JP2010232326A

JP2010232326A - 塗布装置

Info

Publication number: JP2010232326A
Application number: JP2009076902A
Authority: JP
Inventors: Motonobu Nakazawa; 源伸中澤; Nobuo Horiuchi; 展雄堀内
Original assignee: Toray Engineering Co Ltd
Current assignee: Toray Engineering Co Ltd
Priority date: 2009-03-26
Filing date: 2009-03-26
Publication date: 2010-10-14
Also published as: TW201036704A; CN101846884B; TWI508786B; KR20100108200A; CN101846884A; KR101643256B1

Abstract

【課題】異物検出部が異物を検出してからノズルが異物に到るまでの距離を長くする必要がなく、装置の大型化を抑制することができる塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明の塗布装置１１は、走行機構２５によって口金部２２を走行させながら、口金部２２のノズル４４から流出した塗布液をステージ１４上の基板１２に塗布する。そして、塗布装置１１は、ノズル４４よりも走行方向の先方側に存在する異物Ｐを検出する異物検出部４５，３３と、異物検出部４５，３３によって異物Ｐが検出されたときに、口金部２２を上方に退避させるように昇降機構２４を制御する昇降制御部（退避制御部）３２と、を備える。
【選択図】図３

Description

本発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布装置に関するものである。

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、レジスト液が塗布されたガラス基板（以下、塗布基板とも言う）が使用されている。そして、この塗布基板は、ガラス基板上にレジスト液を均一に塗布する塗布装置を用いて作製される。

このような塗布装置として、下記特許文献１には、基板を保持する基板保持盤と、基板保持盤に保持された基板の上方に配置され、下端部のノズルからレジスト液を流出する塗布ヘッド（塗布部）と、基板保持盤に対して塗布ヘッドを相対的に水平に移動させる相対移動手段とを備え、基板保持盤に対して塗布ヘッドを相対的に水平に移動させながら塗布ヘッドから塗布液を流出し、基板保持盤上の基板にレジスト液を塗布するものが開示されている。

また、基板の上面と塗布ヘッドのノズルとの間は、通常、数十μｍ〜百数十μｍの僅かな隙間しかないので、基板上に異物が存在していたり、基板保持盤上に異物が存在することによって基板が浮き上がっていたりすると、塗布ヘッドのノズルが異物や基板に衝突して、ノズルや基板を損傷してしまうおそれがある。

このため、特許文献１の塗布装置は、図６に示すように、塗布ヘッド１２２のノズル１４４よりも基板保持盤１１４に対する相対移動方向Ｘ１の先方側において、異物Ｐに衝突するように設けられた板状部材（衝突部）１５０と、この板状部材１５０の振動を検出する振動センサ１５１と、この振動センサ１５１によって振動が検出されたときに塗布ヘッド１２２の相対移動を強制停止させる制御手段とを備えている。そして、この塗布装置は、基板１１２上の異物Ｐに板状部材１５０を衝突させることによって、この衝突による振動を振動センサ１５１によって検出し、その検出信号に基づいて塗布ヘッド１２２のＸ１方向への移動を強制停止することによって、塗布ヘッド１２２のノズル１４４が異物Ｐに衝突するのを未然に防止するように構成されている。

特許第３６５３６８８号公報

特許文献１の塗布装置では、振動センサ１５１が振動を検出してから実際に塗布ヘッド１２２の相対移動が停止するまでに時間がかかるため、この時間の塗布ヘッド１２２の移動距離（停止距離）の分だけ塗布ヘッド１２２のノズル１４４と板状部材１５０との間隔Ｌをあけておかなければならない。
一方、近年のレジスト液等の塗布性能の向上に伴い、基板保持盤１１４に対する塗布ヘッド１２２の相対移動速度は高速化する傾向にある。そのため、塗布ヘッド１２２の停止距離も長くなり、塗布ヘッド１２２のノズル１４４と板状部材１５０との間隔Ｌをより長くする必要が生じている。しかし、塗布ヘッド１２２と板状部材１５０との間隔Ｌを長くすると装置が大型化するという問題がある。また、異物Ｐとの衝突以外の要因で塗布ヘッド１２２がその重心位置を中心として振動した場合、この振動による変位は塗布ヘッド１２２の重心位置から離れるほど大きくなるため、塗布ヘッド１２２と板状部材１５０（振動センサ１５１）との間隔Ｌを長くすると、異物との衝突以外の振動を誤検出し易くなるという問題もある。

