JP2010141020A - 固体撮像装置とその製造方法、電子機器並びに半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体基板10の受光面に複数の画素が集積された画素領域A1の外周を囲んで、画素領域A1を含む内側の領域と外側のダイシング領域A5を区分するガードリングGとを有し、光導波路を構成する第1光透過層51と、オンチップレンズを構成する第2光透過層53がガードリングG近傍及びダイシング領域A5にも形成されており、ガードリングG近傍及びダイシング領域A5において第1光透過層51の表面高さがガードリングGより低く、第1光透過層51と第2光透過層53の界面がガードリングGと接するように形成された構成、または、ダイシング領域A5の少なくとも一部において第1光透過層51が除去された構成とする。
【選択図】図1
Description
近年、固体撮像素子においては、高解像度化、多画素化への要求は高まる一方であり、このような状況の中で、チップサイズを大型化することなく高解像度を得るためには、単位画素あたりの面積を縮小し、高集積化を図る必要がある。
上記の問題を解決するため、特許文献1及び2などに、フォトダイオードとオンチップレンズの間に、高屈折率のコア材を低屈折率のクラッド材で囲んだ光導波路を配置する構造が開示されている。
例えば、図15(a)に示すように、ウエハ状態の半導体基板110の画素領域A1に、画素が形成されている。各画素は、例えば、フォトダイオード111、拡散層112などを含むトランジスタ、層間絶縁膜113、コンタクトプラグ114、酸化シリコンなどからなる積層絶縁膜115、銅などからなる配線層116などが形成されている。積層絶縁膜115には、光導波路用凹部118が設けられており、その内壁を被覆して窒化シリコンなどからなる保護膜117が形成されており、その内側の領域を埋め込んで全面にシロキサン樹脂などの第1光透過層151が形成されている。第1光透過層151は、光導波路用凹部118内において高屈折率のコア部151aを構成する。第1光透過層151の上層に、青色(B)、緑色(G)または赤色(R)のカラーフィルタ152が画素ごとに形成されている。カラーフィルタの上層に、オンチップレンズ153aが各画素に対して形成されている。オンチップレンズ153aは光透過性の材料で構成されており、この材料からなる第2光透過層153がウエハの全面に形成されている。前記第1光透過層の上には、カラーフィルタとの密着性を改善させるための光を透過する透明な平坦化層がウエハの全面に形成されていても良い。
また、本発明の固体撮像装置は、ダイシング領域の少なくとも一部において第1光透過層が除去されており、ダイシングにおいて第1光透過層に起因するクラックが発生せず、クラックに起因する画質低下及び歩留まり低下を低減することができる。
また、本発明の固体撮像装置の製造方法は、ダイシング領域の少なくとも一部において第1光透過層が除去するので、ダイシングにおいて第1光透過層に起因するクラックが発生せず、クラックに起因する画質低下及び歩留まり低下を低減することができる。
尚、説明は以下の順序で行う。
1.第1実施形態(第1光透過層と第2光透過層の界面がガードリングと接している構成)
2.第2実施形態(ダイシング領域の一部において第1光透過層が除去され、除去された部分に第2光透過層が形成された構成)
3.第3実施形態(ダイシング領域の一部において第1光透過層及び第2光透過層が除去された構成)
4.第4実施形態(ダイシング領域の全部において第1光透過層が除去され、除去された部分に第2光透過層が形成された構成)
5.第5実施形態(電子機器への適用)
[全体構成]
図1は、本実施形態に係る固体撮像装置であるCMOSイメージセンサの模式的断面図である。
図面上、画素領域A1、ロジック領域A2、パッド領域A3、ガードリング領域A4が設けられている。
例えば、半導体基板10の画素領域A1に複数の画素が集積されており、受光面が構成されている。
