JP5507356B2 - 塗布装置 - Google Patents

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本発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布装置に関するものである。
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス等からなる基板上にレジスト液が塗布されたもの(塗布基板という)が使用されている。この塗布基板は、レジスト液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。すなわち、塗布装置は、基板を載置するステージと、レジスト液を吐出する塗布ユニットとを有しており、塗布ユニットの口金部からレジスト液を吐出させながら、基板と塗布ユニットとを相対的に移動させることにより、所定厚さのレジスト液膜が基板上に形成されるようになっている。
この塗布装置の口金部は、非常に高価であるため、口金部のスリットノズルを保護するためにガード部材が取付けられている。具体的には、特許文献1に記載されているように、口金部のスリットノズルよりも塗布進行方向側には、板状のガード部材(特許文献1ではバンパー部材)がスリットノズルの長手方向に沿って固定されている。そして、基板に塗布液を吐出する塗布動作の際には、まず、洗浄後に乾燥させた基板がステージ上に供給された後、塗布ユニットを基板上で停止させて口金部のスリットノズルから塗布液を吐出させてビードを形成する。すなわち、スリットノズルと基板とを数十μm程度に近接させた状態でスリットノズルから塗布液を吐出させることにより、スリットノズルと基板とが塗布液で連結された状態(ビード)を形成する。そして、スリットノズルの長手方向に亘ってビードが形成された後、塗布ユニットを走行させつつ塗布液を吐出させることにより、基板上に均一厚さの塗布膜が形成される。その際、基板上に異物が存在している場合にはその異物自体、またステージと基板との間に異物が存在する場合には基板の表面というような衝突対象物が存在している場合には、その衝突対象物がガード部材に衝突することにより、直接スリットノズルに衝突するのを防止できるようになっている。
特開2006−167610
しかし、上記塗布装置では、基板上に形成された塗布膜に、ガード部材による塗布ムラが形成される虞があるという問題があった。すなわち、供給される基板は、洗浄して乾燥装置を経た後、冷却されるが、冷却効果が不十分で常温より温度が高い状態か、または、過冷却により常温より温度が低い状態でステージ上に供給される場合がある。そして、ビートを形成する際には、口金部が基板上に停止した状態で行われることから、口金部よりも塗布進行方向側のガード部材が基板に最も接近した状態で一定時間停止される。そのため、基板のうち、ガード部材と近接して対面する部分は、ほぼ常温に近いガード部材の温度の影響を受けることになる。ここで、ガード部材は、特許文献1に示されているように、異物の衝突時の振動等により接触の有無を判断するため、ステンレスなど、硬度の高い材料によって形成されている。ところが硬度の高い材料は、一般に熱伝導率が高いため、基板の熱がガード部材により吸収される(基板がガード部材より温度が低い場合はカード部材の熱が放熱され基板に吸収される)傾向がある。すなわち、基板のうち、ビード形成時に一定時間ガード部材と近接して対面する部分の熱がガード部材により吸熱(又は放熱)されることにより、基板全体についてみると、温度ムラが生じる結果となる。この状態で塗布を行うと、基板における温度の低い部分と温度の高い部分とは乾燥状態が異なるため、形成された塗布膜にムラが生じる要因となるという問題があった。
本発明は、上記の問題点を鑑みてなされたものであり、ガード部材と基板とが一定時間近接しても、基板の温度がガード部材の影響を受けるのを抑えることができ、ひいては塗布膜にムラが発生するのを抑えることができる塗布装置を提供することを目的としている。
上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、スリットノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布ユニットと、前記スリットノズルよりも塗布進行方向側にスリットノズルの長手方向に沿って取付けられ、スリットノズルよりも先に衝突対象物と接触させることでスリットノズルを保護するガード部と、を備えており、前記ガード部は、基板と近接して対向する近接対向部を長手方向に亘って有しており、この近接対向部は、ガード部を形成する材料よりも熱伝導率の低い材料で被覆されていることを特徴としている。
