JP2004063620A - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2004063620A
JP2004063620A JP2002217768A JP2002217768A JP2004063620A JP 2004063620 A JP2004063620 A JP 2004063620A JP 2002217768 A JP2002217768 A JP 2002217768A JP 2002217768 A JP2002217768 A JP 2002217768A JP 2004063620 A JP2004063620 A JP 2004063620A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
coating
application
slit nozzle
processing apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002217768A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Ueno
上野 幸一
Hiroyuki Kitazawa
北澤 裕之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2002217768A priority Critical patent/JP2004063620A/ja
Publication of JP2004063620A publication Critical patent/JP2004063620A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

【課題】大型の基板に対して精度の高い塗布処理を行う。
【解決手段】架橋構造4の下面に設けられた溝40aにはスリットノズル41がスリットを有する先端部を架橋構造4から下方に突出させるように遊嵌している。そして、溝40a内をスリットノズル41が長手方向に移動可能となっている。架橋構造4内にはスリットノズル41をその長手方向に沿って移動させるノズル移動機構が設けられている。レジスト塗布処理においては、架橋構造4はX軸方向に往復移動し、(+X)側から(−X)側にかけての行きの際は、スリットノズル41が基板90上の塗布領域Aの第1小領域A1上でレジスト液の吐出を行い、(−X)側から(+X)側にかけての帰りの際は、スリットノズル41が第2小領域A2上でレジスト液の吐出を行う。小型で加工精度のよいスリットノズルによって塗布処理の精度を向上させることができる。
【選択図】    図3

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示器やプラズマディスプレイなどの製造に用いられるガラス基板、半導体デバイス製造用の半導体基板、電子回路が形成されたプリント基板など、(以下、「基板」という)にフォトレジスト液やハンダ液などの塗布液を塗布する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、基板の大型化に伴い、基板を静止した状態で保持し、その基板に対して直線的形状をしたローラ、ブレードまたは直線状のスリットを有するノズルなどの塗布手段を基板上において平行移動させることにより、大型の基板に対して塗布液を均一に塗布する方法が一般化しつつある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、基板は大型化の傾向にあるのに対し、スリットノズル等の直線状の塗布手段には加工精度に限界がある。そのため、さらに大型のスリットノズルを作成しても、そのようなスリットノズルによっては大型の基板に対して精密な塗布処理を行うことができないという問題があった。
【0004】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、大型の基板に対して精度の高い塗布処理を行うことができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、請求項1の発明は、基板の表面の塗布領域に対して所定の処理液を塗布する基板処理装置において、前記基板を保持する保持台と、前記所定の処理液を所定の吐出幅で吐出する塗布手段と、前記塗布手段が略水平方向に取り付けられ、前記保持台の上方に略水平に掛け渡された架橋構造と、前記塗布手段により前記塗布領域の走査を行うために、前記架橋構造を前記基板の表面に沿った略水平方向に移動させる第1移動手段と、前記塗布手段を所定の方向に移動させる第2移動手段とを備え、前記塗布手段による前記所定の処理液の前記吐出幅が、前記塗布領域の走査の方向に垂直な方向における前記塗布領域の幅未満とされており、前記塗布手段が、前記塗布領域を分割した小領域ごとに、前記所定の処理液を吐出する。
【0006】
