JP2010134043A - マイクロレンズアレイ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】式(I):
(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、アルキル基又はアルコキシ基、Xはメタクリロキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、ビニル基、又はメルカプト基を示し、但し、R1、R2及びR3のうち、少なくとも2つはアルコキシ基である)
で表わされるシランカップリング剤を、ポリアルミノシロキサンに反応させて得られる変性ポリアルミノシロキサンを成形してなるマイクロレンズアレイ。
【選択図】なし
Description
〔1〕 式(I):
で表わされるシランカップリング剤を、ポリアルミノシロキサンに反応させて得られる変性ポリアルミノシロキサンを成形してなるマイクロレンズアレイ
〔2〕 前記〔1〕記載のマイクロレンズアレイを搭載してなる光学電子機器、ならびに
〔3〕 前記〔1〕記載のマイクロレンズアレイを搭載してなるLEDアレイ
に関する。
で表わされ、R1、R2及び/又はR3基を介して一次架橋を行い、さらにX基を介して二次架橋を行うことが望ましい。
及び/又は式(V):
で表わされる構造単位を有し、末端部分が−OHであることが好ましい。
工程(a):マイクロレンズアレイと同一の形状を有する基材を作製する工程、
工程(b):該基材を用いてマイクロレンズアレイと対向する形状を有する成形用金型を作製する工程、及び
工程(c):該成形用金型を用いてマイクロレンズアレイ形状を樹脂に転写して成形する工程
を含む。
両末端シラノール型シリコーンオイル(信越化学工業社製、KF-9701、平均分子量3000)600g(0.200mol)にアルミニウムイソプロポキシド8.22g(40.2mmol)を加え、室温で24時間攪拌した。得られた混合物から遠心分離にて不溶物を除去し、50℃で2時間減圧下で濃縮すると、ポリアルミノシロキサンaが無色透明オイルとして得られた[式(IV)で表わされる化合物(m=40)と式(V)で表わされる化合物(n=40)の混合物]。
両末端シラノール型シリコーンオイル(信越化学工業社製、X-21-5841、平均分子量11500)200g(0.200mol)にアルミニウムイソプロポキシド2.75g(13.5mmol)を加え、室温で24時間攪拌した。得られた混合物から遠心分離にて不溶物を除去し、50℃で2時間減圧下で濃縮すると、ポリアルミノシロキサンbが無色透明オイルとして得られた[式(IV)で表わされる化合物(m=155)と式(V)で表わされる化合物(n=155)の混合物]。
ポリアルミノシロキサンa30.0gにメタクリル型シランカップリング剤〔信越化学工業社製、KBM-503、式(I)におけるR1、R2及びR3がいずれもメトキシ基、Xがメタクリロキシ基〕3.00g(12.1mmol)を加え、減圧下(4kPa)、80℃で10分間攪拌した(25℃における粘度4500mPa・s)。得られた混合物に光重合開始剤(成分名:2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名:ダロキュア1173)0.15gを加え、よく攪拌して均一にし、アプリケーターを用いてラインスピード0.3m/分でテフロン(登録商標)シート上に塗工した(100mm×100mm、厚さ100μm)。これを100℃で10分間加熱後、短冊状(50mm×50mm、厚さ100μm)に切断し、再度、130℃で10分間加熱を行い、メタクリル変性ポリアルミノシロキサンAを含むシートが得られた。
メタクリル型シランカップリング剤(信越化学工業社製、KBM-503)を0.600g(2.42mmol)使用した以外は実施例1と同様の操作を行い、メタクリル変性ポリアルミノシロキサンBを含むマイクロレンズアレイBを得た。なお、テフロン(登録商標)シート上に塗工する前の樹脂溶液の25℃における粘度は5200mPa・sであった。
ポリアルミノシロキサンaの代わりにポリアルミノシロキサンbを使用した以外は実施例1と同様の操作を行い、メタクリル変性ポリアルミノシロキサンCを含むマイクロレンズアレイCを得た。なお、テフロン(登録商標)シート上に塗工する前の樹脂溶液の25℃における粘度は5000mPa・sであった。
ポリアルミノシロキサンa30.0gにメタクリル型シランカップリング剤〔信越化学工業社製、KBM-503、式(I)におけるR1、R2及びR3がいずれもメトキシ基、Xがメタクリロキシ基〕3.58g(14.4mmol)及びメタクリル型シランカップリング剤〔信越化学工業社製、KBM-502、式(I)におけるR1、R2及びR3のうち2つがメトキシ基、残りがメチル基(R1がメチル基、R2及びR3がメトキシ基)、Xがメタクリロキシ基〕1.27g(5.47mmol)を加え、減圧下(4kPa)、80℃で2時間攪拌した(25℃における粘度4900mPa・s)。得られた混合物に光重合開始剤(成分名:2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製、商品名:ダロキュア1173)0.15gを加え、よく攪拌して均一にし、アプリケーターを用いてテフロン(登録商標)シート上に塗工した。これを100℃で30分間加熱すると、メタクリル変性ポリアルミノシロキサンDを含むマイクロレンズアレイDを得た。
ポリアルミノシロキサンA10.0gにエポキシ型シランカップリング剤〔信越化学工業社製、KBM-403、式(I)におけるR1、R2及びR3がいずれもメトキシ基、Xがエポキシ基〕1.00g(4.23mmol)を加え、減圧下(4kPa)、80℃で7分間攪拌した。得られた混合物をアプリケーターを用いてテフロン(登録商標)シート上に塗工し、100℃で5分間加熱すると、エポキシ変性ポリアルミノシロキサンEを含むマイクロレンズアレイEを得た。
メタクリル変性ポリアルミノシロキサンAの代わりに半導体用透明エポキシ樹脂(日東電工社製、NT-8050)を使用した以外は実施例1と同様の操作を行い、マイクロレンズアレイFを得た。
実施例1〜5及び比較例1で得られたマイクロレンズアレイを、LEDを1行×7列に配置したLEDアレイ〔1.5W ハイパワーLED、セミレッツ社製、SL-V-B40AC(青)、順電流500mA、順電圧3.4V〕の上面に配置して、連続耐久性試験を行って、耐熱性、耐光性を評価した。
輝度保持率(%)=(1000時間経過後の輝度/試験開始直後の輝度)×100
Claims (6)
- 式(I)のXがメタクリロキシ基又はグリシドキシ基である、請求項1記載のマイクロレンズアレイ。
- 請求項1〜4いずれか記載のマイクロレンズアレイを搭載してなる光学電子機器。
