JP2010211206A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012029268A (ja) 2010-06-25 2012-02-09 Ntt Docomo Inc ネットワーク装置
KR101925983B1 (ko) * 2011-12-14 2018-12-07 엘지디스플레이 주식회사 액정표시소자 및 그 제조방법
CN102651340B (zh) * 2011-12-31 2014-11-19 京东方科技集团股份有限公司 一种tft阵列基板的制造方法
CN102879962A (zh) * 2012-09-28 2013-01-16 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及显示装置
CN102955635B (zh) * 2012-10-15 2015-11-11 北京京东方光电科技有限公司 一种电容式内嵌触摸屏及显示装置
CN102937853B (zh) 2012-10-19 2015-10-14 北京京东方光电科技有限公司 一种电容式内嵌触摸屏、其驱动方法及显示装置
CN103472943A (zh) * 2013-08-06 2013-12-25 福建华映显示科技有限公司 内嵌式触控显示面板
CN103676380A (zh) * 2013-12-25 2014-03-26 合肥京东方光电科技有限公司 阵列基板、显示面板及其驱动方法
CN103744245A (zh) * 2013-12-31 2014-04-23 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示器阵列基板及相应的液晶显示器
CN104269412B (zh) * 2014-09-19 2017-08-25 昆山龙腾光电有限公司 Tft阵列基板、tft阵列基板的制作方法及显示装置
CN108428705A (zh) * 2018-04-09 2018-08-21 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置
CN112540484B (zh) * 2020-11-24 2022-07-05 惠科股份有限公司 一种显示面板和显示装置
CN113948458B (zh) * 2021-10-18 2024-04-30 昆山龙腾光电股份有限公司 阵列基板及其制作方法
CN114994992B (zh) * 2022-05-11 2023-10-20 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置
CN116088211A (zh) * 2023-01-03 2023-05-09 信利(惠州)智能显示有限公司 液晶显示面板与液晶显示装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3208658B2 (ja) * 1997-03-27 2001-09-17 株式会社アドバンスト・ディスプレイ 電気光学素子の製法
TW452669B (en) * 1999-03-18 2001-09-01 Sanyo Electric Co Active matrix type display device
KR100900541B1 (ko) * 2002-11-14 2009-06-02 삼성전자주식회사 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판
KR101030545B1 (ko) * 2004-03-30 2011-04-21 엘지디스플레이 주식회사 액정표시소자
KR101208724B1 (ko) * 2005-01-03 2012-12-06 삼성디스플레이 주식회사 어레이 기판 및 이를 구비한 표시 패널
KR20070004229A (ko) * 2005-07-04 2007-01-09 삼성전자주식회사 박막트랜지스터기판 및 이의 제조방법
KR100846974B1 (ko) * 2006-06-23 2008-07-17 베이징 보에 옵토일렉트로닉스 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 Tft lcd 어레이 기판 및 그 제조 방법
KR20080000496A (ko) * 2006-06-27 2008-01-02 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치용 어레이 기판 및 그 제조방법
CN101382679B (zh) * 2007-09-07 2012-02-08 群康科技(深圳)有限公司 液晶显示面板

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