各画素は、例えば、画素ごとに区分して形成されたフォトダイオード11を有する。さらに、各画素において、拡散層12などを含むトランジスタ、層間絶縁膜13、コンタクトプラグ14、酸化シリコンなどからなる積層絶縁膜15、銅などからなる配線層16などが形成されている。
積層絶縁膜15には、例えば、フォトダイオードの上方部分において画素ごとに光導波路用凹部18が設けられている。
例えば、光導波路用凹部18の内壁を被覆して窒化シリコンあるいは炭化シリコンなどからなる保護膜17が形成されている。窒化シリコンの場合、例えば400nm程度の膜厚である。
保護膜17の上層において光導波路用凹部18を埋め込んで、全面にシロキサン樹脂などの第1光透過層51が形成されている。
第1光透過層51は、光導波路用凹部18内において高屈折率のコア部51aを構成する。
第1光透過層51を構成するシロキサン樹脂としては、例えば、ポリオルガノシルセスキオキサン系のシロキサン樹脂を用いることができる。
例えば、グラスレジン908F(商品名、テクネグラス社、屈折率1.57(550nm))を用いることができる。
カラーフィルタの上層に、例えば、オンチップレンズ53aが各画素に対して形成されている。
オンチップレンズ53aは光透過性の材料で構成されており、この材料からなる第2光透過層53が全面に形成されている。
上記の画素領域A1において、光情報が入射するとフォトダイオードに電気信号が生成される。
得られた電気信号はトランジスタで増幅され、配線層16などを経てロジック領域A2などに出力される。
それらの表面に全面に保護膜17が形成されている。
上記のロジック領域A2は、画素領域A1から入力された電気信号の画像処理などを行う。
その表面に全面に保護膜17が形成されている。
絶縁膜32及び保護膜17には、後述のようにパッド電極31に達するパッド開口部POが開口されている。
パッド電極は、例えば少量の銅を含むアルミニウム合金で形成されており、膜厚は例えば1μm程度である。
パッド電極31は、不図示の配線でロジック領域A2に接続されており、画像処理された電気信号を外部に出力する。
ガードリングGは、例えば、高さが1.5μmであり、幅が20μm程度である。
ダイシング前の半導ウエハにおいては、2つのガードリングGで挟まれた領域がダイシング領域となる。
即ち、ガードリングGは、画素領域を含む内側の領域と外側のダイシング領域を区分するように形成されている。
ここで、ガードリングG近傍及びダイシング領域において第1光透過層51の表面高さがガードリングGより低く、第1光透過層51と第2光透過層53の界面がガードリングGと接するように形成されている。
上記の構成において、図1中Dで示すように、ダイシング領域内においてダイシングされ、個片化されている。
また、パッド領域A3においては、パッド電極31に達するように第1光透過層51と第2光透過層53及び保護膜17などに対して、パッド開口部POが形成されている。
これにより、平坦性や第1光透過層と第2光透過層の密着性を高めることができる。
次に、本実施形態に係る固体撮像装置の製造方法について説明する。
まず、図2(a)に示す構成に至るまでの工程について説明する。
図面上、画素領域A1、ロジック領域A2、パッド領域A3及びガードリング領域A4を示しており、2つのガードリング領域A4で挟まれた領域がダイシング領域A5となる。
ダイシング領域においてダイシングを行う前のウエハ状態で、下記の工程を行うものである。
ここでは、例えば、半導体基板に、フォトダイオード11及び拡散層12などを含むトランジスタを形成し、さらに層間絶縁膜13及び積層絶縁膜15を積層し、その内部に、コンタクトプラグ14及び配線層16などが埋め込まれるようにして形成する。
次に、フォトレジストを塗布してフォトダイオード11の上方を開口するように露光及び現像し、これをマスクとしてエッチングを行うことで、光導波路用凹部18を形成する。
トランジスタ及び配線層は、画素領域A1と同時または同様の工程により形成することができる。
ガードリング領域A4においては、上記のように、積層絶縁膜41、銅などからなる配線層24などと同じ層からなる導電層42、パッド電極と同じ層からなる導電層43などからガードリングGを形成する。