また、請求項2の発明は、請求項1の発明に係る基板処理装置において、前記塗布手段が、前記架橋構造に移動可能な状態で取り付けられており、前記第2移動手段が、前記塗布手段を前記架橋構造上で移動させる。
【0007】
また、請求項3の発明は、基板の表面の塗布領域に対して所定の処理液を塗布する基板処理装置において、前記基板を保持する保持台と、前記所定の処理液を所定の吐出幅で吐出する複数の塗布手段と、前記複数の塗布手段が略水平方向に取り付けられ、前記保持台の上方に略水平に掛け渡された架橋構造と、前記複数の塗布手段により前記塗布領域の走査を行うために、前記架橋構造を前記基板の表面に沿った略水平方向に移動させる移動手段とを備え、それぞれの塗布手段による前記所定の処理液の前記吐出幅が、前記塗布領域の走査の方向に垂直な方向における前記塗布領域の幅未満とされており、それぞれの塗布手段が、前記塗布領域を分割した各小領域ごとに対応付けられ、当該対応付けられた小領域に前記所定の処理液を吐出する。
【0008】
また、請求項4の発明は、基板の表面の塗布領域に対して所定の処理液を塗布する基板処理装置において、前記基板を保持する保持台と、前記所定の処理液を所定の吐出幅で吐出する塗布手段が略水平方向に取り付けられ、前記保持台の上方に略水平に掛け渡された複数の架橋構造と、前記塗布手段により前記塗布領域の走査を行うために、前記複数の架橋構造を前記基板の表面に沿った略水平方向にそれぞれ移動させる移動手段とを備え、前記塗布手段による前記所定の処理液の前記吐出幅が、前記塗布領域の走査の方向に垂直な方向における前記塗布領域の幅未満とされており、前記複数の架橋構造のそれぞれに取り付けられた塗布手段が、前記塗布領域を分割した小領域ごとに対応付けられるとともに、当該対応付けられた小領域に対して前記所定の処理液を吐出する。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態について、添付の図面を参照しつつ、詳細に説明する。
【0010】
<1. 実施の形態>
<1.1 構成の説明>
図1は、本発明の実施の形態である基板処理装置1の概略を示す斜視図である。図2は、基板処理装置1の本体2の正面図である。
【0011】
基板処理装置1は、本体2と制御系6とに大別され、液晶表示装置の画面パネルを製造するための角形ガラス基板を被処理基板90としており、基板90の表面に形成された電極層などを選択的にエッチングするプロセスにおいて、基板90の表面に処理液としてのレジスト液を塗布する塗布装置として構成されている。したがって、この実施の形態では、スリットノズル41はレジスト液を吐出するようになっている。なお、基板処理装置1は、液晶表示装置用のガラス基板だけでなく、一般に、フラットパネルディスプレイ用の種々の基板に処理液(薬液)を塗布する装置として変形利用することもできる。
【0012】
本体2は、被処理基板90を載置して保持するための保持台として機能するとともに、付属する各機構の基台としても機能するステージ3を備える。ステージ3は直方体形状の一体の石製であり、その上面(保持面30)および側面は平坦面に加工されている。
【0013】
ステージ3の上面は水平面とされており、基板90の保持面30となっている。保持面30には多数の真空吸着口が分布して形成されており、基板処理装置1において基板90を処理する間、基板90を吸着することにより、基板90を所定の水平位置に保持する。
【0014】
この保持面30のうち基板90の保持エリア(基板90が保持される領域)を挟んだ両端部には、略水平方向に平行に伸びる一対の走行レール31aが固設される。走行レール31aは、架橋構造4の両端部に固設される支持ブロック31bとともに、架橋構造4の移動を案内し(移動方向を所定の方向に規定する)、架橋構造4を保持面30の上方に支持するリニアガイドを構成する。
【0015】
ステージ3の上方には、このステージ3の両側部分から略水平に掛け渡された架橋構造4が設けられている。架橋構造4は、カーボンファイバ補強樹脂を骨材とするノズル支持部40と、その両端を支持する昇降機構43,44とから主に構成される。
【0016】
ノズル支持部40には、スリットノズル41とギャップセンサ42とが取り付けられている。すなわち、スリットノズル41は、ノズル支持部40を介して架橋構造4に取り付けられている。
【0017】
水平Y方向に伸びる直線状のスリットノズル41には、スリットノズル41へ薬液を供給する配管やレジスト用ポンプを含む吐出機構(図示せず)が接続されている。スリットノズル41は、レジスト用ポンプによりレジスト液が送られ、基板90の表面を走査することにより、基板90の表面の所定の領域(以下、「塗布領域」と称する。)にレジスト液を吐出する。
【0018】
ギャップセンサ42は、スリットノズル41の近傍となるよう、ノズル支持部40に取り付けられ、下方の存在物(例えば、基板90の表面や、レジスト膜の表面)との間の高低差(ギャップ)を測定して、測定結果を制御系6に伝達する。これにより、制御系6はギャップセンサ42の測定結果に基づいて、上記存在物とスリットノズル41との距離を制御できる。