上記塗布装置によれば、近接対向部にガード部を形成する材料よりも熱伝導率の低い材料で被覆されているため、供給される基板の温度ムラの発生が抑えられ、塗布膜にムラが発生するのを抑えることができる。すなわち、ビード形成時において、供給される基板に近接して対面する近接対向部は、熱伝導率の低い材料で被覆されているため、近接対向部と対面する基板領域の温度が影響を受けにくくなる。すなわち、ガード部の近接対向部が何ら被覆されない従来のガード部に比べて、近接対向部に吸熱される熱量(又は放熱される熱量)が抑えられるため、基板全体における温度ムラの発生を抑えることができる。したがって、ビード形成時にガード部と基板とが一定時間近接しても、基板の温度がガード部の影響を受けるのを抑えて、塗布膜にムラが発生するのを抑えることができる。
また、前記近接対向部には、塗布進行方向側に衝突対象物と衝突させる衝突部が形成されており、この衝突部を除いた領域にのみ、ガード部を形成する材料よりも熱伝導率の低い材料で被覆されている構成としてもよい。
この構成によれば、対象物を衝突させる衝突部は被覆されていないため、被覆することによる衝突時の振動が弱められることがない。したがって、衝突時の検知感度の低下を招くことなく、基板全体における温度ムラの発生を抑えることができる。
また、前記近接対向部は、エンジニアリングプラスチックで被覆されている構成とすることができる。
一般に、熱伝導率の低い材料は硬度が低いため、ガード部全体を熱伝導率の低い材料で形成すると、衝突対象物の衝突時の検知感度を低下させる虞がある。しかし、エンジニアリングプラスチックは、熱伝導率が低い材料であっても硬度が高い材料であるため、このエンジニアリングプラスチックで基板に最も近接する近接対向部を被覆する構成であれば、検知感度の低下についても抑えることができる。
本発明の塗布装置によれば、ガード部材と基板とが一定時間近接しても、基板の温度がガード部の影響を受けるのを抑えることができ、ひいては塗布膜にムラが発生するのを抑えることができる。
本発明の実施形態に係る塗布装置を示す斜視図である。 塗布ユニットの脚部付近を示す概略図である。 口金部に取付けられたガード部を示す図である。
本発明に係る実施の形態を図面を用いて説明する。
図1は、本発明の一実施形態における塗布装置を概略的に示す斜視図であり、図2は、
塗布ユニットの脚部付近を示す図であり、図3は、口金部に取付けられたガード部を示す図である。
図1〜図3に示すように、塗布装置は、基板10上に薬液やレジスト液等の液状物(以下、塗布液と称す)の塗布膜を形成するものであり、基台2と、基板10を載置するためのステージ21と、このステージ21に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット30とを備えている。
なお、以下の説明では、塗布ユニット30が移動する方向をX軸方向、これと水平面上で直交する方向をY軸方向、X軸およびY軸方向の双方に直交する方向をZ軸方向として説明を進めることとする。
前記基台2には、その中央部分にステージ21が配置されている。このステージ21は、搬入された基板10を載置するものである。このステージ21には、基板保持手段が設けられており、この基板保持手段により基板10が保持されるようになっている。具体的には、ステージ21の表面に形成された複数の吸引孔が形成されており、この吸引孔に吸引力を発生させることにより基板10をステージ21の表面に吸着させて保持できるようになっている。
また、ステージ21には、基板10を昇降動作させる基板昇降機構が設けられている。具体的には、ステージ21の表面には複数のピン孔が形成されており、このピン孔にはZ軸方向に昇降動作可能なリフトピン(不図示)が埋設されている。すなわち、ステージ21の表面からリフトピンを突出させた状態で基板10が搬入されるとリフトピンの先端部分が基板10に当接して基板10を保持することができる。そして、その状態からリフトピンを下降させてピン孔に収容させることにより、基板10をステージ21の表面に載置することができるようになっている。
また、塗布ユニット30は、基板10上に塗布液を吐出して塗布膜を形成するものである。この塗布ユニット30は、図1,図2に示すように、基台2と連結される脚部31とY軸方向に延びる口金部34とを有しており、基台2上をY軸方向に跨いだ状態でX軸方向に移動可能に取り付けられている。具体的には、基台2のY軸方向両端部分にはそれぞれX軸方向に延びるレール22が設置されており、脚部31がこのレール22にスライド自在に取り付けられている。そして、脚部31にはリニアモータが取り付けられており、このリニアモータを駆動制御することにより、塗布ユニット30がX軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。
また、塗布ユニット30の脚部31には、図2に示すように、塗布液を塗布する口金部34が取り付けられている。具体的には、この脚部31にはZ軸方向に延びるレール37と、このレール37に沿ってスライドするスライダ35が設けられており、これらのスライダ35と口金部34とが連結されている。そして、スライダ35にはサーボモータにより駆動されるボールねじ機構が取り付けられており、このサーボモータを駆動制御することにより、スライダ35がZ軸方向に移動するとともに、任意の位置で停止できるようになっている。すなわち、口金部34が、ステージ21に保持された基板10に対して接離可能に支持されている。
