JP2015025075A - 反応性シリコーン化合物を含む重合性組成物 - Google Patents
反応性シリコーン化合物を含む重合性組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015025075A JP2015025075A JP2013155695A JP2013155695A JP2015025075A JP 2015025075 A JP2015025075 A JP 2015025075A JP 2013155695 A JP2013155695 A JP 2013155695A JP 2013155695 A JP2013155695 A JP 2013155695A JP 2015025075 A JP2015025075 A JP 2015025075A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- meth
- polymerizable composition
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
【課題】耐熱黄変色、耐クラック性及び寸法安定性を有するレンズ用材料に用いられる重合性組成物を提供する。【解決手段】（ａ）式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と式［２］で表されるアルコキシケイ素化合物とを、酸又は塩基の存在下重縮合して得られる反応性シリコーン化合物１００質量部、（ｂ）特定の式で表されるビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート化合物５乃至１００質量部、及び（ｃ）特定の式で表される基を有する光安定剤及び／又は特定の式で表される基を有する酸化防止剤０．０１乃至５質量部、を含む重合性組成物。【選択図】なし
Description
本発明は、反応性シリコーン化合物を含む重合性組成物に関する。また、本発明は、それより形成される硬化物について、耐熱黄変性、耐クラック性及び寸法安定性等を著しく改善することができる重合性組成物に関する。
プラスチックレンズは、携帯電話、デジタルカメラ、車載カメラ用などに用いられており、その機器の目的に応じた、優れた光学特性を有するものであることが求められる。また、使用態様に合わせて、耐熱性、耐候性等の耐久性と、歩留まり良く成形できる生産性が求められている。このような樹脂材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、シクロオレフィンポリマー、メタクリル樹脂等の透明性樹脂が使用されてきた。
近年、実装コスト低減の目的で、カメラモジュールをはんだリフローにて一括実装する方法が提案されており、はんだリフロー工程での高温熱履歴（例えば２６０℃）に耐え得るものが求められている。しかしながら、従来のプラスチックレンズでは耐熱性が低く、リフロープロセスに適応することは困難となっていた。
また、高解像度カメラモジュールには複数枚のレンズが用いられるが、この中の一枚の波長補正レンズとしても高屈折率を有する光学材料が要求されている。さらに、樹脂レンズの製造にあたり、歩留まりや生産効率向上のために熱可塑性樹脂の射出成型から、室温で液状の硬化性樹脂を使った押し付け成型に移行しつつある。
また、高解像度カメラモジュールには複数枚のレンズが用いられるが、この中の一枚の波長補正レンズとしても高屈折率を有する光学材料が要求されている。さらに、樹脂レンズの製造にあたり、歩留まりや生産効率向上のために熱可塑性樹脂の射出成型から、室温で液状の硬化性樹脂を使った押し付け成型に移行しつつある。
しかし、高屈折率を特長として提案されている従来材料は、特許文献１に示されているとおり、耐熱性を改良しても２００℃以下のものが殆どであり、例えば２６０℃のハンダリフロー耐熱を保証するには至っていない。
一方、半導体と一体化したレンズ付き電子部品を得るためのはんだリフローに耐える耐熱性の光学材料として、不飽和結合を含有する籠型シルセスキオキサン、ＳｉＨ基を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及びエチレン性不飽和化合物とからなる硬化成分を用いたレンズ成形用組成物が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
一方、半導体と一体化したレンズ付き電子部品を得るためのはんだリフローに耐える耐熱性の光学材料として、不飽和結合を含有する籠型シルセスキオキサン、ＳｉＨ基を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及びエチレン性不飽和化合物とからなる硬化成分を用いたレンズ成形用組成物が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
しかしながら、特許文献２に記載のように籠型シルセスキオキサンを用いた場合は、成型物が硬く脆くなる傾向にあり、耐クラック性などの機械強度が十分ではなかった。
このように、高解像度カメラモジュール用レンズとして使用し得る光学特性（高屈折率）と、はんだリフロー等の実装プロセスに適合する、耐熱黄変性、耐クラック性及び寸法安定性等の耐熱性を満足する硬化性樹脂材料は未だなく、その開発が望まれていた。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、硬化物が高い屈折率を維持しさらに高温熱履歴によって生じる変色（熱黄変）、クラック及び寸法変化を抑制することができる成形物を作るのに好適な重合性組成物を提供することを課題とする。
このように、高解像度カメラモジュール用レンズとして使用し得る光学特性（高屈折率）と、はんだリフロー等の実装プロセスに適合する、耐熱黄変性、耐クラック性及び寸法安定性等の耐熱性を満足する硬化性樹脂材料は未だなく、その開発が望まれていた。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、硬化物が高い屈折率を維持しさらに高温熱履歴によって生じる変色（熱黄変）、クラック及び寸法変化を抑制することができる成形物を作るのに好適な重合性組成物を提供することを課題とする。
本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、本発明は、特定の反
応性シリコーン化合物に加えて、特定の（メタ）アクリレート化合物、及び光安定剤として知られる特定のヒンダードアミンを添加することにより、得られるその硬化物（成形物）が高い屈折率を維持し、さらに高温熱履歴によって生じる変色（熱黄変）、クラック及び寸法変化を抑制することができる成形物が得られることが見出され、完成するに至った。
すなわち、本発明は第１観点として、
（ａ）式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と式［２］で表されるアルコキシケイ素化合物とを、酸又は塩基の存在下重縮合して得られる反応性シリコーン化合物１００質量部、
（ｂ）式［３］で表されるビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート化合物５乃至１００質量部、及び
（ｃ）式［４］で表される基を有する光安定剤及び／又は式［５］で表される基を有する酸化防止剤０．０１乃至５質量部
を含む重合性組成物に関する。
（式中、Ａｒ1及びＡｒ2はそれぞれ独立して、炭素原子数１乃至６のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基を表し、Ａｒ3は重合性二重結合を有する基を少なくとも１つ
有するフェニル基、又は重合性二重結合を有する基を少なくとも１つ有するナフチル基を表し、Ｒ1はメチル基又はエチル基を表し、Ｒ2はメチル基、エチル基又はビニルフェニル基を表し、ａは２又は３を表す。）
（式中、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立して、炭素原子数１乃至６のアルキレン基を表し、ｍ及びｎはｍ＋ｎが１乃至８となる正数を表す。）
（式中、Ｒ５は水素原子、炭素原子数１乃至１０のアルキル基、又は炭素原子数１乃至１２のアルコキシ基を表し、Ｒ６は、炭素原子数１乃至１０のアルキル基を表し、Ｒ７乃至Ｒ９はそれぞれ独立して、水素原子、又は炭素原子数１乃至１０のアルキル基を表し、黒点は結合手を表す。）
第２観点として、さらに（ｄ）一分子内に少なくとも３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物１乃至３０質量部を含む、第１観点に記載の重合性組成物に関する。
第３観点として、前記（ｄ）多官能（メタ）アクリレート化合物が、トリメチロールプロパン及びペンタエリスリトールからなる群から選ばれるポリオールの、（メタ）アクリ
レート又はアルコキシ化（メタ）アクリレートである、第２観点に記載の重合性組成物に関する。
第４観点として、前記（ａ）反応性シリコーン化合物が、式［６］で表される化合物と式［７］で表される化合物とを、酸又は塩基の存在下重縮合して得られる反応性シリコーン化合物である、第１観点乃至第３観点のうち何れか一つに記載の重合性組成物に関する。
（式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表す。）