【0019】
昇降機構43,44はスリットノズル41の両側に分かれて、ノズル支持部40によりスリットノズル41と連結されている。昇降機構43,44は主に図示しないACサーボモータおよびボールネジからなり、制御系6からの制御信号に基づいて、架橋構造4の昇降駆動力を生成する。これにより昇降機構43,44は、スリットノズル41を並進的に昇降させるとともに、スリットノズル41のYZ平面内での姿勢を調整するためにも用いられる。
【0020】
架橋構造4の両端部には、ステージ3の両側の縁側に沿って別れて配置され、それぞれ固定子(ステータ)50aと移動子50bおよび固定子51aと移動子51bを備える一対のACコアレスリニアモータ(以下、単に、「リニアモータ」と略する。)50,51が、それぞれ固設され、架橋構造4を基板90の表面に沿った略水平方向に移動させる。
【0021】
また、架橋構造4の両端部には、それぞれスケール部と検出子とを備えたリニアエンコーダ52,53が、それぞれ固設される。これにより、制御系6は、リニアエンコーダ52,53からの検出結果に基づいて、リニアモータ50,51の位置を検出することができ、当該検出結果に基づいてリニアモータ50を位置制御することができる。
【0022】
制御系6は、プログラムに従って各種データを処理する演算部60、プログラムや各種データを保存する記憶部61を内部に備える。また、前面には、オペレータが基板処理装置1に対して必要な指示を入力するための操作部62、および各種データを表示する表示部63を備える。
【0023】
制御系6は、図示しないケーブルにより本体2に付属する各機構と接続されており、操作部62および各種センサなどからの信号に基づいて、ステージ3、架橋構造4、昇降機構43,44、リニアモータ50,51、レジスト用ポンプなどの各構成および後述するノズル移動機構の動作を制御する。
【0024】
なお、具体的には、記憶部61としてはデータを一時的に記憶するRAM、読み取り専用のROM、および磁気ディスク装置などが該当し、可搬性の光磁気ディスクやメモリーカードなどの記憶媒体、およびそれらの読み取り装置などであってもよい。また、操作部62は、ボタンおよびスイッチ類(キーボードやマウスなどを含む。)などであるが、タッチパネルディスプレイのように表示部63の機能を兼ね備えたものであってもよい。表示部63は、液晶ディスプレイや各種ランプなどが該当する。
【0025】
<1.2 架橋構造4およびスリットノズル41の詳細構成>
図3は、基板処理装置1の本体2の概略を示す平面視による部分断面図である。スリットノズル41による所定の処理液としてのレジスト液の吐出幅が、走査の方向に垂直な方向(スリットノズル41の長手方向)における塗布領域Aの幅未満とされており、具体的にはスリットノズル41の吐出幅が塗布領域Aの半分の長さとなっている。
【0026】
また、架橋構造4のノズル支持部40の下面には溝40aが設けられており、溝40aにはスリットノズル41がスリットを有する先端部をノズル支持部40から下方に突出させるように遊嵌している。そして、溝40a内をスリットノズル41がその長手方向(所定の方向に相当)に移動可能となっている。さらに、架橋構造4内には図示しないがスリットノズル41をその長手方向に沿って移動させるノズル移動機構(第2移動手段に相当)が設けられている。このノズル移動機構としては例えば溝40aの側壁に沿ってリニアガイドを設け、当該リニアガイドにスリットノズル41を摺動自在に取り付け、タイミングベルトやモーター等よりなる駆動機構により実現できる。
【0027】
<1.3 動作の説明>
次に、基板処理装置1の動作について説明する。なお、以下に示す各部の動作制御は特に断らない限り制御系6により行われる。基板処理装置1では、オペレータまたは図示しない搬送機構により、所定の位置に基板90が搬送されることによって、レジスト塗布処理が開始される。なお、処理を開始するための指示は、基板90の搬送が完了した時点で、オペレータが操作部62を操作することにより入力されてもよい。
【0028】
まず、ステージ3が保持面30上の所定の位置に基板90を吸着して保持する。
【0029】
次に、ギャップセンサ42が所定の測定高度を保ちながら、基板90表面の塗布領域Aにおける基板90表面とスリットノズル41とのギャップを測定する。ここで、塗布領域Aとは、基板90の表面のうちでレジストを塗布しようとする領域であって、通常、基板90の全面積から、端縁に沿った所定幅の領域を除いた領域である。このとき、リニアエンコーダ52,53の検出結果に基づいてリニアモータ50,51が架橋構造4を(+X)方向に移動させる。これにより、ギャップセンサ42が塗布領域Aを走査し、走査中の測定結果は制御系6に伝達される。そして、制御系6は、伝達されたギャップセンサ42の測定結果を、リニアエンコーダ52,53によって検出される水平位置(X軸方向の位置)と関連づけて記憶部61に保存する。
