JPH04142727A - 投影露光装置 - Google Patents

投影露光装置

Info

Publication number
JPH04142727A
JPH04142727A JP2265935A JP26593590A JPH04142727A JP H04142727 A JPH04142727 A JP H04142727A JP 2265935 A JP2265935 A JP 2265935A JP 26593590 A JP26593590 A JP 26593590A JP H04142727 A JPH04142727 A JP H04142727A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
spaces
lenses
optical system
air
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2265935A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiji Orii
折井 誠司
Masami Yonekawa
雅見 米川
Eiji Sakamoto
英治 坂本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2265935A priority Critical patent/JPH04142727A/ja
Publication of JPH04142727A publication Critical patent/JPH04142727A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70883Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
    • G03F7/70891Temperature

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野)) 本発明は投影露光装置に関し、特にIC1LSI等の半
導体素子を製造する際にレチクル面上の電子回路パター
ンをウニ八面上に投影光学系により投影するときの投影
光学系を構成するレンズの露光光の熱吸収による温度上
昇を防止し、光学性能を良好に維持し、高精度な投影パ
ターン像が得られる投影露光装置に関するものである。
(従来の技術) 従来よりIC,LSI等の半導体素子製造用の投影露光
装W(アライナ−)においては非常に高い組立積度と光
学性能が要求されている。
このうちレチクル面上の電子回路パターンをウニ八面上
に所定倍率で投影する投影光学系の光学性能は特に重要
となっている。投影光学系の光学性能に悪影響を及ぼす
一要因に投影光学系を構成するレンズの露光時における
露光光の熱吸収による温度上昇に伴う材質の屈折率変化
がある。特開昭60−78456号公報ではこのような
要因による投影光学系の温度上昇を防止した投影露光装
置を提案している。
第6図は同公報で提案されている投影露光装置の要部概
略図である。
同図において62はレチクルであり照明系61からの露
光光により照明されている。63は投影光学系であり、
レチクル62面上の電子回路パターンをウェハーチャッ
ク64に保持されたウェハ65面上に所定倍率で投影し
ている。66はウェハステージでありウェハチャック6
4を載置している。
投影光学系63は保持部材で保持された複数のレンズL
1〜L5をレンズ鏡筒63a内に収納して構成されてい
る。そして隣接する2つのレンズで形成されるレンズ空
間はレンズ鏡筒63aの一部に設けた通気孔63bによ
って各々外界に開放されている。そして通気孔63bの
一部にタクト67を設け、送風機104よりレンズ空間
内に空気をエアフィルタ68を介して注入している。
これによって各レンズを空冷し、露光光による熱吸収に
よる温度上昇を防止している。そして例えばレンズの材
質の屈折率の変化を防止して投影光学系の光学性能を良