第５観点として、当該組成物より得られる硬化物のアッベ数が３２以下となる、第１観点乃至第４観点のうち何れか一つに記載の重合性組成物に関する。
第６観点として、第１観点乃至第５観点の何れかに記載の重合性組成物を重合して得られる、硬化物に関する。
第７観点として、第１観点乃至第５観点の何れかに記載の重合性組成物からなる高屈折率樹脂レンズ用材料に関する。
第８観点として、第１観点乃至第５観点の何れかに記載の重合性組成物を、支持体と鋳型との空間に充填する工程、当該充填された組成物を露光して光重合する工程、支持体上の光重合物を鋳型から離型する工程、光重合物を支持体ごと加熱する工程、を含む成型体の製造方法に関する。
第９観点として、前記成型体がカメラモジュール用レンズである、第８観点に記載の製造方法に関する。
応性シリコーン化合物に加えて、特定の（メタ）アクリレート化合物、及び光安定剤として知られる特定のヒンダードアミンを添加することにより、得られるその硬化物（成形物）が高い屈折率を維持し、さらに高温熱履歴によって生じる変色（熱黄変）、クラック及び寸法変化を抑制することができる成形物が得られることが見出され、完成するに至った。
すなわち、本発明は第１観点として、
（ａ）式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と式［２］で表されるアルコキシケイ素化合物とを、酸又は塩基の存在下重縮合して得られる反応性シリコーン化合物１００質量部、
（ｂ）式［３］で表されるビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート化合物５乃至１００質量部、及び
（ｃ）式［４］で表される基を有する光安定剤及び／又は式［５］で表される基を有する酸化防止剤０．０１乃至５質量部
を含む重合性組成物に関する。
有するフェニル基、又は重合性二重結合を有する基を少なくとも１つ有するナフチル基を表し、Ｒ1はメチル基又はエチル基を表し、Ｒ2はメチル基、エチル基又はビニルフェニル基を表し、ａは２又は３を表す。）
第２観点として、さらに（ｄ）一分子内に少なくとも３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物１乃至３０質量部を含む、第１観点に記載の重合性組成物に関する。
第３観点として、前記（ｄ）多官能（メタ）アクリレート化合物が、トリメチロールプロパン及びペンタエリスリトールからなる群から選ばれるポリオールの、（メタ）アクリ
レート又はアルコキシ化（メタ）アクリレートである、第２観点に記載の重合性組成物に関する。
第４観点として、前記（ａ）反応性シリコーン化合物が、式［６］で表される化合物と式［７］で表される化合物とを、酸又は塩基の存在下重縮合して得られる反応性シリコーン化合物である、第１観点乃至第３観点のうち何れか一つに記載の重合性組成物に関する。
第５観点として、当該組成物より得られる硬化物のアッベ数が３２以下となる、第１観点乃至第４観点のうち何れか一つに記載の重合性組成物に関する。
第６観点として、第１観点乃至第５観点の何れかに記載の重合性組成物を重合して得られる、硬化物に関する。
第７観点として、第１観点乃至第５観点の何れかに記載の重合性組成物からなる高屈折率樹脂レンズ用材料に関する。
第８観点として、第１観点乃至第５観点の何れかに記載の重合性組成物を、支持体と鋳型との空間に充填する工程、当該充填された組成物を露光して光重合する工程、支持体上の光重合物を鋳型から離型する工程、光重合物を支持体ごと加熱する工程、を含む成型体の製造方法に関する。
第９観点として、前記成型体がカメラモジュール用レンズである、第８観点に記載の製造方法に関する。
本発明の、特定の反応性シリコーン化合物、特定の（メタ）アクリレート化合物、並びに特定のヒンダードアミン系光安定剤及び／又は特定のフェノール系酸化防止剤から構成される重合性組成物は、その硬化物が、光学デバイス、例えば高解像度カメラモジュール用レンズとして望ましい光学特性（高屈折率）だけでなく、カメラモジュールの実装プロセスに必要とされる、耐熱黄変性、耐クラック性及び寸法安定性等の耐熱性を有することができる。
本発明の高屈折率樹脂レンズ用材料は、高解像度カメラモジュール用レンズとして好適に使用することができる。
本発明の製造方法によると、成型体、特に、カメラモジュール用レンズである成型体を好適に製造することができる。
さらに本発明の重合性組成物は、無溶剤の形態で十分に取り扱い可能な粘度であるため、金型等の鋳型の押し付け加工に好適に用いることができる。
本発明の高屈折率樹脂レンズ用材料は、高解像度カメラモジュール用レンズとして好適に使用することができる。
本発明の製造方法によると、成型体、特に、カメラモジュール用レンズである成型体を好適に製造することができる。
さらに本発明の重合性組成物は、無溶剤の形態で十分に取り扱い可能な粘度であるため、金型等の鋳型の押し付け加工に好適に用いることができる。
＜＜重合性組成物＞＞
本発明の重合性組成物は、（ａ）成分として反応性シリコーン化合物、（ｂ）成分としてビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート化合物、そして（ｃ）成分として光安定剤及び／又は酸化防止剤を含有する感光性樹脂組成物である。以下、各成分の詳細を説明する。
本発明の重合性組成物は、（ａ）成分として反応性シリコーン化合物、（ｂ）成分としてビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート化合物、そして（ｃ）成分として光安定剤及び／又は酸化防止剤を含有する感光性樹脂組成物である。以下、各成分の詳細を説明する。
＜（ａ）反応性シリコーン化合物＞
本発明に用いられる（ａ）反応性シリコーン化合物は、特定構造のジアリールケイ酸化合物と特定構造のアルコキシケイ素化合物とを、酸又は塩基の存在下重縮合して得られる化合物である。
本発明に用いられる（ａ）反応性シリコーン化合物は、特定構造のジアリールケイ酸化合物と特定構造のアルコキシケイ素化合物とを、酸又は塩基の存在下重縮合して得られる化合物である。
［ジアリールケイ酸化合物］
前記ジアリールケイ酸化合物は、下記式［１］で表される化合物である。
上記式［１］中、Ａｒ1及びＡｒ2はそれぞれ独立して、炭素原子数１乃至６のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。
前記ジアリールケイ酸化合物は、下記式［１］で表される化合物である。
Ａｒ1及びＡｒ2としては、例えば、フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、４−エチルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、３，５−ジエチルフェニル基、３，５−ジイソプロピルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基等が挙げられる。
上記式［１］の具体例としては、例えば、ジフェニルシランジオール、ビス（４−トリル）シランジオール、ビス（４−エチルフェニル）シランジオール、ビス（４−イソプロピルフェニル）シランジオール等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
［アルコキシケイ素化合物］
前記アルコキシケイ素化合物は、下記式［２］で表される化合物である。
上記式［２］中、Ａｒ3は重合性二重結合を有する基を少なくとも１つ有するフェニル
基、又は重合性二重結合を有する基を少なくとも１つ有するナフチル基を表し、Ｒ1はメ
チル基又はエチル基を表し、Ｒ2はメチル基、エチル基又はビニルフェニル基を表し、ａ
は２又は３の整数を表す。
前記アルコキシケイ素化合物は、下記式［２］で表される化合物である。
基、又は重合性二重結合を有する基を少なくとも１つ有するナフチル基を表し、Ｒ1はメ
チル基又はエチル基を表し、Ｒ2はメチル基、エチル基又はビニルフェニル基を表し、ａ
は２又は３の整数を表す。
Ａｒ3が表す重合性二重結合を有する基を少なくとも１つ有するフェニル基としては、
例えば、２−ビニルフェニル基、３−ビニルフェニル基、４−ビニルフェニル基、４−ビニルオキシフェニル基、４−アリルフェニル基、４−アリルオキシフェニル基、４−イソプロペニルフェニル基等が挙げられる。
Ａｒ3が表す重合性二重結合を有する基を少なくとも１つ有するナフチル基としては、
例えば、４−ビニルナフタレン−１−イル基、６−ビニルナフタレン−２−イル基等が挙げられる。
例えば、２−ビニルフェニル基、３−ビニルフェニル基、４−ビニルフェニル基、４−ビニルオキシフェニル基、４−アリルフェニル基、４−アリルオキシフェニル基、４−イソプロペニルフェニル基等が挙げられる。
Ａｒ3が表す重合性二重結合を有する基を少なくとも１つ有するナフチル基としては、
例えば、４−ビニルナフタレン−１−イル基、６−ビニルナフタレン−２−イル基等が挙げられる。
上記式［２］の具体例としては、例えば、トリメトキシ（４−ビニルフェニル）シラン、トリエトキシ（４−ビニルフェニル）シラン、ジメトキシ（メチル）（４−ビニルフェニル）シラン、ジメトキシビス（４−ビニルフェニル）シラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
（ａ）成分の反応性シリコーン化合物としては、下記式［６］で表される化合物と下記式［７］で表される化合物とを、酸又は塩基の存在下重縮合して得られる反応性シリコー