【0030】
ギャップセンサ42による走査が終了すると、制御系6は、架橋構造4をその位置で停止させ、ギャップセンサ42からの測定結果に基づいて、スリットノズル41のYZ平面における姿勢が、適切な姿勢(スリットノズル41と塗布領域Aとの間隔がレジストを塗布するために適切な間隔となる姿勢。以下、「適正姿勢」と称する。)となるノズル支持部40の位置を算出し、算出結果に基づいて、それぞれの昇降機構43,44を制御しスリットノズル41を適正姿勢に調整する。
【0031】
さらに、リニアモータ50,51が架橋構造4をX軸方向に移動させ、スリットノズル41を吐出開始位置に移動させる。ここで、図3に示すように、塗布領域AをY軸方向の中央で等分した場合の(−Y)側および(+Y)側の領域(小領域)をそれぞれ第1小領域A1および第2小領域A2と呼ぶことにすると、吐出開始位置とは、第1小領域A1の(+X)側の辺にスリットノズル41がほぼ沿う位置である。なお、この段階においてスリットノズル41は架橋構造4内の(−Y)側(図2および図3で示す位置)に位置している。
【0032】
スリットノズル41が吐出開始位置まで移動すると、リニアモータ50,51の駆動により架橋構造4が(−X)方向に移動しつつ、レジスト用ポンプ(図示せず)によりスリットノズル41にレジスト液が送られ、スリットノズル41が塗布領域Aの第1小領域A1にレジスト液を吐出する。
【0033】
これにより、塗布領域Aにおける第1小領域A1の基板90の表面上にレジストの層が形成される。そして、スリットノズル41が第1小領域A1の塗布終了端まで移動すると、架橋構造4の移動およびレジスト液の供給が停止される。
【0034】
次に、ノズル移動機構が架橋構造4内においてスリットノズル41を、(+Y)方向(長手方向)に移動させ、塗布領域Aの第2小領域A2の(−X)側の辺にほぼ沿うように位置させる。そして、再びレジスト液がスリットノズル41に供給されるとともに、(+X)方向に架橋構造4を移動させることで塗布領域Aの第2小領域A2にレジスト液が吐出される。
【0035】
そして、スリットノズル41が塗布領域Aの第2小領域A2の(+X)側の辺にスリットノズル41がほぼ沿う位置である吐出終了位置に至ると、再び架橋構造4の移動とレジスト液の吐出を停止し、これでレジスト塗布処理は終了する。
【0036】
このように、本実施の形態における基板処理装置1では、塗布処理の往復走査において、行きと帰りとで異なる小領域についてレジスト液を塗布するものとなっている。すなわち、スリットノズル41が、塗布領域Aを分割した小領域(第1小領域A1および第2小領域A2)ごとに、レジスト液を吐出する。
【0037】
なお、基板処理装置1では、図2に示すように、ギャップセンサ42が2つ設けられており、第1小領域A1に対する塗布と第2小領域A2に対する塗布とにおいて、それぞれ異なるギャップセンサ42からの出力に基づいてZ軸方向の位置が制御される。このように、スリットノズル41は、各小領域に対する塗布ごとに独立して制御することができることから、例えば、一体構造として製造された2倍の幅を有する大型のスリットノズルに比べて高精度に制御することができる。
【0038】
レジスト塗布処理が終了すると、昇降機構43,44がギャップセンサ42を測定高度に移動させ、さらに、リニアモータ50,51が架橋構造4を(−X)方向に移動させることでギャップセンサ42が塗布領域Aを走査し、基板90上に形成されたレジスト膜とのギャップを測定して制御系6に伝達する。制御系6は、レジスト塗布前に測定したギャップの値(基板90の表面との距離)と、レジスト塗布後に測定したギャップの値(レジスト膜の表面との距離)とを比較することにより、基板90上のレジスト膜の厚さを算出し、算出結果を表示部63に表示する。
【0039】
レジスト膜の検査が終了すると、ステージ3は基板90の吸着を停止し、オペレータまたは搬送機構が基板90を保持面30から取り上げ、次の処理工程に搬送する。
【0040】
なお、連続して複数枚の基板90に対して以上の処理を行う場合、以上の処理工程を各基板90に対して繰り返し実行する。
【0041】
以上、説明したように、本発明の第1の実施の形態における基板処理装置1では、塗布領域Aを分割した小領域(第1小領域A1および第2小領域A2)ごとに、レジスト液を吐出して塗布するため、レジスト液の吐出幅が、走査の方向に垂直な方向における塗布領域Aの幅未満の小型のスリットノズル41を使用することができる。小型のスリットノズルは、加工精度がよく、かつ、高精度制御が可能であることから、塗布処理の精度の向上を図ることができ、均一な塗布処理が可能となる。
【0042】
また、小型のスリットノズルは、大型のスリットノズルと比べて加工リスクが少なく、コストダウンが図れるとともに、レジスト用ポンプとして小型で高精度のものが使用できることから、精度を保ちながら一層小型の装置とすることができる。
【0043】