本発明はこのような問題を解決するためになされたもので、異物検出部が異物を検出してからノズルが異物等に到るまでの距離を長くしなくてもノズルと異物等との衝突を回避することができ、装置の大型化を抑制することが可能な塗布装置を提供することを目的とする。

（１）本発明の塗布装置は、基板を水平に保持する保持台と、前記保持台上の前記基板に塗布液を流出するノズルを有する塗布部と、前記塗布部を前記保持台に相対して水平方向に走行させる走行機構と、前記塗布部を上下方向に昇降させる昇降機構と、前記基板に塗布液を塗布するため前記走行機構により前記塗布部を走行させた際に、前記ノズルよりも走行方向の先方側に存在する異物を検出する異物検出部と、前記異物検出部によって異物が検出されたときに、前記塗布部を上方に退避させるように前記昇降機構を制御する退避制御部と、を備えていることを特徴とする。

本発明の塗布装置は、異物検出部によって異物を検出すると、塗布部を上方に退避させるように昇降機構が退避制御部によって制御されるので、塗布部の走行速度の高速化等に対応するために、異物検出部が異物を検出してからノズルが異物に到るまでの距離（異物検出部からノズルまでの間隔）を長くしなくても、ノズルと異物等との衝突を回避することが可能となり、装置の大型化を抑制することができる。

（２）前記異物検出部は、前記塗布部のノズルよりも走行方向の先方側に設けられていて、前記基板上の異物又は前記保持台上に異物がある場合には前記基板の表面に衝突可能に設けられた衝突部と、前記異物又は前記基板の表面との衝突に起因する前記衝突部の高さの変化を検出する衝突検出部と、を備えていることが好ましい。
この構成によれば、衝突検出部は、異物や基板表面（以下、異物等ともいう）との衝突に起因する衝突部の高さの変化を検出するので、当該衝突に起因する振動を振動センサによって検出する場合に比べて誤検出を少なくし、検出精度を高めることができる。すなわち、衝突部の振動を振動センサによって検出する場合、衝突部と異物等との衝突以外に起因して発生する振動、例えば、塗布動作の開始時や終了時に、塗布部が加速、減速を行うことに起因する走行方向の振動をも誤って検出してしまうことがあるが、本発明のように衝突部の高さの変化を検出する場合はこのような問題を生じることがほとんどなく、衝突部と異物等との衝突を正確に検出することができる。

（３）前記衝突部は、前記塗布部とともに上下昇降可能なように当該塗布部に一体的に設けられているのが好ましい。また、塗布装置が、前記塗布部の高さを検出する高さ検出部と、この高さ検出部の検出結果に基づいて前記塗布部の高さを所定に制御する昇降制御部とをさらに備えている場合には、前記高さ検出部が、前記衝突検出部を兼ねていることが好ましい。
この構成によれば、塗布部の高さ制御のために使用される高さ検出部が、異物等との衝突に起因する衝突部の高さの変化を検出するためにも使用されるので、衝突部の高さの変化を検出するために別途センサを設ける必要がなくなる。したがって、部品点数の削減が可能となり、製造コストを抑制することができる。

（４）前記衝突部における走行方向の先方側の下部には、同方向の先方側ほど高位となるように傾斜する傾斜面が形成されていることが好ましい。この構成によれば、基板等に異物が存在すると、傾斜面とされた衝突部の下面が異物等に衝突し、この衝突に伴って衝突部には上向き成分を含む反力が作用する。したがって、衝突部は、異物等との衝突によって高さが変化しやすくなり、異物の検出精度をより高めることができる。

本発明の塗布装置は、基板上や保持台上の異物を検出した場合に、塗布部を上方へ退避させることによって異物検出部が異物を検出してからノズルが異物等に到るまでの距離を長くする必要がなく、装置の大型化を抑制することができる。

本発明の実施形態に係る塗布装置を示す斜視図である。同塗布装置における塗布ユニットのユニット支持部付近を拡大して示す正面図である。同塗布装置における昇降機構の概略図である。同塗布装置における制御装置の構成を示すブロック図である。本発明の他の実施形態に係る塗布装置の衝突部を示す拡大概略図である。従来技術に係る塗布装置の塗布部を示す概略図である。