ン化合物が好ましい。
上記式［７］中、Ｒ1は前記と同じ意味を表す。
ン化合物が好ましい。
［ジアリールケイ酸化合物とアルコキシケイ素化合物の配合割合］
（ａ）成分の反応性シリコーン化合物に用いる、式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と式［２］で表されるアルコキシケイ素化合物の重縮合反応にかかる配合モル比は特に限定されないが、ブロックコポリマー化を防ぐ目的から、通常、ジアリールケイ酸化合物：アルコキシケイ素化合物＝２：１〜１：２の範囲が好ましい。より好ましくは１．１：０．９〜０．９：１．１の間で配合される範囲である。
上述のジアリールケイ酸化合物及びアルコキシケイ素化合物は、必要に応じて適宜化合物を選択して用いることができ、また、複数種を併用することもできる。この場合のモル比もジアリールケイ酸化合物のモル量の総計とアルコキシケイ素化合物のモル量の総計の比が上記の範囲となる。
（ａ）成分の反応性シリコーン化合物に用いる、式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と式［２］で表されるアルコキシケイ素化合物の重縮合反応にかかる配合モル比は特に限定されないが、ブロックコポリマー化を防ぐ目的から、通常、ジアリールケイ酸化合物：アルコキシケイ素化合物＝２：１〜１：２の範囲が好ましい。より好ましくは１．１：０．９〜０．９：１．１の間で配合される範囲である。
上述のジアリールケイ酸化合物及びアルコキシケイ素化合物は、必要に応じて適宜化合物を選択して用いることができ、また、複数種を併用することもできる。この場合のモル比もジアリールケイ酸化合物のモル量の総計とアルコキシケイ素化合物のモル量の総計の比が上記の範囲となる。
［酸又は塩基性触媒］
上記式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と、上記式［２］で表されるアルコキシケイ素化合物との重縮合反応は、酸又は塩基性触媒の存在下で好適に実施される。
上記重縮合反応に用いる触媒は、後述の溶媒に溶解する、又は均一分散する限りにおいては特にその種類は限定されず、必要に応じて適宜選択して用いることができる。
用いることのできる触媒としては、例えば、酸性化合物として、Ｂ（ＯＲ）３、Ａｌ（ＯＲ）３、Ｔｉ（ＯＲ）４、Ｚｒ（ＯＲ）４等；塩基性化合物として、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アンモニウム塩、アミン類等；フッ化物塩として、ＮＨ４Ｆ、ＮＲ４Ｆ等が挙げられる。なお、ここでＲは、水素原子、炭素原子数１乃至１２の直鎖状アルキル基、炭素原子数３乃至１２の分枝状アルキル基、炭素原子数３乃至１２の環状アルキル基からなる群から選ばれる一種以上の基である。
これら触媒は、一種単独で、又は複数種を併用することもできる。
上記式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と、上記式［２］で表されるアルコキシケイ素化合物との重縮合反応は、酸又は塩基性触媒の存在下で好適に実施される。
上記重縮合反応に用いる触媒は、後述の溶媒に溶解する、又は均一分散する限りにおいては特にその種類は限定されず、必要に応じて適宜選択して用いることができる。
用いることのできる触媒としては、例えば、酸性化合物として、Ｂ（ＯＲ）３、Ａｌ（ＯＲ）３、Ｔｉ（ＯＲ）４、Ｚｒ（ＯＲ）４等；塩基性化合物として、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アンモニウム塩、アミン類等；フッ化物塩として、ＮＨ４Ｆ、ＮＲ４Ｆ等が挙げられる。なお、ここでＲは、水素原子、炭素原子数１乃至１２の直鎖状アルキル基、炭素原子数３乃至１２の分枝状アルキル基、炭素原子数３乃至１２の環状アルキル基からなる群から選ばれる一種以上の基である。
これら触媒は、一種単独で、又は複数種を併用することもできる。
上記酸性化合物としては、例えば、ホウ酸、トリメトキシボロン、トリエトキシボロン、トリ−ｎ−プロポキシボロン、トリイソプロポキシボロン、トリ−ｎ−ブトキシボロン、トリイソブトキシボロン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシボロン、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシボロン、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリ−ｎ−プロポキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリ−ｎ−ブトキシアルミニウム、トリイソブトキシアルミニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシアルミニウム、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウム、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｎ−プロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトライソブトキシチタン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシチタン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシチタン、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−ｎ−プロポキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラ−ｎ−ブトキシジルコニウム、テトライソブトキシジルコニウム、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシジルコニウム等が挙げられる。
上記塩基性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、水酸化アンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、トリエチルアミン等が挙げられる。
上記フッ化物塩としては、例えば、フッ化アンモニウム、フッ化テトラメチルアンモニウム、フッ化テトラブチルアンモニウム等を挙げることができる。
これら触媒のうち、好ましく用いられるのは、テトライソプロポキシチタン（チタンテトライソプロポキシド）、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、及び水酸化バリウムからなる群から選ばれる一種以上である。
触媒の使用量は、上記ジアリールケイ酸化合物とアルコキシケイ素化合物との合計質量に対し、０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。触媒の使用量を０．０１質量％以上とすることで反応がより良好に進行する。また、経済性を考慮すれば、１０質量％以下の使用で十分である。
触媒の使用量は、上記ジアリールケイ酸化合物とアルコキシケイ素化合物との合計質量に対し、０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。触媒の使用量を０．０１質量％以上とすることで反応がより良好に進行する。また、経済性を考慮すれば、１０質量％以下の使用で十分である。
［重縮合反応］
本発明にかかる反応性シリコーン化合物は、アルコキシケイ素化合物の構造が一つの特徴となっている。本発明に用いられるアルコキシケイ素化合物に含まれる反応性基（重合性二重結合）は、ラジカル又はカチオンによって容易に重合し、重合後（硬化後）は高い耐熱性を示す。
このようなアルコキシケイ素化合物とジアリールケイ酸化合物とを重縮合させ、耐熱性の高いシリコーン化合物とするとき、生成物が液体状態を保てるよう、適度な重合度で反応を停止させる必要がある。なお本発明で用いるアルコキシケイ素化合物は積極的に加水分解しないことから、ジアリールケイ酸化合物との重縮合反応が穏やかであり、重合度を制御しやすい特徴がある。
アルコキシケイ素化合物とジアリールケイ酸化合物の脱アルコールによる重縮合反応は、無溶媒下で行うことも可能だが、後述するトルエンなどのアルコキシケイ素化合物に対して不活性な溶媒を反応溶媒として用いることも可能である。無溶媒の場合は、反応副生成物であるアルコールの留去が容易になるという利点がある。一方、反応溶媒を用いる場合は、反応系を均一にしやすく、より安定した重縮合反応を行えるという利点がある。
本発明にかかる反応性シリコーン化合物は、アルコキシケイ素化合物の構造が一つの特徴となっている。本発明に用いられるアルコキシケイ素化合物に含まれる反応性基（重合性二重結合）は、ラジカル又はカチオンによって容易に重合し、重合後（硬化後）は高い耐熱性を示す。
このようなアルコキシケイ素化合物とジアリールケイ酸化合物とを重縮合させ、耐熱性の高いシリコーン化合物とするとき、生成物が液体状態を保てるよう、適度な重合度で反応を停止させる必要がある。なお本発明で用いるアルコキシケイ素化合物は積極的に加水分解しないことから、ジアリールケイ酸化合物との重縮合反応が穏やかであり、重合度を制御しやすい特徴がある。