また、スリットノズル41が、架橋構造4に移動可能な状態で取り付けられており、ノズル移動機構が、スリットノズル41を架橋構造4上で移動させるため、大型の構造物である架橋構造4を移動させることなく、スリットノズル41の位置を変更することができる。
【0044】
<2. 第2の実施の形態>
以下、本発明の第2の実施の形態に係る基板処理装置について説明する。第2の実施の形態に係る基板処理装置は第1の実施の形態に係る基板処理装置と架橋構造およびスリットノズルのみが異なっている。なお、第2の実施の形態では第1の実施の形態と同様の構成部材には同じ参照符号を付している。
【0045】
図4は、第2の実施の形態における基板処理装置の本体2の概略を示す平面視による部分断面図である。図4に示すように第2の実施の形態における基板処理装置の架橋構造4にはスリットノズル41a,41bがその長手方向に並んで固設されている。スリットノズル41aおよび41bはそれぞれ塗布領域Aの走査方向に垂直な方向の幅の半分の吐出幅を有している。そして、架橋構造4が基板90の塗布領域A上に位置するとスリットノズル41aおよび41bがそれぞれ第1小領域A1および第2小領域A2に対応するようになっている。
【0046】
また、スリットノズル41a,41bにはそれぞれに薬液を供給する配管やレジスト用ポンプを含む吐出機構(図示せず)が接続されている。そのため、レジスト塗布処理の際には、レジスト用ポンプによりスリットノズル41a,41bそれぞれにレジスト液が送られ、それぞれレジスト液を吐出する。
【0047】
レジスト塗布処理は、具体的には以下のように行われる。すなわち、塗布領域Aの(+X)側の辺にスリットノズル41a,41bがほぼ沿う位置である吐出開始位置から、スリットノズル41a,41bそれぞれからレジスト液を吐出しつつ、(−X)方向に架橋構造4が移動していき、架橋構造4が塗布領域Aの反対側の辺に至り、塗布領域Aの(−X)側の辺にスリットノズル41a,41bがほぼ沿う位置である吐出終了位置に至ると、そこで架橋構造4の移動およびレジスト液の吐出を停止することによりレジスト塗布処理が終了する。
【0048】
なお、その他の構成および処理動作は第1の実施の形態と同様である。
【0049】
以上、説明したように、本発明の第2の実施の形態においても、スリットノズル41aおよび41bのそれぞれがレジスト液を塗布する領域として、塗布領域Aを分割した小領域A1,A2が対応付けられており、スリットノズル41aおよび41bのレジスト液の吐出幅を、走査の方向に垂直な方向における塗布領域Aの幅未満とすることができる。したがって、本実施の形態における基板処理装置は、小型のスリットノズルを使用することができることから、第1の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【0050】
また、2つのスリットノズル41a,41bにより塗布領域Aに対して並行処理することにより、一度の走査で塗布を完了することができることから、第1の実施の形態のように、架橋構造4をX軸方向に2回(往復)移動させる場合に比べて、処理速度を向上させることができる。
【0051】
また、架橋構造4上で各スリットノズル41a,41bを移動させる必要がないことから、第1の実施の形態のようにノズル移動機構が不要となり、装置構成を簡素化することができる。
【0052】
<3. 第3の実施の形態>
以下、本発明の第3の実施の形態に係る基板処理装置について説明する。第3の実施の形態に係る基板処理装置は第1の実施の形態に係る基板処理装置と主に架橋構造およびスリットノズルが異なっている。なお、第3の実施の形態では第1の実施の形態と同様の構成部材には同じ参照符号を付している。
【0053】
図5は、第3の実施の形態における基板処理装置の本体2の概略を示す平面視による部分断面図である。図5に示すように第2の実施の形態における基板処理装置には2つの架橋構造4a,4bが備わっており、それぞれ1つずつのスリットノズル41a,41bが固設されている。より詳細には、スリットノズル41aおよび41bはそれぞれ塗布領域Aの走査方向に垂直な方向の幅の半分の吐出幅を有している。そして、架橋構造4aが基板90の塗布領域A上に位置するとスリットノズル41aが第1小領域A1に対応し、架橋構造4bが基板90の塗布領域A上に位置するとスリットノズル41bが第2小領域A2に対応するようになっている。
【0054】
また、スリットノズル41a,41bにはそれぞれに薬液を供給する配管やレジスト用ポンプを含む吐出機構(図示せず)が接続されている。そのため、レジスト塗布処理の際には、レジスト用ポンプによりスリットノズル41a,41bそれぞれにレジスト液が送られ、それぞれレジスト液を吐出する。
【0055】
また、この装置の本体2はX軸方向の長さが第1および第2の実施の形態におけるものより長くなっており、保持面30において保持エリアを挟んだX軸方向の両端部には架橋構造4aおよび4bの退避用の領域が設けられている。そして、走行レール31aおよびリニアモータ50,51のX軸方向の長さも架橋構造4a,4bが上記両退避領域にまで移動できるように長くなっている。