また、脚部31は、口金部34の上下方向の変位を検出する高さ検出部38を備えている。この高さ検出部38は、光学式又は磁気式等のリニアスケールからなっており、口金部34に並設されたスケール38aと、このスケール38aに対向する位置に設けられ、口金部34とともに上下方向に昇降する読取部38bとを備えている。そして、高さ検出部38は、読取部38bによってスケール38bを読み取ることで口金部34の高さを検出するように構成されている。読取部38bによって検出された信号は、後述の制御装置に入力され、この入力された信号に応じてサーボモータが制御される。
また、口金部34は、塗布液を吐出して基板10上に塗布膜を形成するものである。この口金部34は、一方向に延びる形状を有する柱状部材であり、塗布ユニット30の走行方向とほぼ直交するように設けられている。この口金部34には、長手方向に延びるスリットノズル34aが形成されており、口金部34に供給された塗布液がスリットノズル34aから長手方向に亘って一様に吐出されるようになっている。したがって、このスリットノズル34aから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット30をX軸方向に走行させることにより、スリットノズル34aの長手方向に亘って基板10上に一定厚さの塗布膜が形成されるようになっている。なお、塗布液を塗布するために、スリットノズル34aから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット30を移動させる方向を本実施形態では、塗布進行方向と呼ぶことにする。
また、口金部34には、ガード部40が取付けられている。具体的には、図3に示すように、ガード部40は、スリットノズル34aよりも塗布進行方向側に取付けられており、このガード部40により、スリットノズル34aが保護されるようになっている。すなわち、口金部34よりも塗布進行方向側に基板10上に異物が存在している場合や、ステージ21と基板10との間に異物が存在しており、基板10表面が凸状に盛り上がっている場合に、そのまま塗布ユニット30を塗布進行側に移動させると、これら異物や盛り上がった基板10表面にスリットノズル34aが衝突するが、これを前もってガード部40に衝突させることにより、スリットノズル34aを保護することができる。なお、本実施形態では、前述の異物や盛り上がった基板10表面を衝突対象物Mと呼ぶことにする。
ガード部40は、一方向に延びる金属製の略平板状部材であり、スリットノズル34aの長手方向に沿って取付けられている。このガード部40は、基板10と近接して対向する近接対向部41とガード部本体42とを有している。そして、図3に示すように、ガード部本体42が口金部34にボルト45で締結されることにより、ガード部40が口金部34に固定されている。
近接対向部41は、ガード部本体42よりも基板10側に突出した形状を有しており、基板10と対面する対向面41aが長手方向(Y軸方向)に亘って形成されている。具体的には、近接対向部41の対向面41aは、均一な平坦面に形成されており、基板10に塗布液を吐出する塗布動作の際、対向面41aと基板10との距離が長手方向に亘って一定になるように形成されている。
また、対向面41aよりも塗布進行方向側には衝突部41bが形成されている。この衝突部41bは、衝突対象物Mを衝突させるためのものであり、対向面41aから塗布進行方向側に平面となるテーパー状に形成されている。この衝突部41bのテーパー面も長手方向に亘って平坦状に形成されており、衝突対象物Mが存在している場合には、このテーパー面に当接させることにより、衝突対象物Mがガード部40を通過してスリットノズル34aに衝突することを防止できるようになっている。
また、近接対向部41の対向面41aは、コーティング材43で被覆されている。このコーティング材43は、ガード部40の材料である金属材料よりも熱伝導率の低い材料が用いられている。具体的には、エンジニアリングプラスチック、セラミックスなどが使用することができる。本実施形態では、エンジニアリングプラスチックであるPEEK材(ポリエーテル・エーテル・ケトン樹脂)が使用されている。このコーティング材43は、対向面41a全体に亘って一様に被覆されており、これにより、基板10の熱が近接対向部41に吸収されるのを抑制することができる。すなわち、比較的温度の高い基板10に対して近接対向部41を近接させた場合であっても、近接対向部41の最も基板に近接する対向面41aがコーティング材43で被覆されているため、基板10の熱がコーティング材43で遮蔽され、対向面41aに伝熱するのが抑えられる。これにより、洗浄後に乾燥されることにより、高温のままの基板10がステージ21に供給され、その基板10に対してビード形成を行った場合であっても、対向面41aと対向する基板10の領域の熱量が吸収されにくくなる。すなわち、対向面41aと対向する基板10の領域の温度が低下するのが抑えられるため、基板10全体における温度ムラが生じるのを抑えることができる。