アルコキシケイ素化合物とジアリールケイ酸化合物の脱アルコールによる重縮合反応は、無溶媒下で行うことも可能だが、後述するトルエンなどのアルコキシケイ素化合物に対して不活性な溶媒を反応溶媒として用いることも可能である。無溶媒の場合は、反応副生成物であるアルコールの留去が容易になるという利点がある。一方、反応溶媒を用いる場合は、反応系を均一にしやすく、より安定した重縮合反応を行えるという利点がある。
反応性シリコーン化合物の合成反応は、前述のように無溶媒で行ってもよいが、より均一化させるために溶媒を使用しても問題ない。溶媒は、ジアリールケイ酸化合物及びアルコキシケイ素化合物と反応せず、その縮合物を溶解するものであれば特に限定されない。
このような反応溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類；エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセロソルブ、ジエチルカルビトール等のグリコールエーテル類；Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等のアミド類などが挙げられる。これら溶媒は、一種単独で、又は二種以上を混合して用いてもよい。
このような反応溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類；エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセロソルブ、ジエチルカルビトール等のグリコールエーテル類；Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等のアミド類などが挙げられる。これら溶媒は、一種単独で、又は二種以上を混合して用いてもよい。
本発明で用いる反応性シリコーン化合物は、式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と式［２］で表されるアルコキシケイ素化合物とを、酸又は塩基性触媒の存在下で、脱アルコール縮合を行うことにより得られる。反応は水分の混入を防ぐ目的から、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気中で行うことが望ましい。反応温度は２０〜１５０℃、より好ましくは３０〜１２０℃である。
反応時間は、重縮合物の分子量増加が終了し、分子量分布が安定するのに必要な時間以上なら、特に制限は受けず、より具体的には数時間から数日間である。
反応時間は、重縮合物の分子量増加が終了し、分子量分布が安定するのに必要な時間以上なら、特に制限は受けず、より具体的には数時間から数日間である。
重縮合反応の終了後、得られた反応性シリコーン化合物をろ過、溶媒留去等の任意の方法で回収し、必要に応じて適宜精製処理を行うことが好ましい。
このような反応によって得られた重縮合化合物は、ＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗが５００〜１０，０００であり、分散度Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）は１．０〜１０である。
＜（ｂ）ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート化合物＞
本発明に用いられる（ｂ）ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート化合物は、式［３］で表される化合物である。
なお、本発明では（メタ）アクリレート化合物とは、アクリレート化合物とメタクリレート化合物の両方をいう。例えば（メタ）アクリル酸は、アクリル酸とメタクリル酸をいう。
上記式［３］中、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立して、炭素原子数１乃至６のアルキレン基を表し、ｍ及びｎはｍ＋ｎが１〜８となる正数を表す。
本発明に用いられる（ｂ）ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート化合物は、式［３］で表される化合物である。
なお、本発明では（メタ）アクリレート化合物とは、アクリレート化合物とメタクリレート化合物の両方をいう。例えば（メタ）アクリル酸は、アクリル酸とメタクリル酸をいう。
Ｌ１及びＬ２としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基、１−メチルブチレン基、２−メチルブチレン基、１，２−ジメチルプロピレン基、１−エチルプロピレン基、ヘキシレン基、イソヘシレン基、１−メチルペンチレン基、２−メチルペンチレン基、３−メチルペンチレン基、１，１−ジメチルブチレン基、１，２−ジメチルブチレン基、２，２−ジメチルブチレン基、１−エチルブチレン基、１，１，２−トリメチルプロピレン基、１，２，２−トリメチルプロピレン基、１−エチル−２−メチルプロピレン基、１−エチル−１−メチルプロピレン基等が挙げられる。
式［３］で表される化合物において、ｍ及びｎは、ｍ＋ｎが２〜６となる場合が好ましく、ｍ＋ｎが２〜４となる場合が最も好ましい。
＜（ｃ）光安定剤及び／又は酸化防止剤＞
本発明に用いられる（ｃ）光安定剤及び／又は酸化防止剤は、式［４］で表される基を有する光安定剤及び／又は式［５］で表される基を有する酸化防止剤である。
本発明に用いられる（ｃ）光安定剤及び／又は酸化防止剤は、式［４］で表される基を有する光安定剤及び／又は式［５］で表される基を有する酸化防止剤である。
上記式中、Ｒ５は水素原子、炭素原子数１乃至１０のアルキル基、又は炭素原子数１乃至１２のアルコキシ基を表し、Ｒ６は、炭素原子数１乃至１０のアルキル基を表し、Ｒ７乃至Ｒ９はそれぞれ独立して、水素原子、又は炭素原子数１乃至１０のアルキル基を表し、黒点は結合手を表す。
炭素原子数１乃至１０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソアミル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｓｅｃ−イソアミル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
炭素原子数１乃至１２のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソアミルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−アミルオキシ基、ｓｅｃ−イソアミルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチル基オキシ、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基等が挙げられる。
これらの中でも、Ｒ５としては、水素原子、メチル基、シクロヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基が好ましい。
また、Ｒ６としては、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましい。このような式［５］で表される基としては、例えば、３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル基、３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−６−メチルフェニル基、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル基等が挙げられる。
また、Ｒ６としては、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましい。このような式［５］で表される基としては、例えば、３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル基、３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−６−メチルフェニル基、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル基等が挙げられる。
式［４］で表される基を有する光安定剤としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）１２３、同１４４、同１５２、同２９２、同７７０［以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製］、アデカスタブ（登録商標）ＬＡ−５２、同ＬＡ−５７、同ＬＡ−６３Ｐ、同ＬＡ−６８、同ＬＡ−７２、同ＬＡ−７７Ｙ、同ＬＡ−７７Ｇ、同ＬＡ−８１、同ＬＡ−８２、同ＬＡ−８７［以上、（株）ＡＤＥＫＡ製］等が挙げられる。
式［５］で表される基を有する酸化防止剤としては、例えば、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）２４５、同１０１０、同１０３５、同１０７６、同１１３５［以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製］、スミライザー（登録商標）ＧＡ−８０、同ＧＰ、同ＭＤＰ−Ｓ、同ＢＢＭ−Ｓ、同ＷＸ−Ｒ［以上、住友化学（株）製］、アデカスタブ（登録商標）ＡＯ−２０、同ＡＯ−３０、同ＡＯ−４０、同ＡＯ−５０、同ＡＯ−６０、同ＡＯ−８０、同ＡＯ−３３０［以上、（株）ＡＤＥＫＡ製］等が挙げられる。