【0056】
レジスト塗布処理は、具体的には以下のように行われる。すなわち、まず、架橋構造4bが(+X)側の退避領域に位置し、架橋構造4aが、基板90の塗布領域Aの(+X)側の辺にスリットノズル41a(または41b)がほぼ沿う位置である吐出開始位置に位置する。
【0057】
次に、スリットノズル41aからレジスト液の吐出を開始し、レジスト液を吐出しつつ、(−X)方向に架橋構造4aが移動していく。なお、この間、スリットノズル41bからはレジスト液の吐出は行わない。そして、塗布領域Aの(−X)側の辺にスリットノズル41a(または41b)がほぼ沿う位置である吐出終了位置に至ると、スリットノズル41aからのレジスト液の吐出を停止する。そして、さらに架橋構造4aは移動を続け、(−X)側の退避領域において停止する。
【0058】
次に、架橋構造4bが吐出開始位置に移動する。そして、スリットノズル41bからレジスト液の吐出を開始し、レジスト液を吐出しつつ、(−X)方向に架橋構造4bが移動していく。なお、この間、スリットノズル41aからはレジスト液の吐出は行わない。そして、スリットノズル41bが吐出終了位置に至ると、レジスト液の吐出を停止する。これでレジスト塗布処理が終了する。
【0059】
なお、その他の構成および処理動作は第1の実施の形態と同様である。
【0060】
以上、説明したように、本発明の第3の実施の形態においても、スリットノズル41aおよび41bのそれぞれがレジスト液を塗布する領域として、塗布領域Aを分割した小領域A1,A2が対応付けられており、スリットノズル41aおよび41bのレジスト液の吐出幅を、走査の方向に垂直な方向における塗布領域Aの幅未満とすることができる。したがって、本実施の形態における基板処理装置は、小型のスリットノズルを使用することができることから、上記実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【0061】
<4. 変形例>
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
【0062】
例えば、上記第1の実施の形態においては1つのスリットノズル41を、第2および第3の実施の形態においては2つのスリットノズル41aおよび41bを備え、それらがいずれも塗布領域Aの半分であるものとしたが、塗布領域Aを3つ以上に分割し、その代わりにスリットノズルの処理液の吐出幅も対応する塗布範囲の幅と等しいものとしてもよい。その場合、塗布領域Aの分割を等分とすることもできるが、不等分として、それら対応する塗布範囲の幅と等しい吐出幅を有する3以上のスリットノズルを備えるものとしてもよい。ただし、第1の実施の形態のようにスリットノズルが架橋構造上で移動するものとする場合には、等分する必要がある。
【0063】
また、上記のように塗布領域Aの3分割以上の分割をした場合には、第3の実施の形態に倣って、その分割数と同じ数の架橋構造を備え、それぞれに1つずつスリットノズルを備えるものとしてもよい。
【0064】
【発明の効果】
以上、説明したように、請求項1および2に記載の発明では、塗布手段が、塗布領域を分割した小領域ごとに、所定の処理液を吐出することによって、加工精度のよい小型の塗布手段によって塗布処理を行うことができ、塗布処理の精度を向上させることができる。
【0065】
また、特に請求項2に記載の発明では、塗布手段が、架橋構造に移動可能な状態で取り付けられており、第2移動手段が、塗布手段を架橋構造上で移動させることにより、大型の構造物である架橋構造を移動させることなく、塗布処理中に塗布手段の位置を変更することができる。
【0066】
また、請求項3に記載の発明では、所定の処理液を所定の吐出幅で吐出する複数の塗布手段を備え、それぞれの塗布手段が、塗布領域を分割した各小領域ごとに対応付けられ、当該対応付けられた小領域に所定の処理液を吐出することにより、加工精度のよい小型のスリットノズルによって塗布処理を行うことにより、塗布処理の精度を向上させることができる。また、一度の走査で塗布を完了することができることから、処理速度を向上させることができる。
【0067】
また、請求項4に記載の発明では、複数の架橋構造のそれぞれに取り付けられた塗布手段が、塗布領域を分割した小領域ごとに対応付けられるとともに、当該対応付けられた小領域に対して所定の処理液を吐出することにより、加工精度のよい小型のスリットノズルによって塗布処理を行うことができ、塗布処理の精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態である基板処理装置の概略を示す斜視図である。
【図2】基板処理装置の本体の正面図である。
【図3】基板処理装置の本体の概略を示す平面視による部分断面図である。
【図4】第2の実施の形態における基板処理装置の本体の概略を示す平面視による部分断面図である。