例えば、上記の画素領域A1、ロジック領域A2、パッド領域A3を囲むように、所定の高さ及び幅を有する形状の構造体を形成し、ガードリングGとする。
例えば、ガードリングGの高さが1.5μm、幅が20μm程度であり、ダイシング領域A5の幅は100μm程度である。
上記の保護膜17は、ロジック領域A2の積層絶縁膜23、パッド領域A3の絶縁膜32、ガードリング領域A4の積層絶縁膜41、及びダイシング領域A5などを被覆して全面に形成する。
例えば、シロキサン樹脂としては、オルガノシルセスキオキサン系のシロキサン樹脂であるグラスレジン908F(商品名、テクネグラス社、屈折率1.57(550nm))をガンマブチロラクトンに15%溶解した塗料を用いる。
上記の塗料をスピンコーティングで塗布し、300℃でベーク処理して溶媒を十分揮発させて、上記の第1光透過層51を形成する。
上記の処理により、第1光透過層51は、画素領域A1を含む全面に形成される。
例えば、ベーク処理後の画素部の配線上のシロキサンの第1光透過層51の膜厚は320nm程度である。
ガードリングG上の第1光透過層51bの膜厚は、ガードリングが周囲よりも突出して高いため、シロキサン塗料の表面張力に起因するレベリング効果により、90nmと薄くなる。
実際には、ダイシング領域A5の一部にはアライメントマークなどの構造が配置される場合もあるが、これら構造はガードリングGより低いために、シロキサンを埋め込んだ後の膜厚分布に対する影響はない。
ここでは、例えば、CCP方式のドライエッチングにより行う。
条件は、CF4とO2をそれぞれ150SCCMと50SCCMで流し、50mT、トップパワー及びボトムパワーをそれぞれ1000W、500WとするCF4/O2プラズマ処理をウエハ全面に60秒間処理する。
これにより、例えば第1光透過層51が上面から均等に150nmエッチング除去される。
画素領域A1において光導波路以外の部分では第1光透過層51の膜厚は170nmになる。
また、ガードリングG上のシロキサン樹脂は完全にエッチングされ、保護膜17が露出する。
黄、マゼンタ、シアンの組合せとしてもよい。
次に、例えば、高屈折率の非感光性スチレン樹脂などからなる第2光透過層53を塗布して形成する。
その上にi線フォトレジストを塗布し、各画素上に円状のパターンを露光、現像する。
次に、例えば、200℃の熱をかけることで円状のレジストパターンをリフローして球面上のオンチップレンズパターンを形成する。
このパターンを等速エッチバックにより上記のスチレン樹脂に転写してオンチップレンズ53aを形成する。
上記の処理により、第2光透過層53は、画素領域A1を含む全面に形成される。
第1光透過層51と第2光透過層53の間に平坦性と密着性を良くするアクリル系熱硬化樹脂を挟んでも良い。
特に平坦性を高める平坦化層としては、画素領域及びガードリング近傍及びダイシング領域において、第1光透過層と第2光透過層の界面に第1光透過層または第2光透過層の一部として光を透過する層が形成されていることが好ましい。
これは、上記のように第1光透過層51の表面の高さがガードリングGより低くなるように、第1光透過層51を表面から除去して後退させたことによる。
得られたフォトレジストをマスクとして、第2光透過層53、第1光透過層51、保護膜17及び絶縁膜32をエッチング除去して、パッド開口部POを形成する。
例えば、ダイシング領域A5に対して50μm幅のダイシングブレード用いて、毎分45000回転で、切削洗浄水を毎分1.5L与えながらダイシングを行う。
しかし、本実施形態においては、第1光透過層と第2光透過層の界面がガードリングと接するように形成され、第1光透過層と第2光透過層の界面でクラックが発生してもガードリングで停止し、クラックの有効画素部内への伝播に起因する画質低下及び歩留まり低下を低減することができる。
ダイシング領域において第1光透過層を含む膜剥がれは発生しても、剥がれる面積はダイシング領域の幅である100μm以下となる。また、ダイシング時に発生するゴミの量も少なく、切削洗浄水によって大部分が洗い流される。