式［５］で表される基を有する酸化防止剤としては、例えば、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）２４５、同１０１０、同１０３５、同１０７６、同１１３５［以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製］、スミライザー（登録商標）ＧＡ−８０、同ＧＰ、同ＭＤＰ−Ｓ、同ＢＢＭ−Ｓ、同ＷＸ−Ｒ［以上、住友化学（株）製］、アデカスタブ（登録商標）ＡＯ−２０、同ＡＯ−３０、同ＡＯ−４０、同ＡＯ−５０、同ＡＯ−６０、同ＡＯ−８０、同ＡＯ−３３０［以上、（株）ＡＤＥＫＡ製］等が挙げられる。
本発明の重合性組成物において、（ｂ）成分及び（ｃ）成分の含有量は、（ａ）成分１００質量部に対し、（ｂ）成分が５〜１００質量部、（ｃ）成分が０．０１〜５質量部である。
＜（ｄ）多官能（メタ）アクリレート化合物＞
本発明の重合性組成物は、さらに（ｄ）成分として同一分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物を含み得る。
同一分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，３，５−トリ（メタ）アクリロイルヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられ、特に、トリメチロールプロパン及びペンタエリトリトールからなる群から選ばれるポリオールの、（メタ）アクリレート又はアルコキシ
化（メタ）アクリレートが好ましい。
本発明の重合性組成物は、さらに（ｄ）成分として同一分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物を含み得る。
同一分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，３，５−トリ（メタ）アクリロイルヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられ、特に、トリメチロールプロパン及びペンタエリトリトールからなる群から選ばれるポリオールの、（メタ）アクリレート又はアルコキシ
化（メタ）アクリレートが好ましい。
本発明の重合性組成物中、（ｄ）成分の含有量は、（ａ）成分１００質量部に対し、１〜３０質量部含まれる。
また、本発明において好ましい態様は、重合性組成物から得られる硬化物を高屈折率のものとする観点から、得られる硬化物のアッベ数が３２以下である重合性組成物である。
＜（ｅ）重合開始剤＞
本発明の重合性組成物は、上記（ａ）成分乃至（ｃ）成分、又は上記（ａ）成分乃至（ｄ）成分に加えて、（ｅ）重合開始剤を含み得る。重合開始剤としては、光重合開始剤及び熱重合開始剤の何れも使用できる。
本発明の重合性組成物は、上記（ａ）成分乃至（ｃ）成分、又は上記（ａ）成分乃至（ｄ）成分に加えて、（ｅ）重合開始剤を含み得る。重合開始剤としては、光重合開始剤及び熱重合開始剤の何れも使用できる。
光重合開始剤としては、例えば、アルキルフェノン類、ベンゾフェノン類、アシルホスフィンオキシド類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート類、オキシムエステル類、テトラメチルチウラムモノスルフィド類、チオキサントン類等が挙げられる。
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（１５９頁、発行人：高薄一弘、発行所：（株）技術情報協会、１９９１年発行）に記載されているものが挙げられる。
市販されている光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４、同３６９、同６５１、同５００、同８１９、同９０７、同７８４、同２９５９、同ＣＧＩ１７００、同ＣＧＩ１７５０、同ＣＧＩ１８５０、同ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒ（登録商標）１１１６、同１１７３、ＬＵＣＩＲＩＮ（登録商標）ＴＰＯ［以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製］、ＥＳＡＣＵＲＥ ＫＩＰ１５０、同ＫＩＰ６５ＬＴ、同ＫＩＰ１００Ｆ、同ＫＴ３７、同ＫＴ５５、同ＫＴＯ４６、同ＫＩＰ７５［以上、ランベルティ社製］等を挙げることができる。
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（１５９頁、発行人：高薄一弘、発行所：（株）技術情報協会、１９９１年発行）に記載されているものが挙げられる。
市販されている光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４、同３６９、同６５１、同５００、同８１９、同９０７、同７８４、同２９５９、同ＣＧＩ１７００、同ＣＧＩ１７５０、同ＣＧＩ１８５０、同ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒ（登録商標）１１１６、同１１７３、ＬＵＣＩＲＩＮ（登録商標）ＴＰＯ［以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製］、ＥＳＡＣＵＲＥ ＫＩＰ１５０、同ＫＩＰ６５ＬＴ、同ＫＩＰ１００Ｆ、同ＫＴ３７、同ＫＴ５５、同ＫＴＯ４６、同ＫＩＰ７５［以上、ランベルティ社製］等を挙げることができる。
熱重合開始剤としては、例えば、アゾ類、有機過酸化物類等が挙げられる。
市販されているアゾ系熱重合開始剤としては、例えば、Ｖ−３０、Ｖ−４０、Ｖ−５９、Ｖ−６０、Ｖ−６５、Ｖ−７０［以上、和光純薬工業（株）製］等を挙げることができる。
また市販されている有機過酸化物系熱重合開始剤としては、例えば、パーカドックス（登録商標）ＣＨ、同ＢＣ−ＦＦ、同１４、同１６、トリゴノックス（登録商標）２２、同２３、同１２１、カヤエステル（登録商標）Ｐ、同Ｏ、カヤブチル（登録商標）Ｂ［以上、化薬アクゾ（株）製］等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
市販されているアゾ系熱重合開始剤としては、例えば、Ｖ−３０、Ｖ−４０、Ｖ−５９、Ｖ−６０、Ｖ−６５、Ｖ−７０［以上、和光純薬工業（株）製］等を挙げることができる。
また市販されている有機過酸化物系熱重合開始剤としては、例えば、パーカドックス（登録商標）ＣＨ、同ＢＣ−ＦＦ、同１４、同１６、トリゴノックス（登録商標）２２、同２３、同１２１、カヤエステル（登録商標）Ｐ、同Ｏ、カヤブチル（登録商標）Ｂ［以上、化薬アクゾ（株）製］等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
重合開始剤を添加する場合、重合開始剤は一種単独で、又は二種以上を混合して用いてもよい。また、その添加量としては、（ａ）反応性シリコーン化合物１００質量部に対して０．１〜２０質量部、さらに好ましくは０．３〜１０質量部である。
＜その他添加剤＞
更に、本発明の重合性組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、レオロジー調整剤、シランカップリング剤等の接着補助剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、多価フェノールや多価カルボン酸等の溶解促進剤などを含有することができる。
更に、本発明の重合性組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、レオロジー調整剤、シランカップリング剤等の接着補助剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、多価フェノールや多価カルボン酸等の溶解促進剤などを含有することができる。
＜重合性組成物の調製方法＞
本実施の形態の重合性組成物の調製方法は、特に限定されない。調製法としては、例えば、（ａ）成分、（ｂ）成分、（ｃ）成分及び必要に応じて（ｄ）成分、（ｅ）成分を所定の割合で混合し、所望によりその他添加剤をさらに添加して混合し、均一な溶液とする
方法、又はこれらの成分に加え更に慣用の溶剤を使用する方法等が挙げられる。
本実施の形態の重合性組成物の調製方法は、特に限定されない。調製法としては、例えば、（ａ）成分、（ｂ）成分、（ｃ）成分及び必要に応じて（ｄ）成分、（ｅ）成分を所定の割合で混合し、所望によりその他添加剤をさらに添加して混合し、均一な溶液とする
方法、又はこれらの成分に加え更に慣用の溶剤を使用する方法等が挙げられる。
重合性組成物における固形分の割合は、各成分が溶剤に均一に溶解している限りは特に限定はないが、例えば１〜５０質量％であり、又は、１〜３０質量％であり、又は１〜２５質量％である。ここで固形分とは、重合性組成物の全成分から溶剤成分を除いたものである。
また、重合性組成物の溶液は、孔径が０．０５〜０．２μｍのフィルタなどを用いてろ過した後、使用することが好ましい。
＜＜硬化物＞＞
また、本発明の重合性組成物は、露光又は加熱により、反応性シリコーン化合物に含まれる重合性二重結合と、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート化合物に含まれる（メタ）アクリロイル基とを反応させて、硬化物を得ることができる。
