JP2010504631A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. 光学放射が印加される光学システムの波面収差の少なくとも部分的な空間分解補正のための光学要素（１）であって、
   光学放射に対して光学活性である領域と、
   少なくとも前記光学放射の入射方向に対して横方向の区画において最大５０マイクロメートルの直径を有する、前記光学活性領域内の導電体軌道（３）と、
   を含むことを特徴とする光学要素。
2. 前記導電体軌道は、横方向に３０ミリメートルよりも小さい前記空間分解補正を可能にする局所加熱ゾーンを形成することを特徴とする請求項１に記載の光学要素。
3. 前記波面収差は、方位角方向及び／又は半径方向に高次である結像収差を含むことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学要素。
4. 前記導電体軌道は、少なくとも前記光学放射の入射方向に対して横方向の区画において最大１マイクロメートル又は０．５と０．０１マイクロメートルの間の断面を有し、及び／又は該導体軌道の離間は、０．０１と１、好ましくは、０．０５と０．５の間、非常に好ましくは、約０．１ミリメートルであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光学要素。
5. 前記光学活性領域は、前記導体軌道の少なくとも一部分を含む透過部分を有することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の光学要素。
6. 前記波面収差は、前記光学システムの更に別の光学要素の圧密化及び／又は希薄化によって引き起こされる可能性がある結像収差を含むことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の光学要素。
7. 前記導体軌道のコイルが、前記光学放射を印加することができる領域に対して補完的な領域に存在し、
   前記放射線を印加することができる前記領域は、双極又は四重極の形態を有していてよく、又は
   前記導体軌道のコイルが、前記光学放射を印加することができる領域に存在し、前記光学放射の前記波長において、該光学放射が印加される前記光学システムの更に別の光学要素のものとその符号に則して反対であるｄｎ／ｄＴを有し、
   前記光学要素はフッ化カルシウムから成っていてよく、前記更に別の光学要素は、石英ガラスから成っていてよく、前記光学放射の前記波長は、約１９３ナノメートルであるか、あるいは
   前記光学要素は石英ガラスから成っていてよく、
   前記更に別の光学要素は、フッ化カルシウムから成っていてよく、前記光学放射の前記波長は、約１９３ナノメートルである、
   ことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の光学要素。
8. 前記導体軌道（３）は、光学要素（１）の平面図において前記光学放射の伝播方向にマトリックスで配列され、
   前記マトリックスの構造は、等距離又は非等距離であってよく、又は
   前記導体軌道（３）は、光学要素（１）の平面図において前記光学放射の伝播方向に星形方式又は回転対称に放射状に配列される
   ことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の光学要素。
9. 前記導体軌道は、給電ワイヤと加熱ワイヤに細分化され、該給電ワイヤは、該加熱ワイヤよりも低い抵抗率を有し、及び／又は該導体軌道の一部、特に、正確には該給電ワイヤ及び／又は正確には該加熱ワイヤは、ドープされ、及び／又は
   前記導電体軌道は、それぞれ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｌ、Ｗｏ、Ｍｏ、Ｓｎ、又はＮｉと、Ｎｉ、Ｐｔ、又はＣｒ、又はＳｉ又はＧｅのような半導体とで構成されうる給電ワイヤと加熱ワイヤに細分化される
   ことを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の光学要素。
10. 前記光学要素は相互交換可能な部品として設計され、及び／又は
    前記光学システムは、マイクロリソグラフィのための投影対物器械であってよく、
    前記マイクロリソグラフィのための投影対物器械は、前記光学要素１を含んでいてよく、
    前記光学要素は、投影対物器械の瞳平面に位置していてよく、
    前記投影対物器械は、屈折性、反射性、又は反射屈折性であってよく、
    前記投影対物器械は、投影対物器械の瞳直径の１０から１５パーセントの波面の空間分解補正を保証しうる
    ことを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の光学要素。
11. 前記光学要素の下流に配置されて特に中間像平面に物体視野の像の形態を有する視野絞り（２１５）が装備され、及び／又は開口絞り（２１３）が装備され、及び／又は投影対物器械の最後の光学活性区域の下流に絞り（２１１）が装備されることを特徴とする請求項１０に記載されている光学要素を有する投影対物器械。
12. 請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の第２の光学要素を収容し、
    前記光学要素及び前記第２の光学要素は、それらのそれぞれの導体軌道の向きに関して互いに交錯する方式で方位角方向に９０°だけ又は５°よりも小さい角度だけ対で回転される、
    ことを特徴とする請求項１０又は請求項１１に記載されている光学要素を有する投影対物器械。
13. 請求項１１及び請求項１２のいずれか１項に記載の投影対物器械を含む投影露光装置であって、
    制御コンピュータ及び波面センサを含むことを特徴とする投影露光装置。