好に維持している。
尚、同図においては2つのレンズL4、L5で形成され
るレンズ空間は0−リング等によって外界に対して密封
されている。そして該レンズ空間内の気圧を圧力制御部
70により管70aを介して調整することにより温度変
化に伴う投影光学系63の光学性能を調整している。
(発明が解決しようとする問題点) 第6図に示す従来の投影光学系を構成する各レンズの温
度上昇を防止する空冷手段は各レンズ空間内に気体を注
入する為の通気孔をレンズ鏡筒の複数位置に設けなけれ
ばならずレンズ鏡筒構造が弱体化し、又レンズ鏡筒の加
工も複雑化してくるという問題点があった。
又、気体のレンズ空間内の1つの通風路で2つのレンズ
面しか空冷することができず、この為投影光学系のレン
ズ枚数が多くなるにつれて、通風路の数も多くなり、そ
れに伴い大きなタクトか必要となり装置全体が大型化し
てくるという問題点かあった。
本発明は投影光学系を構成する各レンズ、又は/及びレ
ンズ保持部材、そしてレンズm筒構造等を適切に構成す
ることにより、簡易な構成により、レンズ鏡筒構造を弱
めることなく、又装置全体の大型化を防止しつつ複数の
レンズを効率的に空冷することができ、高い結像性能で
パターン像の投影露光が出来る投影露光装置の提供を目
的とする。
(問題点を解決するための手段) 本発明の投影露光装置は、照明系で照明された第1物体
面上のパターンを投影光学系により第2物体面上に投影
し露光する投影露光装置において、該投影光学系は複数
のレンズを有し、該複数のレンズは各々保持部材で保持
され複数のレンズ空間を形成してレンズ鏡筒内に収納さ
れており、このうち少なくとも一部の隣接する2つのレ
ンズ空間は該保持部材の一部又はレンズの一部に設けた
開口部で連通されており、該レンズ空間に対応するレン
ズ鏡筒の一部に設けた通気孔に連結して空調手段を設け
、該空調手段を利用して該レンズ空間内に気体を注入又
は該レンズ空間内の気体を吸収したことを特徴としてい
る。
前記空調手段としては例えば前記レンズ空間内の温度に
比へて低温度の気体を前記レンズ空間内に注入している
ことを特徴としている。
(実施例) 第1図は本発明の第1実施例の要部概略図である。
同図において2はレチクルであり、その面上には電子回
路パターンが形成されている。2aはレチクルチャック
であり、レチクル2を吸着保持している。4は照明系で
あり、光源手段として例えばエキシマレーザ、超高圧水
銀灯等を有し、レチクル2面上の電子回路パターンを露
光光で均一な照度分布で照明している。
1は投影光学系であり、照明系4からの露光光で照明さ
れたレチクル2面上の電子回路パターンを所定倍率(例
えば115又は1/10)てウェハ3面上に投影してい
る。
ウェハ9はその面上にレジスト等の感光材料が塗布され
ている。5はウェハチャックであり、ウェハ9を吸着保
持している。6はウェハステージであり、ウェハチャッ
ク5を所定面内(XY千部面内に駆動している。
同図ではレチクル2とウェハ3を所定の関係となるよう
に位置決めした後、シャッター手段(不図示)を開閉し
、レチクル2面上の電子回路パターンをウェハ3面上に
投影露光している。その後、ウェハ3をウェハステージ
6により所定量X−Y平面内に駆動させて、ウェハ3の
他の領域を順次同じように投影露光するようにした所謂
ステップアントリピート方式を採用している。
本実施例における投影光学系1は複数のレンズ(Ll〜
L5)を有し、該複数のレンズ(Ll〜L5)は各々保
持部材1aと押え環1eで保持されて、複数のレンズ空
間を形成してレンズ鏡筒1b内に収納されている。
このうち保持部材1aの一部(又はレンズのコバ等の存
効領域外の一部)には少なくとも1つの開口部1cか設
けられており、これにより隣接する2つのレンズ空間を
連通している。同図ではレンズL1からレンズL5で形
成される各レンズ空間を各レンズ毎左右交互に形成した
開口部1cにより連通している。
尚、複数の保持部材1aに各々開口部1cを設けるとき
は、該開口部1cか保持部材1aの周囲に、例えば等間