次に本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る塗布装置１１を示す斜視図、図２は、同塗布装置１１における塗布ユニット１５のユニット支持部２３付近を拡大して示す正面図である。図１および図２に示すように、塗布装置１１は、供給される薄板状の基板１２に薬液やレジスト等の液状物（以下、塗布液ともいう）を塗布するものである。この塗布装置１１は、基台１３と、基板１２を載置するためのステージ（保持台）１４と、このステージ１４に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット１５とを備えている。
なお、以下の説明では、塗布ユニット１５が移動する方向をＸ軸方向、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向およびＹ軸方向の双方に直交する上下方向をＺ軸方向とする。

基台１３には、ステージ１４が載置され、このステージ１４のＹ軸方向の両側にはスライドレール１７が設けられている。そして、このスライドレール１７に塗布ユニット１５が載置されている。
ステージ１４は、搬入された基板１２をその上面に載置して保持するものである。ステージ１４の表面には複数の吸引孔（図示略）が形成され、これらの吸引孔には真空ポンプ（図示略）が接続されている。そして、真空ポンプを作動させると、負圧によって基板１２がステージ１４の表面に吸引され、当該表面上に保持される。また、ステージ１４には、基板１２を昇降動作させる基板昇降機構（図示略）が設けられている。

スライドレール１７は、塗布ユニット１５の走行をガイドするものであり、Ｘ軸方向に延伸して設けられている。スライドレール１７は、Ｚ軸方向に垂直な方向とＹ軸方向に垂直な方向とに、平坦かつ平滑なガイド面１９を有している。このガイド面１９は、後述する塗布ユニット１５のエアベアリング２０と対向している。

塗布ユニット１５は、ステージ１４に載置された基板１２に塗布液を塗布するためのものであり、Ｙ軸方向に沿って延び塗布液を流出する口金部（塗布部）２２と、この口金部２２の両端部分に設けられたユニット支持部２３とを有している。
ユニット支持部２３は、口金部２２をＺ軸方向に昇降させるとともに、この口金部２２をＸ軸方向に走行させるためのものである。すなわち、このユニット支持部２３は、口金部２２をＺ軸方向に昇降させる昇降機構２４と、口金部２２をＸ軸方向に走行させる走行機構２５とを有している。また、昇降機構２４および走行機構２５は、制御装置２６（図４参照）によって動作制御される。なお、制御装置２６は、ＣＰＵからなる演算手段、プログラムやデータを記憶するＲＯＭ、ＲＡＭ、ＨＤＤ等の記憶手段、外部に対する信号を入出力するための入出力インターフェース等を含むコンピュータからなり、記憶手段に記憶された各種プログラムを演算手段が実行するように構成されている。

図１および図２に示すように、昇降機構２４は、Ｚ軸方向に延びるガイドレール２８と、口金部２２と連結されるスライダ２９とを有している。このガイドレール２８には、スライダ２９がガイドレール２８に沿ってスライド自在に取り付けられている。図３は、昇降機構２４の概略図であり、昇降機構２４は、駆動体としてのサーボモータ３０と、このサーボモータ３０により駆動されるボールねじ機構３１とを有しており、このボールねじ機構３１にスライダ２９又は口金部２２が連結されている。制御装置２６は、サーボモータ３０を駆動制御する昇降制御部３２を一機能部として備えており（図４も参照）、昇降制御部３２は、サーボモータ３０を制御して口金部２２をＺ軸方向に昇降させるとともに、任意の位置で停止させるように構成されている。

また、昇降機構２４は、口金部２２の上下方向の変位を検出する高さ検出部３３を備えている。この高さ検出部３３は、光学式又は磁気式等のリニアスケールからなっており、口金部２２に並設された第１スケール３４と、この第１スケール３４に対向する位置に設けられ、口金部２２とともに上下方向に昇降する第１読取部３５とを備えている。そして、高さ検出部３３は、第１読取部３５によって第１スケール３４を読み取ることで口金部２２の高さを検出するように構成されている。第１読取部３５によって検出された信号は制御装置２６の昇降制御部３２に入力され、この入力された信号に応じてサーボモータ３０が昇降制御部３２によって制御される。