このため、画素エリアのオンチップレンズ上にダイシングで発生したゴミの付着が低減される。
上記のように、画素領域へのゴミの付着が抑制され、第1光透過層の界面における膜剥がれが抑制され、画質の低下を抑制し、歩留まり低下を0.5%程度に抑制できる。
[全体構成]
図5は、本実施形態に係る固体撮像装置であるCMOSイメージセンサの模式的断面図である。
ダイシング領域のA5の一部(実際にダイシングされる中央部近傍)において、第1光透過層51が除去されており、第1光透過層51が除去された領域に第2光透過層53が形成されている。
第1光透過層51が除去された領域において第2光透過層53を切断するように、ダイシングされている。
上記を除いて、実質的に第1実施形態と同様の構成である。
次に、本実施形態に係る固体撮像装置の製造方法について説明する。
まず、第1実施形態の図2(b)に示す構成に至るまで、第1実施形態と同様にして形成する。
次に、図6(a)に示すように、例えば、フォトレジスト膜PR1を塗布して、ダイシング領域A5におけるダイシングブレードが実際に切断する部分以外をカバーするように露光及び現像する。
5%フッ酸のシロキサンに対するシリコンナイトライド膜の選択比は12:1であり、保護膜17の後退は最大で80nmに留まる。第1光透過層51を除去した後に有機系の剥離液によってフォトレジスト膜PR1を完全に除去する。
次に、例えば、オンチップレンズ53aを含む第2光透過層53を形成する。
ここで、第1光透過層51が除去された領域にも第2光透過層53を形成する。
さらに、第1実施形態と同様に、パッド開口部POを形成する。
例えば、ダイシング領域A5に対して50μm幅のダイシングブレード用いて、毎分45000回転で、切削洗浄水を毎分1.5L与えながらダイシングを行う。
本実施形態においては、ダイシング領域A5の第1光透過層51が除去された領域にも第2光透過層53が形成されており、ダイシングする工程において第2光透過層53を切断する。
また、ダイシング領域A5には第1光透過層51が無いため、切削時のゴミの量も少なく、切削洗浄水によって大部分が洗い流される。
このため、画素エリアのオンチップレンズ上にダイシングで発生したゴミの付着が低減される。
上記のように、画素領域へのゴミの付着が抑制され、第1光透過層の界面における膜剥がれが抑制され、画質の低下を抑制し、歩留まり低下を0.1%程度に抑制できる。
[全体構成]
図8は、本実施形態に係る固体撮像装置であるCMOSイメージセンサの模式的断面図である。
ダイシング領域のA5の一部(実際にダイシングされる中央部近傍)において、第1光透過層51及び第2光透過層53が除去されている。
第1光透過層51及び第2光透過層53が除去された領域においてダイシングされている。
上記を除いて、実質的に第1実施形態と同様の構成である。
次に、本実施形態に係る固体撮像装置の製造方法について説明する。
まず、第1実施形態の図2(b)に示す構成に至るまで、第1実施形態と同様にして形成する。
次に、例えば、第1光透過層51の上層に、青色(B)、緑色(G)または赤色(R)のカラーフィルタ52を画素ごとにマトリクス状に形成する。
次に、例えば、オンチップレンズ53aを含む第2光透過層53を形成する。
以上のようにして、図9(a)に示す構成とする。
パッド領域A3においては、さらに保護膜17及び絶縁膜32をエッチング除去して、パッド開口部POを形成する。
ここで、第2光透過層53及び第1光透過層51のエッチング除去条件は、第1実施形態と同様に行うことができる。
この危険を防止するために、スクライブ部の銅配線を、パッド形成のためのアルミ層で覆い、ドライエッチングがアルミ層でストップすることで銅パターンの露出を防ぐことも可能である。
または、上記のフォトレジスト膜PR2でスクライブ領域の銅配線上を被覆することで、銅パターンの露出を防ぐことも可能である。
これらの場合は、スクライブ領域の一部にシロキサンの層が残ってしまう。シロキサンの層との界面を伝播するクラックを防止するために、ダイシングブレードの通る位置と、画素及びロジック部などのデバイス本体との間にシロキサンの層が除去された領域を設ける。
