JP6893757B2 - 固体撮像素子及びその製造方法 - Google Patents
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Description
以下、本発明を実施するための一実施形態について、図面に従って説明する。
図1はマイクロレンズ用のレンズ材層の端部を保護していない従来の固体撮像素子を示した平面図であり、図5は、本発明の実施形態の固体撮像素子を示した平面図である。図4は、本発明の実施形態の固体撮像素子の構造を示した断面図であり、図2と図3はその製造方法を説明する断面図である。
以下に、本発明による固体撮像素子1の製造方法の一実施例を、その実施の形態に基づいて説明する。
図示しない配線と光電変換素子11からなる固体撮像素子1が多数個面付けされた半導体基板10を準備する。
次に、カラーフィルタ13の形成に先立って、半導体基板10の光電変換素子11が形成された受光面側に、熱硬化型のアクリル樹脂をコーティングし、加熱して0.1μm程度の厚さの第1の平坦化層12を形成する。
この第1の平坦化層12の上に、個々の光電変換素子11に対応した部位に厚さが概ね1μm程度の緑、赤、青の着色画素からなるカラーフィルタ13をフォトリソグラフィー法により形成する。
次に、カラーフィルタ13上に第2の平坦化層14を形成する。
次に、第2の平坦化層14上に、光電変換素子11ごとにマイクロレンズ15を形成する。
次に、反射防止層17をウェハー基板10の全面に形成する準備として、スクライブライン2と外部接続端子3の領域に反射防止層17のリフトオフ用レジスト層16のパターンを形成する。
次に、マイクロレンズ15の表面を含むウェハー基板10の全面に反射防止層17を形成する。例えば、マイクロレンズ15が形成されたウェハー基板10上に、150℃以下の低温条件にて、プラズマCVD法により90nm程度の厚みで反射防止層17のSiO2層を製膜する。
次に、図2(d)のように、リフトオフ用レジスト層16のパターンを除去する。
次に、スクライブライン2の領域と外部接続端子3の領域以外の領域をエッチングマスク用のポジ型レジストで保護して酸素プラズマでドライエッチングすることで、図3(e)のように、スクライブライン2の領域と外部接続端子3の領域の、レンズ材層と第2の平坦化層1と第1の平坦化層12の樹脂を除去し、スクライブライン2と外部接続端子3を露出させる。その除去領域の境界にレンズ材層の端部15aが形成される。
次に、フォトリソグラフィー法で、図3(f)のように、反射防止層17のパターンの端面部分を被覆する端面保護層18の樹脂のレジストパターンを形成する。
次に、半導体基板10のシリコンウエハを粘着シート(ダイシングテープ)に貼り付けて、ダイシングブレード20で、半導体基板10のウェハーにアレイ状に並ぶ固体撮像素子1の境界のスクライブライン2に沿って半導体基板10をダイシングし断裁することで、個々の固体撮像素子1のチップに分離する。
に通して洗浄した後、反射防止層17の端面の剥離が無いことを確認した。こうして、本発明により、マイクロレンズ用のレンズ材層の端部15aでのレンズ材層と反射防止層17の層間の剥離の無い固体撮像素子1を得ることができた。
2・・・スクライブライン
3・・・外部接続端子
10・・・半導体基板
11・・・光電変換素子
12・・・第1の平坦化層
13・・・カラーフィルタ
14・・・第2の平坦化層
15・・・マイクロレンズ
15a・・(マイクロレンズ用の)レンズ材層の端部
16・・・(リフトオフ用)レジスト層
17・・・反射防止層
18・・・端面保護層
20・・・ダイシングブレード
Claims (2)
- 光電変換素子を形成した半導体基板上に、少なくとも第1の平坦化層と、カラーフィルタと、第2の平坦化層と、該第2の平坦化層上に2次元的に配置されたマイクロレンズと、反射防止層とを順次に積層した固体撮像素子において、
該第1の平坦化層と、該カラーフィルタと、該第2の平坦化層と、該マイクロレンズを構成するレンズ材層と、該反射防止層とが積層された端面断面部分が、端面保護層で保護されてあり、
前記端面保護層が樹脂であり、前記端面断面部分に追従し、かつ前記端面保護層の前記端面断面部分と反対側の面が前記半導体基板に対して垂直であり、平面視で前記レンズ材層上の前記反射防止層の一部のみを被覆していることを特徴とする固体撮像素子。 - スクライブラインで四辺を囲まれた複数の光電変換素子から成る固体撮像素子のパターンの複数の配列が形成された半導体基板から固体撮像素子を製造する製造方法であって、
該半導体基板上に第1の平坦化層を形成する工程と、
該第1の平坦化層上にカラーフィルタを形成する工程と、
該カラーフィルタ上に第2の平坦化層を形成する工程と、
該第2の平坦化層上に2次元的な配置のマイクロレンズを形成する工程と、
該マイクロレンズを構成するレンズ材層の領域の外側に剥離可能なレジスト層を形成した後、全面に反射防止層を形成し、前記剥離可能なレジスト層を剥離する工程と、
該第1の平坦化層と、該カラーフィルタと、該第2の平坦化層と、該反射防止層が積層された前記レンズ材層の端面断面部を被覆する端面保護層を樹脂でフォトリソグラフィー法により形成する工程とを有し、
前記端面保護層が前記端面断面部に追従し、かつ前記端面保護層の前記端面断面部と反対側の面が前記半導体基板に対して垂直であり、平面視で前記レンズ材層上の前記反射防止層の一部のみを被覆して形成されていることを特徴とする固体撮像素子の製造方法。
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