図１および図２に示すように、走行機構２５は、口金部２２をＸ軸方向に走行させるためのものであり、スライド支持部３６とリニアモータ３７とを有している。
このスライド支持部３６は、スライドレール１７との間に設けられるエアベアリング２０によってスライドレール１７上に支持されている。そして、リニアモータ３７を制御装置２６が駆動制御することにより、スライド支持部３６がＸ軸方向に移動する。具体的には、スライド支持部３６に設けられたエアベアリング２０には管路を通じてコンプレッサ（図示略）が接続されており、このコンプレッサの作動でエアベアリング２０からガイド面１９にエアが供給される。そして、エアベアリング２０とガイド面１９との間にエアが供給されることにより、スライド支持部３６がガイド面１９から浮上し、この状態でリニアモータ３７を駆動させることにより、スライド支持部３６がＸ軸方向に移動する。

図４に示すように、制御装置２６は、リニアモータ３７を制御する走行制御部３９を一機能部として備えており、この走行制御部３９は、リニアモータ３７を制御して口金部２２をＸ軸方向に走行させるとともに、任意の位置で停止させるように構成されている。
また、スライド支持部３６には、塗布ユニット１５のＸ軸方向における位置を検出する走行位置検出部４０が設けられている。この走行位置検出部４０は、図１および図２に示すように、スライドレール１７上にガイド面１９に沿って設けられた第２スケール４１と、この第２スケール４１と対向する位置に設けられた第２読取部４２とを備え、この第２読取部４２によって第２スケール４１を読み取ることにより、塗布ユニット１５の走行位置が検出される。第２読取部４２によって検出された信号は、走行制御部３９に入力され、走行制御部３９は、入力された信号に基づいてリニアモータ３７を制御する。また走行制御部３９は、入力された信号を元に塗布ユニット１５の走行速度を演算する機能を有している。

図１および図２に示すように、口金部２２は、ステージ１４上に保持された基板１２の上面に塗布液を塗布するものである。この口金部２２は、Ｙ軸方向に延びる形状を有する柱状部材であり、ステージ１４の表面と対向する側に塗布液を流出するノズル４４を備えている。このノズル４４は、ステージ１４の表面側へ向けて突出し、この突出した部分にはＹ軸方向に延びる形状のスリットが形成され、このスリットを通じて口金部２２に供給された塗布液が基板１２の表面に流出される。

口金部２２は、走行制御部３９によってリニアモータ３７を制御することにより、ステージ１４のＸ軸方向の端部側に配置された状態から矢印Ｘ１方向に走行しながら基板１２の表面に塗布液を塗布する。
また、基板１２の表面に塗布液を塗布する際、口金部２２の高さは、ノズル４４と基板１２の表面との隙間が約数十μｍ〜百数十μｍの間の所定値となるように設定される。具体的には、塗布液を塗布している間、口金部２２の高さは高さ検出部３３（図３参照）によって常時検出され、その検出信号は制御装置２６の昇降制御部３２に入力される。そして、口金部２２が所定の高さに維持されるように、サーボモータ３０が昇降制御部３２によってフィードバック制御されるようになっている。

図３に示すように、口金部２２の下面には衝突部４５が設けられている。この衝突部４５は、口金部２２と同様にＹ軸方向に延び、このＹ軸方向に直交する断面形状が略Ｌ字形状に形成されている。そして、衝突部４５は、口金部２２の走行方向Ｘ１の先方側であって、ノズル４４に対して同方向に所定の間隔Ｌをあけた位置に配置されている。また、衝突部４５は口金部２２に一体的に固定されており、口金部２２とともに上下昇降および水平移動するように構成されている。衝突部４５の下端位置は、ノズル４４の先端と略同じかやや低い高さに設定されている。

塗布液を塗布している間、基板１２上に異物Ｐが存在すると、矢印Ｘ１方向に走行している口金部２２の衝突部４５がこの異物Ｐに衝突する。また、ステージ１４上に異物Ｐが存在すると、その上に載せられた基板１２が部分的に浮き上がり、衝突部４５が基板１２の表面に衝突する。そして、これらの衝突が発生すると、口金部２２は上方（Ｚ軸方向）に持ち上げられるように急激に変位する。この変位は、高さ検出部３３の第１読取部３５が第１スケール３４を読み取ることによって検出され、その検出信号は制御装置２６に入力される。