例えば、ダイシング領域A5に対して50μm幅のダイシングブレード用いて、毎分45000回転で、切削洗浄水を毎分1.5L与えながらダイシングを行う。
本実施形態においては、ダイシングする工程において第1光透過層51及び第2光透過層53が除去された領域においてダイシングする。
また、ダイシング領域A5には第1光透過層51が無いため、切削時のゴミの量も少なく、切削洗浄水によって大部分が洗い流される。
このため、画素エリアのオンチップレンズ上にダイシングで発生したゴミの付着が低減される。
上記のように、画素領域へのゴミの付着が抑制され、第1光透過層の界面における膜剥がれが抑制され、画質の低下を抑制し、歩留まり低下を0.1%程度に抑制できる。
[全体構成]
図11は、本実施形態に係る固体撮像装置であるCMOSイメージセンサの模式的断面図である。
本実施形態においては、第1光透過層51が画素領域A1とロジック領域A2の一部のみに残されている。
即ち、ダイシング領域のA5の全部において第1光透過層51が除去されている。
上記の第1光透過層51が除去された領域に第2光透過層53が形成されている。
第1光透過層51が除去された領域において第2光透過層53を切断するように、ダイシングされている。
上記を除いて、実質的に第1実施形態と同様の構成である。
次に、本実施形態に係る固体撮像装置の製造方法について説明する。
まず、第1実施形態の図2(b)に示す構成に至るまで、第1実施形態と同様にして形成する。
次に、図12(a)に示すように、例えば、フォトレジスト膜PR3を塗布して、画素領域A1とロジック領域A2の一部をカバーするように露光及び現像する。
25%TMAH水溶液の、シロキサンに対する窒化シリコンの選択比は30:1であり、窒化シリコンの損失は最大で40nmに留まる。
これにより、第1光透過層51について画素領域A1とロジック領域A2の一部を残して選択的に除去する。
画素領域A1、ロジック領域A2、パッド領域A3、ガードリング領域A4及びダイシング領域A5をそれぞれ示している。
ここで、第1光透過層51は、画素領域A1とロジック領域A2の一部を被覆するように形成する。
第1光透過層51は、平面図上、角部51Rが丸められた形状となるようにレイアウトとする。
例えば、角部51Rの曲率半径が60μmになるようにする。
ここで、第1光透過層51について、平面図上、角部51Rが丸められた形状としたため、第2光透過層53を形成する際に第1光透過層51の角を基点とする塗布ムラを抑制防止できる。
その後、実質的に第1実施形態と同様にして、図11に示す構成とすることができる。
また、ダイシング領域A5には第1光透過層51が無いため、切削時のゴミの量も少なく、切削洗浄水によって大部分が洗い流される。
このため、画素エリアのオンチップレンズ上にダイシングで発生したゴミの付着が低減される。
上記のように、画素領域へのゴミの付着が抑制され、第1光透過層の界面における膜剥がれが抑制され、画質の低下を抑制し、歩留まり低下を0.1%程度に抑制できる。
比較例として、第1光透過層51形成工程までは、第1実施形態と同様に形成し、第1光透過層形成後に、第1光透過層51をエッチングによる表面高さの後退をさせない構造としてCMOSイメージセンサを作成した。
このとき、ガードリングG上に第1光透過層が存在する状態となっている。
この構造にダイシングを行った結果、ダイシングブレードの機械的応力で発生した第1光透過層と第2光透過層の界面でのクラックがガードリングを越えてパッド部とロジック部まで到達するチップもあった。
ガードリングを越えてクラックが進行し、第2光透過層が剥離してしまう確率は4%であった。
また、ダイシング時切削時のゴミの量が多く、画素エリアのオンチップレンズ上にダイシングで発生したゴミの付着のため、3%の歩留まり低下があった。
比較例においては、第2光透過層の剥離とダイシングで発生したゴミの付着により、平均7%の歩留まり低下があった。
画素領域以外の第1光透過層の平面図上の角部形状の曲率半径を0.11μmにした。
