JP2009060066A - 処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置1のビーム部材40に処理ツール41を取り付けるとともに、ビーム部材40のY軸方向の両端部に第1支持ブロック32と第2支持ブロック33とをそれぞれ固設する。また、基板処理装置1のステージ3にガイド部材31を固設する。第1支持ブロック32をガイド部材31に迎合させることによりビーム部材40の移動方向がX軸方向となるように規制するとともに、第2支持ブロック33をいわゆる静圧軸受けで構成することにより、ビーム部材40の(−Y)方向の端部側を非接触式で垂直方向に支持する。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明に係る処理装置である基板処理装置1を示す図である。なお、図1において、図示および説明の都合上、Z軸方向が鉛直方向を表し、XY平面が水平面を表すものとして定義するが、それらは位置関係を把握するために便宜上定義するものであって、以下に説明する各方向を限定するものではない。以下の各図についても同様である。
基板処理装置1は、本体2と制御部6とに大別され、液晶表示装置の画面パネルを製造するための角形ガラス基板を対象物としての被処理基板(以下、単に「基板」と称する)90としており、基板90の表面に形成された電極層などを選択的にエッチングするプロセスにおいて、基板90の表面に処理液としてのレジスト液を塗布する塗布処理装置(スリットコータ)として構成されている。
次に、基板処理装置1における塗布処理動作を簡単に説明する。なお、以下の基板処理装置1の動作は、特に明示しないかぎり、制御部6の制御に基づいて行われるものである。
第1の実施の形態における基板処理装置1では、ビーム部材40の(−Y)側にもリニアモータ50を設けていた。しかし、ビーム部材40の(−Y)側は静圧軸受けとしての第2支持ブロック33によって浮上支持されているため、比較的水平方向の抵抗が少なく、リニアモータ50を設けなくても駆動が可能である。
上記実施の形態では、ビーム部材40に処理ツール41が取り付けられている構造について説明した。しかし、ビーム部材40と処理ツール41とは必ずしも別部材として構成されていなくてもよい。
上記実施の形態では、第1支持ブロック32が転がり軸受けを構成している例について説明した。しかし、ビーム部材の移動方向を規定する側(第1端部側)において、ビーム部材を垂直方向に支持する第1支持手段としては、転がり軸受けに限定されるものではない。
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
3 ステージ
31 ガイド部材
32,32a 第1支持ブロック
321,321a 上部
322 ボール
322,322a,323,323a 側部
324 溝
33 第2支持ブロック
40 ビーム部材
41 処理ツール
50,51 リニアモータ
6 制御部
90 基板
Claims (5)
- 処理ツールによって対象物に処理を施す処理装置であって、
前記処理ツールが取り付けられるビーム部材と、
前記ビーム部材の第1端部側を垂直方向に支持する第1支持手段と、
前記ビーム部材の第2端部側を非接触式で垂直方向に支持する第2支持手段と、
前記ビーム部材を前記対象物に対して移動させる移動手段と、
前記移動手段によって移動する前記ビーム部材の移動方向を前記第1端部側でのみ規定するガイド部材と、
を備えることを特徴とする処理装置。 - 処理ツールを形成するビーム部材によって対象物に処理を施す処理装置であって、
前記ビーム部材の第1端部側を垂直方向に支持する第1支持手段と、
前記ビーム部材の第2端部側を非接触式で垂直方向に支持する第2支持手段と、
前記ビーム部材を前記対象物に対して移動させる移動手段と、
前記移動手段によって移動する前記ビーム部材の移動方向を前記第1端部側でのみ規定するガイド部材と、
を備えることを特徴とする処理装置。 - 請求項1または2に記載の処理装置であって、
前記移動手段は、前記ビーム部材の前記第1端部側のみに駆動力を作用させることにより、前記ビーム部材を移動させることを特徴とする処理装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の処理装置であって、
前記第1支持手段は、転がり軸受けであることを特徴とする処理装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の処理装置であって、
前記第1支持手段は、静圧軸受けであることを特徴とする処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007228575A JP5044332B2 (ja) | 2007-09-04 | 2007-09-04 | 処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007228575A JP5044332B2 (ja) | 2007-09-04 | 2007-09-04 | 処理装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2009060066A true JP2009060066A (ja) | 2009-03-19 |
JP5044332B2 JP5044332B2 (ja) | 2012-10-10 |
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ID=40555498
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2007228575A Active JP5044332B2 (ja) | 2007-09-04 | 2007-09-04 | 処理装置 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5044332B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101643734B1 (ko) * | 2014-01-09 | 2016-07-28 | 신원수 | 콘크리트 크랙 유도용 신축줄눈 설치방법 및 그 장치 |
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-
2007
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JP2005085881A (ja) * | 2003-09-05 | 2005-03-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
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JP2006332587A (ja) * | 2005-04-26 | 2006-12-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP5044332B2 (ja) | 2012-10-10 |
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