このように衝突部４５が異物Ｐ等に衝突することによって生じる口金部２２の変位は、口金部２２の通常の走行によって生じる微小な上下動より大きく、両者は明らかに区別することができる。したがって、制御装置２６は、第１読取部３５によって検出された変位が所定の閾値以上である場合には、その変位を異物Ｐ等との衝突に起因するものであると判別する。

そして、図４に示すように、制御装置２６の昇降制御部３２は、異物Ｐ等との衝突に起因する変位の検出信号（衝突信号）に基づき、口金部２２を上昇させるようにサーボモータ３０を制御する。そして、この口金部２２の上昇によって、異物Ｐに対するノズル４４の衝突が回避される。
また、制御装置２６の走行制御部３９は、入力された衝突信号に基づき、口金部２２の走行を停止させるようにリニアモータ３７を制御する。そして、この口金部２２の停止によっても異物Ｐに対するノズル４４の衝突が回避されるようになっている。

ここに、衝突部４５および高さ検出部３３は、基板１２上またはステージ１４上に存在する異物Ｐを検出する異物検出部を構成し、制御装置２６の昇降制御部３２は、異物Ｐから口金部２２を上方に退避させる退避制御部として機能し、走行制御部３９は、異物Ｐにノズル４４が衝突しないように口金部２２を停止させる停止制御部として機能している。

本実施形態の塗布装置１１は、異物検出部によって基板１２上の異物Ｐを検出すると、口金部２２を停止させるだけでなく上方に退避させているので、従来（図６参照）ほどノズル４４の先端と衝突部４５との間隔Ｌを長くする必要がなく、装置の大型化を抑制することができる。
すなわち、従来は、単に口金部２２の走行を停止させていただけであるので、異物Ｐを検出してからリニアモータ３７が停止動作を開始して実際に口金部２２が停止するまでの間に口金部２２が移動する距離（停止距離）よりも、ノズル４４と衝突部４５との間隔Ｌを長くしなければならず、この停止距離は、口金部２２の走行速度が速くなるほど長くなることから間隔Ｌもより長くする必要があったが、本実施形態では、異物Ｐの高さよりも若干高く口金部２２を上昇させれば異物Ｐとの衝突を回避することができ、しかもこの上昇量は上記停止距離よりも十分に小さいので、ノズル４４と衝突部４５との間隔Ｌを従来ほど長くする必要がない。

また、ノズル４４と衝突部４５（第１読取部３５）との間隔Ｌが長いと、口金部２２の重心位置を中心として振動が発生した場合に、第１読取部３５の位置における振動（上下動）が大きくなり、異物Ｐとの衝突に起因する高さ変化として誤検出される可能性が生じるが、本実施形態の場合は、ノズル４４と衝突部４５（第１読取部３５）との間隔Ｌをそれほど長くする必要がないので、このような問題も生じ難くなる。

さらに、本実施形態では、口金部２２の高さ制御に使用する高さ検出部３３によって衝突部４５と異物Ｐ等との衝突を検出しているので、当該衝突を検出するための専用のセンサを別途設ける必要がなく、部品点数の削減による製造コストの抑制が可能となる。

図５は、本発明の他の実施形態に係る塗布装置の衝突部を示す拡大概略図である。本実施形態の衝突部４５の下部には傾斜面４５ａが形成されている。具体的に、この傾斜面４５ａは、衝突部４５における走行方向Ｘ１の先方側の角部を、同方向Ｘ１に関する幅ａと高さｂで面取りすることによって形成されている。この幅ａと高さｂとはｂ＜ａの関係にあり、したがって、水平面に対する傾斜面４５ａの傾斜角度θは、０＜θ＜４５°とされている。

本実施形態の場合、基板１２上に存在する異物Ｐに対して衝突部４５の傾斜面４５ａが衝突すると、衝突部４５は、傾斜面４５ａの傾斜角度θに基づいた上向きの成分を含む反力を受ける。そのため、本実施形態では、異物Ｐとの衝突によって衝突部４５を上方に変位させやすく、この変位に基づいて異物の検出精度を高めることが可能となっている。また、傾斜面４５ａの傾斜角度θを０＜θ＜４５°とすることによって、衝突部４５に作用する反力の上向き成分を大きくすることができ、衝突部４５をより上方に変位させやすくすることができる。また、衝突部４５が異物Ｐに衝突した後、走行方向Ｘ１へ走行することによって、傾斜面４５ａに沿って口金部２２が上昇しやすくなり、異物Ｐとノズル４４との衝突をより確実に回避することが可能となる。