上記のように製造すると、第1光透過層エッチング後の第2光透過層形成工程において、第1光透過層の段差に起因する塗布のムラが発生し、歩留まりが低下した。
[電子機器への適用]
図14は、本実施形態に係る電子機器であるカメラの概略構成図である。
複数の画素が集積されてなる固体撮像装置60、光学系61、信号処理回路62を備えている。
本実施形態において、上記の固体撮像装置60は、上記の第1実施形態〜第4実施形態のいずれかに係る固体撮像装置が組み込まれてなる。
これにより、固体撮像装置60の撮像面上の各画素を構成するフォトダイオードにおいて入射光量に応じて信号電荷に変換され、一定期間、該当する信号電荷が蓄積される。
蓄積された信号電荷は、例えばCCD電荷転送路を経て、出力信号Voutとして取り出される。
信号処理回路62は、固体撮像装置60の出力信号Voutに対して種々の信号処理を施して映像信号として出力する。
上記の本実施形態に係るカメラによれば、斜め入射光の集光率低下及び感度低下を招かずに、色シェーディング特性や分光特性を改善でき、さらにマイクロレンズを簡便な方法、工程で形成することが可能である。
例えば、実施形態においてはCMOSセンサとCCD素子のいずれにも適用できる。
また、固体撮像装置以外の半導体装置にも適用できる。
例えば、活性領域を有する半導体基板上にシロキサン樹脂を含む樹脂層が形成され、活性領域の外周を囲んで、活性領域を含む内側の領域と外側のダイシング領域を区分するガードリングが形成されている。
ここで、樹脂層がガードリング近傍及びダイシング領域にも形成されており、ガードリング近傍及びダイシング領域において樹脂層の表面高さがガードリングより低く形成され、ダイシング領域内においてダイシングされている構成である。
あるいは、ダイシング領域の少なくとも一部において樹脂層が除去されており、樹脂層が除去された領域においてダイシングされている構成である。
平坦化層は、第1実施形態のほか、他の実施形態においても適宜適用可能である。
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。
Claims (20)
- 半導体基板の受光面に複数の画素が集積されてなる画素領域において前記画素ごとに区分して形成されたフォトダイオードと、
前記フォトダイオードを被覆して前記半導体基板上に形成された絶縁膜と、
前記フォトダイオードの上方部分において前記絶縁膜に前記画素ごとに形成された凹部と、
シロキサン樹脂からなり、前記画素領域において前記凹部に埋め込まれて光導波路を構成するように形成されたる第1光透過層と、
前記画素領域において前記画素ごとのオンチップレンズを構成するように形成された第2光透過層と、
画素領域の外周を囲んで形成され、前記画素領域を含む内側の領域と外側のダイシング領域を区分するガードリングと
を有し、
前記第1光透過層と前記第2光透過層が前記ガードリング近傍及び前記ダイシング領域にも形成されており、前記ガードリング近傍及び前記ダイシング領域において前記第1光透過層の表面高さが前記ガードリングより低く、前記第1光透過層と前記第2光透過層の界面が前記ガードリングと接するように形成され、
前記ダイシング領域内においてダイシングされている
固体撮像装置。 - 前記画素領域において、前記第1光透過層と前記第2光透過層の界面に画素ごとにカラーフィルタが形成されている
請求項1に記載の固体撮像装置。 - 前記画素領域及び前記ガードリング近傍及び前記ダイシング領域において、前記第1光透過層と前記第2光透過層の界面に前記第1光透過層または前記第2光透過層の一部として光を透過する平坦化層が形成されている
請求項1に記載の固体撮像装置。 - 半導体基板の受光面に複数の画素が集積されてなる画素領域において前記画素ごとに区分して形成されたフォトダイオードと、
前記フォトダイオードを被覆して前記半導体基板上に形成された絶縁膜と、
前記フォトダイオードの上方部分において前記絶縁膜に前記画素ごとに形成された凹部と、
シロキサン樹脂からなり、前記画素領域において前記凹部に埋め込まれて光導波路を構成するように形成されたる第1光透過層と、