【図5】第3の実施の形態における基板処理装置の本体の概略を示す平面視による部分断面図である。
【符号の説明】
3 ステージ(保持台)
4,4a,4b 架橋構造
41,41a,41b スリットノズル
50,51 リニアモータ(第1移動手段)
90 基板
A 塗布領域
A1,A2 小領域

Claims (4)

  1. 基板の表面の塗布領域に対して所定の処理液を塗布する基板処理装置において、
    前記基板を保持する保持台と、
    前記所定の処理液を所定の吐出幅で吐出する塗布手段と、
    前記塗布手段が略水平方向に取り付けられ、前記保持台の上方に略水平に掛け渡された架橋構造と、
    前記塗布手段により前記塗布領域の走査を行うために、前記架橋構造を前記基板の表面に沿った略水平方向に移動させる第1移動手段と、
    前記塗布手段を所定の方向に移動させる第2移動手段と、
    を備え、
    前記塗布手段による前記所定の処理液の前記吐出幅が、前記塗布領域の走査の方向に垂直な方向における前記塗布領域の幅未満とされており、
    前記塗布手段が、
    前記塗布領域を分割した小領域ごとに、前記所定の処理液を吐出することを特徴とする基板処理装置。
  2. 請求項1に記載の基板処理装置において、
    前記塗布手段が、前記架橋構造に移動可能な状態で取り付けられており、
    前記第2移動手段が、前記塗布手段を前記架橋構造上で移動させることを特徴とする基板処理装置。
  3. 基板の表面の塗布領域に対して所定の処理液を塗布する基板処理装置において、
    前記基板を保持する保持台と、
    前記所定の処理液を所定の吐出幅で吐出する複数の塗布手段と、
    前記複数の塗布手段が略水平方向に取り付けられ、前記保持台の上方に略水平に掛け渡された架橋構造と、
    前記複数の塗布手段により前記塗布領域の走査を行うために、前記架橋構造を前記基板の表面に沿った略水平方向に移動させる移動手段と、
    を備え、
    それぞれの塗布手段による前記所定の処理液の前記吐出幅が、前記塗布領域の走査の方向に垂直な方向における前記塗布領域の幅未満とされており、
    それぞれの塗布手段が、
    前記塗布領域を分割した各小領域ごとに対応付けられ、当該対応付けられた小領域に前記所定の処理液を吐出することを特徴とする基板処理装置。
  4. 基板の表面の塗布領域に対して所定の処理液を塗布する基板処理装置において、
    前記基板を保持する保持台と、
    前記所定の処理液を所定の吐出幅で吐出する塗布手段が略水平方向に取り付けられ、前記保持台の上方に略水平に掛け渡された複数の架橋構造と、
    前記塗布手段により前記塗布領域の走査を行うために、前記複数の架橋構造を前記基板の表面に沿った略水平方向にそれぞれ移動させる移動手段と、
    を備え、
    前記塗布手段による前記所定の処理液の前記吐出幅が、前記塗布領域の走査の方向に垂直な方向における前記塗布領域の幅未満とされており、
    前記複数の架橋構造のそれぞれに取り付けられた塗布手段が、
    前記塗布領域を分割した小領域ごとに対応付けられるとともに、当該対応付けられた小領域に対して前記所定の処理液を吐出することを特徴とする基板処理装置。
JP2002217768A 2002-07-26 2002-07-26 基板処理装置 Pending JP2004063620A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002217768A JP2004063620A (ja) 2002-07-26 2002-07-26 基板処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002217768A JP2004063620A (ja) 2002-07-26 2002-07-26 基板処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004063620A true JP2004063620A (ja) 2004-02-26

Family

ID=31939140

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002217768A Pending JP2004063620A (ja) 2002-07-26 2002-07-26 基板処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004063620A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100625321B1 (ko) 2005-08-18 2006-09-15 세메스 주식회사 현상액 도포 장치 및 그 방법
KR100706570B1 (ko) 2006-05-17 2007-04-13 주식회사 씨엔디플러스 반도체 제조공정에서의 3축 제어에 의한 코팅액 또는현상액의 스프레이식 분사방법