本発明は、上記実施形態に限定されることなく適宜設計変更可能である。
例えば、衝突部４５の高さの変化を検出する衝突検出部は、サーボモータ３０への供給電流を検出する電流計であってもよい。衝突部４５が異物Ｐ等に衝突することによって口金部２２が上昇すると、サーボモータ３０のトルクが変化して供給電流も変化する。したがって、この供給電流の値の変化を検出すれば衝突部４５が異物に衝突したことを検出することができる。

上記実施形態では、衝突部４５が口金部２２とは別の部材で形成され、口金部２２に固定されることによって一体化されているが、口金部２２自身を加工することによって衝突部４５を一体形成してもよい。
また、衝突部４５は、口金部２２とは別に単独で上下に昇降する構造であってもよい。この場合、高さ検出部３３とは別に、衝突部４５の高さを検出する衝突検出部を備えればよい。

本発明の塗布装置は、衝突部４５と異物Ｐとの衝突を検出するために、高さ検出部３３とは別のセンサを備えていてもよい。例えば、従来（図６参照）と同様に、口金部２２の振動を検出する振動センサを設け、この振動センサの検出信号により、口金部２２を上昇動作および停止動作させるように構成してもよい。
但し、振動センサをＺ軸方向に検知感度が最大となるように設置しても、塗布装置のようなＸＹＺ方向に駆動部をもつ装置は、検知感度が最大となる方向以外の振動をも検知してしまうため、例えば、塗布動作の開始時や終了時に口金部２２の加速や減速に伴って発生する振動をも誤検出してしまうおそれがある。この点において、上記実施形態では、衝突部４５が異物Ｐ等に衝突した場合に、当該衝突部４５の高さの変化（Ｚ軸方向の変位）を高さ検出部３３によって検出しているので、塗布動作の開始終了時等に誤検出が生じることもほとんどない。
また、別のセンサとして、レーザー光等を利用した光学的センサを用いてもよい。

上記実施形態では、塗布ユニット１５をスライドレール１７上で移動させることによって、口金部２２をステージ１４に対してＸ軸方向に走行させているが、塗布ユニット１５を固定とし、ステージ１４をＸ軸方向に移動させることによって、相対的に口金部２２をステージ１４に対してＸ軸方向に走行させてもよい。

１１塗布装置
１２基板
１４ステージ（保持台）
１５塗布ユニット
２２口金部（塗布部）
２４昇降機構
２５走行機構
２６制御装置
３２昇降制御部（退避制御部）
３３高さ検出部（異物検出部）
３９走行制御部（停止制御部）
４４ノズル
４５衝突部（異物検出部）
４５ａ傾斜面

Claims

基板を水平に保持する保持台と、
前記保持台上の前記基板に塗布液を流出するノズルを備えた塗布部と、
前記塗布部を前記保持台に相対して水平方向に走行させる走行機構と、
前記塗布部を上下方向に昇降させる昇降機構と、
前記基板に塗布液を塗布するため前記走行機構により前記塗布部を走行させた際に、前記ノズルよりも走行方向の先方側に存在する異物を検出する異物検出部と、
前記異物検出部によって異物が検出された場合に、前記塗布部を上方に退避させるように前記昇降機構を制御する退避制御部と、
を備えていることを特徴とする塗布装置。
前記異物検出部は、前記塗布部のノズルよりも走行方向の先方側に設けられていて、前記基板上の異物又は前記保持台上に異物がある場合には前記基板の表面に衝突可能に設けられた衝突部と、前記異物又は前記基板表面との衝突に起因する前記衝突部の高さの変化を検出する衝突検出部と、を備えている請求項１に記載の塗布装置。
前記衝突部が前記塗布部とともに昇降可能なように当該塗布部に一体的に設けられ、
前記塗布部の高さを検出する高さ検出部と、この高さ検出部の検出結果に基づいて前記塗布部の高さを所定に制御する昇降制御部とをさらに備え、
前記高さ検出部が、前記衝突検出部を兼ねている請求項２に記載の塗布装置。
前記衝突部における走行方向の先方側の下部に、同方向の先方側ほど高位となるように傾斜する傾斜面が形成されている請求項２又は３に記載の塗布装置。