隔で並ぶようにしている。同図では180度の間隔をお
いて設けている。
この他本実施例においては第2図に示すように開口部1
cをレンズコバの一部で保持部材1bで保持されない領
域11を設けて形成し、それ以外のレンズコバは保持部
材1bとて隙間か出来ないように接着剤等で充填して構
成しても良い。
レンズ(Ll〜L5)と保持部材1aの開口部Icを除
く接合領域は隙間(空気か流通する程度の隙間)が生じ
ないように接着剤等で充填している。
又、同図ではレンズL5の保持部材1aの周囲には接着
剤を挿着させており、これによりレンズL4とレンズL
5て形成されるレンズ空間と下方の空間か連通しないよ
うにしている。
レンズ鏡筒1bの一部には通気孔1dが設けられており
、この通気孔1dには管8が装着され、吸引ポンプ(真
空ポンプ)等から成る空調手段9に連結されている。そ
して空調手段9により一部のレンズ空間から空気(気体
)を吸入し、各レンズ空間内に外部から空気か蛇行しな
がら流れるようにしている。これにより各レンズ表面を
空冷し、各レンズの露光光の熱吸収による温度上昇を防
止している。
特に本実施例では各レンズの温度上昇に伴う材質の屈折
率の変動を防止し、投影光学系の結像性能の変動を良好
に防止している。
本実施例では保持部材1aに設けた開口部1cによりレ
ンズ鏡筒1b内に1つの通風路が形成されるようにし、
これによりレンズ鏡筒構造を弱めることなく各レンズの
温度上昇を効果的に防止している。
第3図〜第5図は本発明の第2〜第4実施例の要部概略
図である。図中第1図で示した要素と同要素には同符番
を付している。
第3図に示す第2実施例では第1図の第1実施例に比へ
て空調手段として送風器31を用いている点が異なる。
送風器31によりレンズ鏡筒内の各レンズ空間内にレン
ズ鏡筒1bの一部に設けた通気孔1dを介して各レンズ
空間内の温度より低温度の気体を注入している。これに
より各レンズ面を空冷している。
第4図に示す第3実施例ではレンズ鏡筒1b内に形成さ
れるレンズ空間を外気より密封している。そしてレンズ
鏡筒1bの一部に設けた通気孔Idlから吸引ポンプ9
でレンズ空間内から高温度の気体(空気)を吸引してい
る。そして該高温度の気体を熱交替器42で冷却した後
、レンズ鏡筒1bに設けた通砥孔1d2から該冷却した
気体を注入している。これにより外部に高温度の空気を
放出しないようにしている。
第2、第3実施例ではレンズ空間内に注入する気体とし
ては空気の他に単一の気体又は一定の混合比の混合気体
であっても良い。
第5図に示す第4実施例ではレンズ鏡筒1bに2つの通
気孔1d1.1d2を設けて2系統の流路を形成して、
各々の通気孔1dl、1d2より空調手段9で空気を吸
引し又は前記レンズ空間より低温度な空気(気体)を注
入している。これにより例えば露光光の吸収率か高く、
温度上昇率の高いレンズを他のレンズに比へて効果的に
冷却するようにしている。
(発明の効果) 本発明によれば断連したように投影光学系内で形成され
るレンズ空間のうち隣接するレンズ空間をレンズ保持部
材の一部又はレンズの一部に設けた開口部を介して連通
させると共にレンズ鏡筒の一部に設けた通気孔を介して
空調手段によりレンズ空間内から空気を吸引又はレンズ
空間の温度に比へ低温な空気(気体)を注入することに
よりレンズ鏡筒構造を弱めることなく、光学性能を良好
に維持することかできる投影露光装置を達成することか
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例の要部概略図、第2図は第
1図の一部分の他の実施例の概略図、第3〜第5図は本
発明の第2〜第4実施例の要部概略図、第6図は従来の
投影露光装置の要部概略図である。 図中1は、投影光学系、2はレチクル、3はウェハ、4
は照明系、5はウェハーチャック、6はウェハステージ
、8は管、9は空調手段、42は熱交換器、1aはレン
ズ保持部材、1bはレンズ鏡筒、1cは開口部、ld、
ldl、1d2は通気孔、である。 特許出願人  キャノン株式会社