- 請求項1〜4いずれか記載のマイクロレンズアレイを搭載してなるLEDアレイ。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20200291189A1 (en) * | 2017-10-31 | 2020-09-17 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Barrier material formation composition, barrier material, production method for barrier material, product, and production method for product |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0445129A (ja) * | 1990-06-11 | 1992-02-14 | Daihachi Chem Ind Co Ltd | 被覆用塗料組成物 |
JPH07278328A (ja) * | 1994-04-14 | 1995-10-24 | Toyota Autom Loom Works Ltd | 薄膜形成方法 |
JP2004217836A (ja) * | 2003-01-16 | 2004-08-05 | Mitsubishi Chemicals Corp | 放射線硬化性組成物、放射線硬化性組成物の製造方法、硬化物及び光学材料 |
JP2007327019A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-12-20 | Dow Corning Toray Co Ltd | 接着促進剤、硬化性オルガノポリシロキサン組成物、および半導体装置 |
WO2008041630A1 (fr) * | 2006-09-29 | 2008-04-10 | Asahi Kasei Emd Corporation | Composition de polyorganosiloxane |
JP2008150611A (ja) * | 2008-01-11 | 2008-07-03 | Shinagawa Refract Co Ltd | コーティング用組成物 |
JP2008162190A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Asahi Glass Co Ltd | 微細構造体の製造方法 |
JP2008274272A (ja) * | 2007-04-06 | 2008-11-13 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | 光半導体素子封止用組成物、その硬化物および光半導体素子封止体 |
JP2009235376A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-10-15 | Nitto Denko Corp | 変性ポリアルミノシロキサン |
-
2008
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0445129A (ja) * | 1990-06-11 | 1992-02-14 | Daihachi Chem Ind Co Ltd | 被覆用塗料組成物 |
JPH07278328A (ja) * | 1994-04-14 | 1995-10-24 | Toyota Autom Loom Works Ltd | 薄膜形成方法 |
JP2004217836A (ja) * | 2003-01-16 | 2004-08-05 | Mitsubishi Chemicals Corp | 放射線硬化性組成物、放射線硬化性組成物の製造方法、硬化物及び光学材料 |
JP2007327019A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-12-20 | Dow Corning Toray Co Ltd | 接着促進剤、硬化性オルガノポリシロキサン組成物、および半導体装置 |
WO2008041630A1 (fr) * | 2006-09-29 | 2008-04-10 | Asahi Kasei Emd Corporation | Composition de polyorganosiloxane |
JP2008162190A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Asahi Glass Co Ltd | 微細構造体の製造方法 |
JP2008274272A (ja) * | 2007-04-06 | 2008-11-13 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | 光半導体素子封止用組成物、その硬化物および光半導体素子封止体 |
JP2008150611A (ja) * | 2008-01-11 | 2008-07-03 | Shinagawa Refract Co Ltd | コーティング用組成物 |
JP2009235376A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-10-15 | Nitto Denko Corp | 変性ポリアルミノシロキサン |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20200291189A1 (en) * | 2017-10-31 | 2020-09-17 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Barrier material formation composition, barrier material, production method for barrier material, product, and production method for product |
US11713375B2 (en) * | 2017-10-31 | 2023-08-01 | Resonac Corporation | Barrier material formation composition, barrier material, production method for barrier material, product, and production method for product |
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Publication number | Publication date |
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