前記画素領域において前記画素ごとのオンチップレンズを構成するように形成された第2光透過層と、
画素領域の外周を囲んで形成され、前記画素領域を含む内側の領域と外側のダイシング領域を区分するガードリングと
を有し、
前記ダイシング領域の少なくとも一部において前記第1光透過層が除去されており、前記第1光透過層が除去された領域においてダイシングされている
固体撮像装置。 - 前記ダイシング領域の少なくとも一部において前記第1光透過層が除去されており、前記第1光透過層が除去された領域に前記第2光透過層が形成されており、前記第1光透過層が除去された領域において前記第2光透過層を切断するようにダイシングされている
請求項4に記載の固体撮像装置。 - 前記ダイシング領域の全部において前記第1光透過層が除去されており、前記ダイシング領域に前記第2光透過層が形成されており、前記ダイシング領域おいて前記第2光透過層を切断するようにダイシングされている
請求項4に記載の固体撮像装置。 - 前記第1光透過層が除去されており、平面図上角部が丸められた形状で前記第1光透過層がレイアウトされている
請求項5に記載の固体撮像装置。 - 前記ダイシング領域の少なくとも一部において前記第1光透過層及び前記第2光透過層が除去されており、前記第1光透過層及び前記第2光透過層が除去された領域においてダイシングされている
請求項4に記載の固体撮像装置。 - 前記画素領域において、前記第1光透過層と前記第2光透過層の界面に画素ごとにカラーフィルタが形成されている
請求項4〜8のいずれかに記載の固体撮像装置。 - 前記画素領域及び前記ガードリング近傍及び前記ダイシング領域において、前記第1光透過層と前記第2光透過層の界面に前記第1光透過層または前記第2光透過層の一部として光を透過する平坦化層が形成されている
請求項4〜8のいずれかに記載の固体撮像装置。 - 半導体基板の受光面に複数の画素が集積されてなる画素領域において前記画素ごとに区分してフォトダイオードを形成する工程と、
前記フォトダイオードを被覆して前記半導体基板上に絶縁膜を形成する工程と、
前記フォトダイオードの上方部分において前記絶縁膜に前記画素ごとに凹部を形成する工程と、
シロキサン樹脂からなり、前記画素領域において前記凹部に埋め込まれて光導波路を構成するように第1光透過層を形成する工程と、
前記画素領域において前記画素ごとのオンチップレンズを構成するように第2光透過層を形成する工程と、
画素領域の外周を囲んで、前記画素領域を含む内側の領域と外側のダイシング領域を区分するガードリングを形成する工程と、
前記ダイシング領域内においてダイシングする工程と
を有し、
前記第1光透過層と前記第2光透過層を形成する工程において、前記ガードリング近傍及び前記ダイシング領域において前記第1光透過層の表面高さが前記ガードリングより低く、前記第1光透過層と前記第2光透過層の界面が前記ガードリングと接するように、前記ガードリング近傍及び前記ダイシング領域にも前記第1光透過層と前記第2光透過層を形成する
固体撮像装置の製造方法。 - 前記第1光透過層を形成した後、前記第2光透過層を形成する前に、前記第1光透過層の表面の高さが前記ガードリングより低くなるように、前記第1光透過層を表面から除去して後退させる工程をさらに有する
請求項11に記載の固体撮像装置の製造方法。 - 半導体基板の受光面に複数の画素が集積されてなる画素領域において前記画素ごとに区分してフォトダイオードを形成する工程と、
前記フォトダイオードを被覆して前記半導体基板上に絶縁膜を形成する工程と、
前記フォトダイオードの上方部分において前記絶縁膜に前記画素ごとに凹部を形成する工程と、
シロキサン樹脂からなり、前記画素領域において前記凹部に埋め込まれて光導波路を構成するように第1光透過層を形成する工程と、
前記画素領域において前記画素ごとのオンチップレンズを構成するように第2光透過層を形成する工程と、
画素領域の外周を囲んで、前記画素領域を含む内側の領域と外側のダイシング領域を区分するガードリングを形成する工程と、