なお、近接対向部41の衝突部41bは、対向面41aに比べて基板10から離れた位置に存在しているおり、対向面41aに比べて基板10の熱量が吸収されにくいため、コーティング材43で被覆されていない。これにより、コーティング材43で被覆を行うことによる衝突部41bの硬度の低下が抑えられるため、衝突部41bに衝突対象物Mが衝突したときの振動の低下を回避し、衝突検知における精度の低下を抑えることができる。
また、本実施形態の塗布装置では、制御装置が設けられており、予め記憶されたプログラムに従って一連の塗布動作を実行すべく、各種ユニットの駆動装置等を駆動制御するとともに、この塗布動作において必要な各種演算及び判定が行われるようになっている。具体的には、リニアモータを駆動制御することにより、塗布ユニット30の走行を駆動制御し、また、ガード部40に衝突対象物Mが衝突した場合には、その衝突を検知してリニアモータを駆動制御して塗布ユニットの走行を停止させる。すなわち、塗布動作中、基板10上に異物(衝突対象物M)が存在すると、走行している口金部34の衝突部41bがこの異物に衝突する。また、ステージ21上に異物が存在すると、その上に載せられた基板10が部分的に浮き上がり、衝突部41bが基板10の表面(衝突対象物M)に衝突する。そして、これらの衝突が発生すると、口金部34は上方(Z軸方向)に持ち上げられるように急激に変位する。この変位は、高さ検出部38の読取部38bがスケール38aを読み取ることによって検出され、その検出信号は制御装置に入力される。
このように衝突部41bが衝突対象物Mに衝突することによって生じる口金部34の変位は、口金部34の通常の走行によって生じる微小な上下動よりも大きく、両者は明らかに区別することができる。したがって、制御装置は、読取部38bによって検出された変位が所定の閾値以上である場合には、その変位を衝突対象物Mとの衝突に起因するものであると判別する。
上記実施形態では、エンジニアリングプラスチックであるPEEK材を使用する例について説明したが、ガード部40を形成する材料よりも熱伝導率の低い材料であれば特に限定しない。
また、上記実施形態では、衝突部41bを被覆しない例について説明したが、対向面41aとともに衝突部41bを含めた近接対向部41全体について被覆を行ってもよい。この場合、衝突対象物Mとの衝突時、コーティング材43による検出精度の低下を抑えるため、コーティング材43にはガード部40の硬度よりも高い硬度を有するコーティング材43を選択することが好ましい。
また、上記実施形態では、基板10がガード部40よりも温度が高い場合について説明したが、乾燥後の冷却により基板10が過冷却され、基板10がガード部40よりも温度が低い場合であっても、基板10の温度ムラの影響を抑えることができる。すなわち、近接対向部41がコーティング材43により被覆されることにより、ガード部40の熱が放熱されにくいため、基板10に伝熱されるのを抑え、基板10がガード部40の熱の影響を受けるのを抑えることができる。
10 基板
21 ステージ
30 塗布ユニット
34 口金部
34a スリットノズル
40 ガード部
41 近接対向部
41a 対向面
41b 衝突部

Claims (3)

  1. 基板を載置するステージと、
    前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、スリットノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布ユニットと、
    前記スリットノズルよりも塗布進行方向側にスリットノズルの長手方向に沿って取付けられ、スリットノズルよりも先に衝突対象物と接触させることでスリットノズルを保護するガード部と、
    を備えており、
    前記ガード部は、基板と近接して対向する近接対向部を長手方向に亘って有しており、この近接対向部は、ガード部を形成する材料よりも熱伝導率の低い材料で被覆されていることを特徴とする塗布装置。
  2. 前記近接対向部には、塗布進行方向側に衝突対象物と衝突させる衝突部が形成されており、この衝突部を除いた領域にのみ、ガード部を形成する材料よりも熱伝導率の低い材料で被覆されていることを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。
  3. 前記近接対向部は、エンジニアリングプラスチックで被覆されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の塗布装置。
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