露光する光線としては、紫外線、電子線、Ｘ線等が挙げられる。紫外線照射に用いる光源としては、太陽光線、ケミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等が使用できる。
加熱条件としては、特に限定されないが、通常、５０〜３００℃、１〜１２０分間の範囲から適宜、選択される。また、加熱手段としては、特に限定されないが、例えばホットプレート、オーブン等が挙げられる。
また、本発明の重合性組成物は、露光又は加熱により、反応性シリコーン化合物に含まれる重合性二重結合と、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート化合物に含まれる（メタ）アクリロイル基とを反応させて、硬化物を得ることができる。
露光する光線としては、紫外線、電子線、Ｘ線等が挙げられる。紫外線照射に用いる光源としては、太陽光線、ケミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等が使用できる。
加熱条件としては、特に限定されないが、通常、５０〜３００℃、１〜１２０分間の範囲から適宜、選択される。また、加熱手段としては、特に限定されないが、例えばホットプレート、オーブン等が挙げられる。
本発明の重合性組成物を硬化することにより得られる硬化物は、波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．５以上と高いものであり、また、加熱による黄変及びクラックの発生が抑制され、寸法安定性を有するものであるから高屈折率樹脂レンズ用材料として好適に使用することができる。
＜＜成形体＞＞
本発明の樹脂組成物を成形する際は、例えば、圧縮成形、射出成形、ブロー成形、真空成形などの慣用の成形法を使用することによって、各種成型体を容易に製造することができる。こうして得られる成型体も本発明の対象である。
成型体を製造する方法としては、持体と鋳型との間に充填する工程、露光する工程、鋳型から離形する工程、支持体ごと加熱する工程、を含む製造方法が好ましい。
上記加熱工程の条件としては、特に限定されないが、通常、５０〜２６０℃、０．５〜６０分間の範囲から適宜、選択される。また、加熱手段としては、特に限定されないが、例えば、ホットプレート、オーブン等が挙げられる。
このような方法によって製造された成型体は、カメラ用モジュールレンズとして好適に使用することができる。
本発明の樹脂組成物を成形する際は、例えば、圧縮成形、射出成形、ブロー成形、真空成形などの慣用の成形法を使用することによって、各種成型体を容易に製造することができる。こうして得られる成型体も本発明の対象である。
成型体を製造する方法としては、持体と鋳型との間に充填する工程、露光する工程、鋳型から離形する工程、支持体ごと加熱する工程、を含む製造方法が好ましい。
上記加熱工程の条件としては、特に限定されないが、通常、５０〜２６０℃、０．５〜６０分間の範囲から適宜、選択される。また、加熱手段としては、特に限定されないが、例えば、ホットプレート、オーブン等が挙げられる。
このような方法によって製造された成型体は、カメラ用モジュールレンズとして好適に使用することができる。
以下、実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
なお、実施例において、試料の調製及び物性の分析に用いた装置及び条件は、以下の通りである。
なお、実施例において、試料の調製及び物性の分析に用いた装置及び条件は、以下の通りである。
（１）１Ｈ ＮＭＲスペクトル
装置：日本電子（株）製 ＪＮＭ−ＥＣＸ３００
測定溶媒：ＣＤＣｌ３
基準物質：テトラメチルシラン（０．００ｐｐｍ）
（２）ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）
装置：東ソー（株）製 ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ
カラム：昭和電工（株）製 Ｓｈｏｄｅｘ（登録商標）ＧＰＣ ＫＦ−８０２．５、ＧＰＣ ＫＦ−８０３
カラム温度：４０℃
溶媒：テトラヒドロフラン
検出器：ＵＶ（２５４ｎｍ）
検量線：標準ポリスチレン
（３）撹拌脱泡機
装置：（株）シンキー製 自転・公転ミキサー あわとり錬太郎（登録商標）ＡＲＥ−３１０
（４）ＵＶ露光
装置：アイグラフィックス（株）製 バッチ式ＵＶ照射装置（高圧水銀灯２ｋＷ×１灯）
（５）屈折率／アッベ数νＤ
装置：（株）アタゴ製 多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ４
測定温度：２０℃
（６）光線透過率
装置：（株）島津製作所製 紫外可視分光光度計ＵＶ−３１００
（７）リフロー炉
装置：（株）シンアペックス製 卓上型リフロー炉ＳＴＲ−３１００
（８）マイクロスコープ
装置：（株）ハイロックス製 デジタルマイクロスコープＫＨ−７７００
装置：日本電子（株）製 ＪＮＭ−ＥＣＸ３００
測定溶媒：ＣＤＣｌ３
基準物質：テトラメチルシラン（０．００ｐｐｍ）
（２）ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）
装置：東ソー（株）製 ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ
カラム：昭和電工（株）製 Ｓｈｏｄｅｘ（登録商標）ＧＰＣ ＫＦ−８０２．５、ＧＰＣ ＫＦ−８０３
カラム温度：４０℃
溶媒：テトラヒドロフラン
検出器：ＵＶ（２５４ｎｍ）
検量線：標準ポリスチレン
（３）撹拌脱泡機
装置：（株）シンキー製 自転・公転ミキサー あわとり錬太郎（登録商標）ＡＲＥ−３１０
（４）ＵＶ露光
装置：アイグラフィックス（株）製 バッチ式ＵＶ照射装置（高圧水銀灯２ｋＷ×１灯）
（５）屈折率／アッベ数νＤ
装置：（株）アタゴ製 多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ４
測定温度：２０℃
（６）光線透過率
装置：（株）島津製作所製 紫外可視分光光度計ＵＶ−３１００
（７）リフロー炉
装置：（株）シンアペックス製 卓上型リフロー炉ＳＴＲ−３１００
（８）マイクロスコープ
装置：（株）ハイロックス製 デジタルマイクロスコープＫＨ−７７００
また、略記号は以下の意味を表す。
２ＭＰＴ：２−メトキシフェノチアジン［東京化成工業（株）製］
ＡＢＰＥ４：エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（エトキシ基４ｍｏｌ付加）［新中村化学工業（株）製 ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−４］
ＡＢＰＥ１０：エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（エトキシ基１０ｍｏｌ付加）［新中村化学工業（株）製 ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−１０］
ＡＴＭＰＴ：１，１，１−トリメチロールプロパントリアクリレート［新中村化学工業（株）製 ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ］
ＤＣＰ：トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカンジメタノールジメタクリレート［新中村化学工業（株）製 ＮＫエステルＤＣＰ］
ＩＲＧ１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシル＝フェニル＝ケトン［ＢＡＳＦジャパン（株）製 ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４］
ＩＲＧ２４５：トリエチレングリコールビス（３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパノエート）［ＢＡＳＦジャパン（株）製 ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）２４５］
ＮＰＨＡ：Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩［和光純薬工業（株）製］
ＴＩＮ１２３：デカン二酸ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）［ＢＡＳＦジャパン（株）製 ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）１２３］
ＴＩＮ１５２：２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ）−６−（２−ヒドロキシエチルアミン）−１，３，５−トリアジン［ＢＡＳＦジャパン（株）製 ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）１５２］
ＴＩＮ２９２：デカン二酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）［ＢＡＳＦジャパン（株）製 ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）２９２］
