以上のようにして、ペルフルオロアルキルスルホンイミド塩の原料となるペルフルオロアルキルスルホンアミドのアルカリ金属塩を生成する。
本実施形態の第3の工程は、第2の工程で得られた混合物と、上記式(13)に示されるペルフルオロアルキルスルホニルハライドと、を反応させる工程である。より具体的には、第2の工程で得られた混合物を含む水溶液を濃縮し、ペルフルオロアルキルスルホンアミドのアルカリ金属塩とアルカリ金属フッ化物とを含む混合物を得る。この混合物を溶媒中で上記ペルフルオロアルキルスルホニルハライドと反応させて、上記式(10)に示されるペルフルオロアルキルスルホンイミド塩を得る。
すなわち、上記式(13)で示されるペルフルオロアルキルハライドとしては、上記式(11)で示されるペルフルオロアルキルスルホニルフロライド及び、トリフルオロメタンスルホニルクロライド、ペンタフルオロエタンスルホニルクロライド、ヘプタフルオロプロパンスルホニルクロライド、ノナフルオロブタンスルホニルクロライドが挙げられる。
すなわち、下記式(20)に示すように、ペルフルオロアルキルスルホンアミドのアルカリ金属塩がペルフルオロアルキルスルホニルハライドと反応して、上記式(10)に示されるペルフルオロアルキルスルホンイミド塩が生成する。
すなわち、上記式(11)で示されるペルフルオロアルキルスルホニルフロライドと上記式(13)で示されるペルフルオロアルキルスルホニルハライドにおいて、同一構造のペルフルオロアルキル基(Rf1=Rf2)を用いることにより、対称構造のペルフルオロアルキルスルホンイミド塩を得ることができる。
一方、上記式(11)で示されるペルフルオロアルキルスルホニルフロライドと上記式(13)で示されるペルフルオロアルキルスルホニルハライドにおいて、異なる構造のペルフルオロアルキル基を用いることにより、非対称構造のペルフルオロアルキルスルホンイミド塩を得ることができる。
さらに、本実施形態の製造方法では、第2の工程において発生するアンモニアガスを回収し、アンモニアガスからアンモニア水を生成して第1の工程に供給する第4の工程を設けることが好ましい。具体的には、第2の工程の上記式(17)〜(19)において発生するアンモニアガスを水中で捕捉して、アンモニア水として回収する。したがって、本実施形態の製造方法によれば、第4の工程を設けることにより、反応系に残存するアンモニアもしくは副生するアンモニウム塩を廃棄することなく、第1の工程に用いるアンモニア水として再利用することが可能となる。
以上説明したように、本実施形態の製造方法によれば、安全性及び生産性が高く、簡便な方法により、ペルフルオロアルキルスルホンイミド塩を製造することができる。
先ず、100mlのフラスコに20%アンモニア水50gを入れ、40℃にてヘプタフルオロプロパンスルホニルフロライド(C3F7SO2F)を30g滴下した。40℃で2時間撹拌後、48%水酸化カリウム(KOH)水溶液28gを入れて、濃縮した。
次に、100mlのフラスコに、濃縮したヘプタフルオロプロパンスルホンアミドと水酸化カリウムとの反応混合物8.1gとヘプタフルオロプロパンスルホニルフロライド(C3F7SO2F)5.7gを入れ、溶媒としてアセトニトリル32gを用いて40℃にて48時間撹拌した。NMR内標法により、ビス(ヘプタフルオロプロパンスルホニル)イミドカリウム塩((C3F7SO2)2NK)8.6gを得た。ヘプタフルオロプロパンスルホニルフロライド(C3F7SO2F)を基準とした収率は86%であった。
実施例1と同様にして得たヘプタフルオロプロパンスルホンアミドと水酸化カリウムの反応混合物5.0gとノナフルオロブタンスルホニルフロライド(C4F9SO2F)4.1gを入れ、溶媒としてアセトニトリル20gを用いて50℃にて30時間撹拌した。NMR内標法により、ノナフルオロ−N−[(ヘプタフルオロプロパン)スルホニル]ブタンスルホニルアミドカリウム塩((C3F7SO2)(C4F9SO2)NK)5.45gを得た。ヘプタフルオロプロパンスルホニルフロライド(C3F7SO2F)を基準とした収率は83%であった。
実施例1と同様にして得たヘプタフルオロプロパンスルホンアミドと水酸化カリウムの反応混合物5.0gとペンタフルオロエタンスルホニルフロライド(C2F5SO2F)2.8gを0℃にて吹き込み、その後50℃にて溶媒としてアセトニトリル20gを用いて48時間撹拌した。NMR内標法により、ヘプタフルオロ−N−[(ペンタフルオロエタン)スルホニル]プロパンスルホニルアミドカリウム塩((C2F5SO2)(C3F7SO2)NK)4.39gを得た。ヘプタフルオロプロパンスルホニルフロライド(C3F7SO2F)を基準とした収率は81%であった。