JP2011082230A (ja) * 2009-10-05 2011-04-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板塗布装置
KR20150039902A (ko) * 2013-10-04 2015-04-14 주식회사 케이씨텍 다수의 도포 영역이 정해진 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 기판 코터 장치
WO2018150728A1 (ja) * 2017-02-14 2018-08-23 東レエンジニアリング株式会社 塗布装置
JP2022169465A (ja) * 2022-04-25 2022-11-09 中外炉工業株式会社 塗布装置及び塗布方法

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100625321B1 (ko) 2005-08-18 2006-09-15 세메스 주식회사 현상액 도포 장치 및 그 방법
KR100706570B1 (ko) 2006-05-17 2007-04-13 주식회사 씨엔디플러스 반도체 제조공정에서의 3축 제어에 의한 코팅액 또는현상액의 스프레이식 분사방법
JP2011082230A (ja) * 2009-10-05 2011-04-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板塗布装置
KR20150039902A (ko) * 2013-10-04 2015-04-14 주식회사 케이씨텍 다수의 도포 영역이 정해진 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 기판 코터 장치
KR102112352B1 (ko) * 2013-10-04 2020-05-15 주식회사 케이씨텍 다수의 도포 영역이 정해진 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 기판 코터 장치
WO2018150728A1 (ja) * 2017-02-14 2018-08-23 東レエンジニアリング株式会社 塗布装置
JP2018130660A (ja) * 2017-02-14 2018-08-23 東レエンジニアリング株式会社 塗布装置
TWI698289B (zh) * 2017-02-14 2020-07-11 日商東麗工程股份有限公司 塗布裝置
JP2022169465A (ja) * 2022-04-25 2022-11-09 中外炉工業株式会社 塗布装置及び塗布方法
JP7266957B2 (ja) 2022-04-25 2023-05-01 中外炉工業株式会社 塗布装置及び塗布方法
WO2023210032A1 (ja) 2022-04-25 2023-11-02 中外炉工業株式会社 塗布装置及び塗布方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4049751B2 (ja) 塗布膜形成装置
JP4091372B2 (ja) 基板処理装置
JP2006237097A (ja) ステージ装置および塗布処理装置
JP2007150280A (ja) 基板支持装置、基板支持方法、基板加工装置、基板加工方法、表示装置構成部材の製造方法
JP2006210393A (ja) 基板加工装置、基板搬送装置、基板制御方法
JP4324538B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2004063620A (ja) 基板処理装置
KR100523473B1 (ko) 기판처리장치 및 슬릿노즐
JP2004030941A (ja) 塗布装置および塗布方法
JP2009070973A (ja) 塗布装置
JP2003243286A (ja) 基板処理装置
JP2011082230A (ja) 基板塗布装置
JP2004087798A (ja) 基板処理装置
JP2003347190A (ja) 基板処理装置
JP4226500B2 (ja) 基板搬送機構および塗布膜形成装置
KR20200026051A (ko) 스테이지 측정 지그, 도포 장치 및 스테이지 측정 방법
JP2005243670A (ja) 塗布膜形成装置
JP4091378B2 (ja) 基板処理装置
JP4197238B2 (ja) 基板処理装置
JP2009022823A (ja) 検査装置および基板処理システム
JP4198944B2 (ja) 基板処理装置
JP5028195B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP3920676B2 (ja) 基板処理装置
JPH11253869A (ja) 塗布装置
JP3598029B2 (ja) プリント基板の搬送方法