前記ダイシング領域内においてダイシングする工程と
を有し、
前記第1光透過層を形成する工程が、前記ダイシング領域の少なくとも一部において前記第1光透過層を除去する工程を含み、
前記ダイシングする工程において、前記第1光透過層が除去された領域においてダイシングする
固体撮像装置の製造方法。 - 前記第1光透過層を形成する工程が前記ダイシング領域の少なくとも一部において前記第1光透過層を除去する工程を含み、
前記第2光透過層を形成する工程において前記第1光透過層が除去された領域にも前記第2光透過層を形成し、
前記ダイシングする工程において前記第1光透過層が除去された領域において前記第2光透過層を切断するようにダイシングする
請求項13に記載の固体撮像装置の製造方法。 - 前記第1光透過層を形成する工程が前記ダイシング領域の全部において前記第1光透過層を除去する工程を含み、
前記第2光透過層を形成する工程において前記ダイシング領域にも前記第2光透過層を形成し、
前記ダイシングする工程において前記ダイシング領域おいて前記第2光透過層を切断するようにダイシングする
請求項13に記載の固体撮像装置の製造方法。 - 前記第1光透過層を除去する工程において、残された前記第1光透過層が、平面図上角部が丸められた形状のレイアウトとなるように、除去する
請求項15に記載の固体撮像装置の製造方法。 - 前記第2光透過層を形成する工程の後、前記ダイシングする工程の前、前記ダイシング領域の少なくとも一部において前記第1光透過層及び前記第2光透過層を除去する工程を有し、
前記ダイシングする工程において前記第1光透過層及び前記第2光透過層が除去された領域においてダイシングする
請求項13に記載の固体撮像装置の製造方法。 - 受光面に複数の画素が集積されてなる固体撮像装置と、
前記固体撮像装置の撮像部に入射光を導く光学系と、
前記固体撮像装置の出力信号を処理する信号処理回路と
を有し、
前記固体撮像装置は、
半導体基板の受光面に複数の画素が集積されてなる画素領域において前記画素ごとに区分して形成されたフォトダイオードと、
前記フォトダイオードを被覆して前記半導体基板上に形成された絶縁膜と、
前記フォトダイオードの上方部分において前記絶縁膜に前記画素ごとに形成された凹部と、
シロキサン樹脂からなり、前記画素領域において前記凹部に埋め込まれて光導波路を構成するように形成された第1光透過層と、
前記画素領域において前記画素ごとのオンチップレンズを構成するように形成された第2光透過層と、
画素領域の外周を囲んで形成され、前記画素領域を含む内側の領域と外側のダイシング領域を区分するガードリングと
を有し、
前記第1光透過層と前記第2光透過層が前記ガードリング近傍及び前記ダイシング領域にも形成されており、前記ガードリング近傍及び前記ダイシング領域において前記第1光透過層の表面高さが前記ガードリングより低く、前記第1光透過層と前記第2光透過層の界面が前記ガードリングと接するように形成され、
前記ダイシング領域内においてダイシングされている
電子機器。 - 活性領域を有する半導体基板と、
前記半導体基板上に形成されたシロキサン樹脂を含む樹脂層と、
前記活性領域の外周を囲んで形成され、前記活性領域を含む内側の領域と外側のダイシング領域を区分するガードリングと
を有し、
前記樹脂層が前記ガードリング近傍及び前記ダイシング領域にも形成されており、前記ガードリング近傍及び前記ダイシング領域において前記樹脂層の表面高さが前記ガードリングより低く形成され、
前記ダイシング領域内においてダイシングされている
半導体装置。 - 活性領域を有する半導体基板と、
前記半導体基板上に形成されたシロキサン樹脂を含む樹脂層と、
前記活性領域の外周を囲んで形成され、前記活性領域を含む内側の領域と外側のダイシング領域を区分するガードリングと
を有し、
前記ダイシング領域の少なくとも一部において前記樹脂層が除去されており、前記樹脂層が除去された領域においてダイシングされている
半導体装置。
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