先ず、200mlのフラスコに、20%アンモニア水150gを入れ、SUS製の充填物を充填した反応塔を立ててアンモニア水を循環させ、25℃にてトリフルオロメタンスルホニルフロライド(CF3SO2F)36.5gを吹き込み、25℃で2時間攪拌を行った。
続いて48%水酸化カリウム水溶液40gを滴下し、100℃で1時間撹拌を行い、発生したアンモニアガスをトラップ内にて水87gで回収したところ、20%アンモニア水110g(無水アンモニア21.6g、回収率90%)を得た。
その後、トリフルオロメタンスルホンアミドと水酸化カリウムの反応液を濃縮したところ、トリフルオロメタンスルホンアミドと水酸化カリウムの反応混合物43gを得た。
Claims (7)
- 下記式(1)に示される含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法であって、
下記式(2)に示されるペルフルオロアルキルスルホニルフロライドとアンモニアとを反応させて反応液を得る第1の工程と、
前記反応液と、Li,Na,Kのいずれかのアルカリ金属元素Mの、水酸化物、炭酸塩、及び重炭酸塩の中から選ばれた少なくとも1種のアルカリ金属化合物と、を反応させて、下記式(3)に示されるペルフルオロアルキルスルホンアミドのアルカリ金属塩を含む混合物を得る第2の工程と、
前記混合物と、下記式(4)に示されるペルフルオロアルキルスルホニルハライドと、を反応させる第3の工程と、を備えることを特徴とする含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。
(Rf1SO2)(Rf2SO2)N・M ・・・(1)
Rf1SO2F ・・・(2)
Rf1SO2NH・M ・・・(3)
Rf2SO2X ・・・(4)
但し、上記式(1)〜(4)において、Rf1及びRf2は炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のペルフルオロアルキル基である。
また、上記式(4)において、Xはフッ素(F)又は塩素(Cl)である。 - 上記式(1)に示される含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法であって、
上記式(2)に示されるペルフルオロアルキルスルホニルフロライドとアンモニアとを反応させて、下記式(5)に示されるペルフルオロアルキルスルホンアミドのアンモニウム塩とフッ化アンモニウムとを含む反応液を得る第1の工程と、
前記反応液と、Li,Na,Kのいずれかのアルカリ金属元素Mの、水酸化物、炭酸塩、及び重炭酸塩の中から選ばれた少なくとも1種のアルカリ金属化合物と、を反応させて、上記式(3)に示されるペルフルオロアルキルスルホンアミドのアルカリ金属塩と、下記式(6)に示されるアルカリ金属フッ化物と、を含む混合物を得る第2の工程と、
前記混合物と、上記式(4)に示されるペルフルオロアルキルスルホニルハライドと、を反応させる第3の工程と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。
Rf1SO2NH・NH4 ・・・(5)
MF ・・・(6)
但し、上記式(5)において、Rf1は炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のペルフルオロアルキル基である。 - 前記第1の工程において、前記アンモニアがアンモニア水であり、得られる反応液が水溶液であって、
前記第2の工程において、前記反応液と前記アルカリ金属化合物との反応を前記水溶液中で行うことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。 - 前記第2の工程において発生するアンモニアを回収して前記第1の工程に供給する第4の工程を、さらに備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。
- 前記アンモニア水の濃度が、1〜50%の範囲であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。
- 前記アンモニア水の、前記ペルフルオロアルキルスルホニルフロライドに対するモル量が3〜20倍の範囲であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。
- 前記ペルフルオロアルキルスルホニルフロライドと、前記アンモニア水と、の反応温度が、0〜70℃の範囲であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。
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