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)照明系で照明された第1物体面上のパターンを投
    影光学系により第2物体面上に投影し露光する投影露光
    装置において、該投影光学系は複数のレンズを有し、該
    複数のレンズは各々保持部材で保持され複数のレンズ空
    間を形成してレンズ鏡筒内に収納されており、このうち
    少なくとも一部の隣接する2つのレンズ空間は該保持部
    材の一部又はレンズの一部に設けた開口部で連通されて
    おり、該レンズ空間に対応するレンズ鏡筒の一部に設け
    た通気孔に連結して空調手段を設け、該空調手段を利用
    して該レンズ空間内に気体を注入又は該レンズ空間内の
    気体を吸収したことを特徴とする投影露光装置。
  2. (2)前記空調手段は前記レンズ空間内の温度に比べて
    低温度の気体を前記レンズ空間内に注入していることを
    特徴とする請求項1記載の投影露光装置。
JP2265935A 1990-10-03 1990-10-03 投影露光装置 Pending JPH04142727A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2265935A JPH04142727A (ja) 1990-10-03 1990-10-03 投影露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2265935A JPH04142727A (ja) 1990-10-03 1990-10-03 投影露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04142727A true JPH04142727A (ja) 1992-05-15

Family

ID=17424126

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2265935A Pending JPH04142727A (ja) 1990-10-03 1990-10-03 投影露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04142727A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5696623A (en) * 1993-08-05 1997-12-09 Fujitsu Limited UV exposure with elongated service lifetime
JP2006156632A (ja) * 2004-11-29 2006-06-15 Nikon Corp ガス温度調整装置、鏡筒、露光装置並びにデバイスの製造方法、ガス温度調整方法
JP2008053732A (ja) * 2006-08-24 2008-03-06 Asml Netherlands Bv 露光装置及び露光方法
JP2011520240A (ja) * 2007-08-24 2011-07-14 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 制御可能な光学素子、熱アクチュエータによる光学素子の操作方法および半導体リソグラフィのための投影露光装置
US8508854B2 (en) 2006-09-21 2013-08-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical element and method
CN105739244A (zh) * 2014-12-07 2016-07-06 上海微电子装备有限公司 光刻机投影物镜及其镜片支架的通孔设计方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60159748A (ja) * 1984-01-30 1985-08-21 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 投影露光装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60159748A (ja) * 1984-01-30 1985-08-21 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 投影露光装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5696623A (en) * 1993-08-05 1997-12-09 Fujitsu Limited UV exposure with elongated service lifetime
JP2006156632A (ja) * 2004-11-29 2006-06-15 Nikon Corp ガス温度調整装置、鏡筒、露光装置並びにデバイスの製造方法、ガス温度調整方法
JP2008053732A (ja) * 2006-08-24 2008-03-06 Asml Netherlands Bv 露光装置及び露光方法
US8508854B2 (en) 2006-09-21 2013-08-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical element and method
US8891172B2 (en) 2006-09-21 2014-11-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical element and method
JP2011520240A (ja) * 2007-08-24 2011-07-14 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 制御可能な光学素子、熱アクチュエータによる光学素子の操作方法および半導体リソグラフィのための投影露光装置
US8325322B2 (en) 2007-08-24 2012-12-04 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical correction device
CN105739244A (zh) * 2014-12-07 2016-07-06 上海微电子装备有限公司 光刻机投影物镜及其镜片支架的通孔设计方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6206997B2 (ja) 露光装置用光照射装置及びその点灯制御方法
JP5127875B2 (ja) リソグラフィ装置及び物品の製造方法
JPH0845827A (ja) 投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
US6356338B2 (en) Semiconductor production system with an in-line subsystem
US20010052966A1 (en) Scanning exposure method and system
JPWO2011105461A1 (ja) 露光装置用光照射装置、露光装置、露光方法、基板の製造方法、マスク、及び被露光基板
JPH04142727A (ja) 投影露光装置
US5859690A (en) Method of dividing and exposing patterns
TWI279651B (en) Exposure device
JP2006245401A (ja) 露光装置およびデバイス製造方法
JP5598789B2 (ja) 露光装置用光照射装置及び露光装置
JP2005292316A (ja) 光照射装置
US5701169A (en) Illumination system and exposure apparatus with demountable transparent protective member
KR100228570B1 (ko) 반도체 기판 노출 방법
JP3770959B2 (ja) 投影型ステッパ露光装置およびそれを用いた露光方法
JP2891219B2 (ja) 露光装置及びそれを用いた素子製造方法
JP2005234120A (ja) 照明光学装置、露光装置及び露光方法
JP2008306030A (ja) マーク設計装置および位置検出装置
JPH10256140A (ja) デバイス露光装置および方法
JP7366789B2 (ja) 光学装置、露光装置、及び物品の製造方法
JP3001417B2 (ja) 半導体チップの製造方法
JP2003347187A (ja) エッジ露光装置
JPH0794403A (ja) 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
JPH09312256A (ja) 投影露光装置
JP2001023890A (ja) 露光装置およびこれを用いたデバイス製造方法