ＴＩＮ７７０：デカン二酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）［ＢＡＳＦジャパン（株）製 ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）７７０］
ＴＰＯ：ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド［ＢＡＳＦジャパン（株）製 ＬＵＣＩＲＩＮ（登録商標）ＴＰＯ］
２ＭＰＴ：２−メトキシフェノチアジン［東京化成工業（株）製］
ＡＢＰＥ４：エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（エトキシ基４ｍｏｌ付加）［新中村化学工業（株）製 ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−４］
ＡＢＰＥ１０：エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（エトキシ基１０ｍｏｌ付加）［新中村化学工業（株）製 ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−１０］
ＡＴＭＰＴ：１，１，１−トリメチロールプロパントリアクリレート［新中村化学工業（株）製 ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ］
ＤＣＰ：トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカンジメタノールジメタクリレート［新中村化学工業（株）製 ＮＫエステルＤＣＰ］
ＩＲＧ１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシル＝フェニル＝ケトン［ＢＡＳＦジャパン（株）製 ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４］
ＩＲＧ２４５：トリエチレングリコールビス（３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパノエート）［ＢＡＳＦジャパン（株）製 ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）２４５］
ＮＰＨＡ：Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩［和光純薬工業（株）製］
ＴＩＮ１２３：デカン二酸ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）［ＢＡＳＦジャパン（株）製 ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）１２３］
ＴＩＮ１５２：２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ）−６−（２−ヒドロキシエチルアミン）−１，３，５−トリアジン［ＢＡＳＦジャパン（株）製 ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）１５２］
ＴＩＮ２９２：デカン二酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）［ＢＡＳＦジャパン（株）製 ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）２９２］
ＴＩＮ７７０：デカン二酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）［ＢＡＳＦジャパン（株）製 ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）７７０］
ＴＰＯ：ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド［ＢＡＳＦジャパン（株）製 ＬＵＣＩＲＩＮ（登録商標）ＴＰＯ］
［製造例１］反応性シリコーン化合物の製造
冷却器を備えた１Ｌのナス型フラスコに、ジフェニルシランジオール［東京化成工業（株）製］１７７ｇ（０．８０ｍｏｌ）、トリメトキシ（４−ビニルフェニル）シラン［信越化学工業（株）製］１７９ｇ（０．８０ｍｏｌ）、及びトルエン１４１ｇを仕込み、窒素バルーンを用いてフラスコ中の空気を窒素で置換した。この反応混合物を５０℃に加熱後、水酸化バリウム一水和物［アルドリッチ社製］０．３０３ｇ（１．６ｍｍｏｌ）を添加し、さらに５０℃で２日間撹拌して脱アルコール縮合を行った。反応混合物を室温（およそ２５℃）まで冷却し、孔径０．２μｍのメンブレンフィルターを用いて不溶物を除去した。ロータリーエバポレーターを用いて、この反応混合物からトルエン及び副生成物のメタノールを５０℃で減圧留去することで、無色透明油状物の反応性シリコーン化合物３０５ｇを得た。
得られた反応性シリコーン化合物の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図１に示す。また、ＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１，６００、分散度Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）は１．３であった。
冷却器を備えた１Ｌのナス型フラスコに、ジフェニルシランジオール［東京化成工業（株）製］１７７ｇ（０．８０ｍｏｌ）、トリメトキシ（４−ビニルフェニル）シラン［信越化学工業（株）製］１７９ｇ（０．８０ｍｏｌ）、及びトルエン１４１ｇを仕込み、窒素バルーンを用いてフラスコ中の空気を窒素で置換した。この反応混合物を５０℃に加熱後、水酸化バリウム一水和物［アルドリッチ社製］０．３０３ｇ（１．６ｍｍｏｌ）を添加し、さらに５０℃で２日間撹拌して脱アルコール縮合を行った。反応混合物を室温（およそ２５℃）まで冷却し、孔径０．２μｍのメンブレンフィルターを用いて不溶物を除去した。ロータリーエバポレーターを用いて、この反応混合物からトルエン及び副生成物のメタノールを５０℃で減圧留去することで、無色透明油状物の反応性シリコーン化合物３０５ｇを得た。
得られた反応性シリコーン化合物の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図１に示す。また、ＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１，６００、分散度Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）は１．３であった。
［実施例１］
製造例１で製造した反応性シリコーン化合物７５質量部、ジ（メタ）アクリレート化合物としてＡＢＰＥ４ ２５質量部、光安定剤及び／又は酸化防止剤としてＴＩＮ２９２ ０．２質量部、並びに重合開始剤としてＩＲＧ１８４ ２質量部及びＴＰＯ ０．５質量部を混合し、１０分間撹拌脱泡することで重合性組成物を得た。
得られた重合性組成物を、０．３ｍｍ厚のシリコーンゴム製スペーサーとともに、離型処理したガラス基板２枚で挟み込んだ。この挟み込んだ重合性組成物を、２０ｍＷ／ｃｍ２で２分間ＵＶ露光し、さらに１５０℃のホットプレートで１５分間加熱した。室温（およそ２５℃）まで冷却後、硬化物をガラス基板から剥離することで、直径３ｃｍ、厚さ０．３ｍｍの試験片を作製した。
得られた試験片の波長５８９ｎｍにおける屈折率、アッベ数νＤ、及び波長４００ｎｍの光線透過率を評価した。また、リフロー炉を用いた加熱試験でのクラック発生頻度を評価した。なお、評価は、同一組成の試験片３つをリフロー炉に入れ、１）２６０℃まで３分間で昇温、２）２６０℃で２０秒間保持、３）５０℃まで放冷、の３ステップを３回繰り返した後、各試験片のクラックの有無を目視で確認した。結果を表１に併せて示す。
製造例１で製造した反応性シリコーン化合物７５質量部、ジ（メタ）アクリレート化合物としてＡＢＰＥ４ ２５質量部、光安定剤及び／又は酸化防止剤としてＴＩＮ２９２ ０．２質量部、並びに重合開始剤としてＩＲＧ１８４ ２質量部及びＴＰＯ ０．５質量部を混合し、１０分間撹拌脱泡することで重合性組成物を得た。
得られた重合性組成物を、０．３ｍｍ厚のシリコーンゴム製スペーサーとともに、離型処理したガラス基板２枚で挟み込んだ。この挟み込んだ重合性組成物を、２０ｍＷ／ｃｍ２で２分間ＵＶ露光し、さらに１５０℃のホットプレートで１５分間加熱した。室温（およそ２５℃）まで冷却後、硬化物をガラス基板から剥離することで、直径３ｃｍ、厚さ０．３ｍｍの試験片を作製した。
得られた試験片の波長５８９ｎｍにおける屈折率、アッベ数νＤ、及び波長４００ｎｍの光線透過率を評価した。また、リフロー炉を用いた加熱試験でのクラック発生頻度を評価した。なお、評価は、同一組成の試験片３つをリフロー炉に入れ、１）２６０℃まで３分間で昇温、２）２６０℃で２０秒間保持、３）５０℃まで放冷、の３ステップを３回繰り返した後、各試験片のクラックの有無を目視で確認した。結果を表１に併せて示す。
［実施例２、比較例１乃至３］
反応性シリコーン化合物の添加量を表１に記載の量に、ジ（メタ）アクリレート化合物を表１に記載の種類、添加量にそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様に操作、評価した。結果を表１に併せて示す。
反応性シリコーン化合物の添加量を表１に記載の量に、ジ（メタ）アクリレート化合物を表１に記載の種類、添加量にそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様に操作、評価した。結果を表１に併せて示す。
表１に示すように、本発明の重合性組成物から得られた硬化物は、２６０℃でのリフロー工程を３回経てもクラックが入らなかった。
一方、特定のジ（メタ）アクリレート化合物を添加しない硬化物（比較例１）、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレートであってもエトキシ基１０ｍｏｌ付加のものを添加した硬化物（比較例２）、及びビスフェノールＡ骨格を持たないジ（メタ）アクリレート化合物を添加した硬化物（比較例３）にあっては、全部又は一部の試験片にクラックが入り、２６０℃でのリフロー工程に耐えられないという結果が得られた。
一方、特定のジ（メタ）アクリレート化合物を添加しない硬化物（比較例１）、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレートであってもエトキシ基１０ｍｏｌ付加のものを添加した硬化物（比較例２）、及びビスフェノールＡ骨格を持たないジ（メタ）アクリレート化合物を添加した硬化物（比較例３）にあっては、全部又は一部の試験片にクラックが入り、２６０℃でのリフロー工程に耐えられないという結果が得られた。
［実施例３］
製造例１で製造した反応性シリコーン化合物７５質量部、ジ（メタ）アクリレート化合物としてＡＢＰＥ４ ２５質量部、光安定剤及び／又は酸化防止剤としてＩＲＧ２４５ ０．２質量部、及び重合開始剤としてＩＲＧ１８４ ３質量部を混合し、１０分間撹拌脱泡することで重合性組成物を得た。
得られた重合性組成物を用いて、実施例１と同様の操作により直径３ｃｍ、厚さ０．３ｍｍの試験片を作製した。
得られた試験片のリフロー炉を用いた加熱試験前後の波長４００ｎｍの光線透過率を測定し、加熱による透過率の低下を評価した。なお、加熱試験は、１）２６０℃まで３分間で昇温、２）２６０℃で２０秒間保持、３）５０℃まで放冷、の３ステップを３回繰り返した。結果を表２に示す。
製造例１で製造した反応性シリコーン化合物７５質量部、ジ（メタ）アクリレート化合物としてＡＢＰＥ４ ２５質量部、光安定剤及び／又は酸化防止剤としてＩＲＧ２４５ ０．２質量部、及び重合開始剤としてＩＲＧ１８４ ３質量部を混合し、１０分間撹拌脱泡することで重合性組成物を得た。
得られた重合性組成物を用いて、実施例１と同様の操作により直径３ｃｍ、厚さ０．３ｍｍの試験片を作製した。
得られた試験片のリフロー炉を用いた加熱試験前後の波長４００ｎｍの光線透過率を測定し、加熱による透過率の低下を評価した。なお、加熱試験は、１）２６０℃まで３分間で昇温、２）２６０℃で２０秒間保持、３）５０℃まで放冷、の３ステップを３回繰り返した。結果を表２に示す。
［実施例４乃至７、比較例４乃至６］
光安定剤及び／又は酸化防止剤を表２に記載の種類に、重合開始剤を表２に記載の種類、添加量にそれぞれ変更した以外は、実施例３と同様に操作、評価した。結果を表２に併せて示す。
光安定剤及び／又は酸化防止剤を表２に記載の種類に、重合開始剤を表２に記載の種類、添加量にそれぞれ変更した以外は、実施例３と同様に操作、評価した。結果を表２に併せて示す。
表２に示すように、本発明の重合性組成物から得られた硬化物は、２６０℃でのリフロー工程を３回経ても透過率の低下が少なく、耐熱性が高いとする結果が得られた。
一方、特定の光安定剤及び／又は酸化防止剤を添加しない硬化物（比較例４）にあっては、透過率の低下が大きかった。また、特定のヒンダードアミン又はヒンダードフェノール以外の光安定剤又は酸化防止剤を添加した硬化物（比較例５，６）にあっては、加熱前の透過率が７０％前後と低い上に、加熱後では３５％前後と半減しており、２６０℃でのリフロー工程に耐えられないという結果が得られた。
一方、特定の光安定剤及び／又は酸化防止剤を添加しない硬化物（比較例４）にあっては、透過率の低下が大きかった。また、特定のヒンダードアミン又はヒンダードフェノール以外の光安定剤又は酸化防止剤を添加した硬化物（比較例５，６）にあっては、加熱前の透過率が７０％前後と低い上に、加熱後では３５％前後と半減しており、２６０℃でのリフロー工程に耐えられないという結果が得られた。
［実施例８］
製造例１で製造した反応性シリコーン化合物８０質量部、ジ（メタ）アクリレート化合物としてＡＢＰＥ４ １０質量部、光安定剤及び／又は酸化防止剤としてＴＩＮ７７０ ０．２質量部、多官能（メタ）アクリレート化合物としてＡＴＭＰＴ１０質量部、並びに重合開始剤としてＩＲＧ１８４ ２質量部及びＴＰＯ ０．５質量部を混合し、１０分間撹拌脱泡することで重合性組成物を得た。
得られた重合性組成物をガラス基板上に乗せ、その上からアルミ製鋳型を押し付け、鋳型内に重合性組成物を充填した。この重合性組成物にガラス基板面から積算光量９Ｊ／ｃｍ２でＵＶ露光し、硬化させた。鋳型を外した後、この硬化物をガラス基板ごと１５０℃のホットプレートで２０分間加熱することで、凸レンズ形状の成型体を作製した。
得られた成型体のリフロー炉を用いた加熱試験前後のレンズ高さ（厚み）を、マイクロスコープで測定し、加熱による寸法安定性を評価した。なお、加熱試験は、実施例３と同様の条件で行った。結果を表３に示す。
製造例１で製造した反応性シリコーン化合物８０質量部、ジ（メタ）アクリレート化合物としてＡＢＰＥ４ １０質量部、光安定剤及び／又は酸化防止剤としてＴＩＮ７７０ ０．２質量部、多官能（メタ）アクリレート化合物としてＡＴＭＰＴ１０質量部、並びに重合開始剤としてＩＲＧ１８４ ２質量部及びＴＰＯ ０．５質量部を混合し、１０分間撹拌脱泡することで重合性組成物を得た。
得られた重合性組成物をガラス基板上に乗せ、その上からアルミ製鋳型を押し付け、鋳型内に重合性組成物を充填した。この重合性組成物にガラス基板面から積算光量９Ｊ／ｃｍ２でＵＶ露光し、硬化させた。鋳型を外した後、この硬化物をガラス基板ごと１５０℃のホットプレートで２０分間加熱することで、凸レンズ形状の成型体を作製した。
得られた成型体のリフロー炉を用いた加熱試験前後のレンズ高さ（厚み）を、マイクロスコープで測定し、加熱による寸法安定性を評価した。なお、加熱試験は、実施例３と同様の条件で行った。結果を表３に示す。
［実施例９］
反応性シリコーン化合物の添加量を７５質量部に、ＡＢＰＥ４の添加量を２５質量部にそれぞれ変更し、さらにＡＴＭＰＴを添加しなかった以外は、実施例８と同様に操作、評価した。結果を表３に併せて示す。
反応性シリコーン化合物の添加量を７５質量部に、ＡＢＰＥ４の添加量を２５質量部にそれぞれ変更し、さらにＡＴＭＰＴを添加しなかった以外は、実施例８と同様に操作、評価した。結果を表３に併せて示す。
表３に示すように、多官能（メタ）アクリレート化合物であるＡＴＭＰＴを添加した重合性組成物から得られた硬化物（実施例８）は、２６０℃でのリフロー工程を３回経てもレンズ高さの変化がほとんどなく、寸法安定性が高いとする結果が得られた。
本発明の重合性組成物の硬化物は、高い屈折率を有し、そして、高温プロセスにおいても、クラックの発生、熱黄変及び寸法変化が抑制されるものであることから、カメラ用モジュールレンズの材料等として好適に使用することができる。
Claims (9)
- （ａ）式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と式［２］で表されるアルコキシケイ素化合物とを、酸又は塩基の存在下重縮合して得られる反応性シリコーン化合物１００質量部、
（ｂ）式［３］で表されるビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート化合物５乃至１００質量部、及び
（ｃ）式［４］で表される基を有する光安定剤及び／又は式［５］で表される基を有する酸化防止剤０．０１乃至５質量部
を含む重合性組成物。
有するフェニル基、又は重合性二重結合を有する基を少なくとも１つ有するナフチル基を表し、Ｒ1はメチル基又はエチル基を表し、Ｒ2はメチル基、エチル基又はビニルフェニル基を表し、ａは２又は３を表す。）
- さらに（ｄ）一分子内に少なくとも３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物１乃至３０質量部を含む、請求項１に記載の重合性組成物。
- 前記（ｄ）多官能（メタ）アクリレート化合物が、トリメチロールプロパン及びペンタエリスリトールからなる群から選ばれるポリオールの、（メタ）アクリレート又はアルコキシ化（メタ）アクリレートである、請求項２に記載の重合性組成物。
- 前記（ａ）反応性シリコーン化合物が、式［６］で表される化合物と式［７］で表される
化合物とを、酸又は塩基の存在下重縮合して得られる反応性シリコーン化合物である、請求項１乃至請求項３のうち何れか一項に記載の重合性組成物。
- 当該組成物より得られる硬化物のアッベ数が３２以下となる、請求項１乃至請求項４のうち何れか一項に記載の重合性組成物。
- 請求項１乃至請求項５の何れかに記載の重合性組成物を重合して得られる、硬化物。
- 請求項１乃至請求項５の何れかに記載の重合性組成物からなる高屈折率樹脂レンズ用材料。
- 請求項１乃至請求項５の何れかに記載の重合性組成物を、支持体と鋳型との空間に充填する工程、当該充填された組成物を露光して光重合する工程、支持体上の光重合物を鋳型から離型する工程、光重合物を支持体ごと加熱する工程、を含む成型体の製造方法。
- 前記成型体がカメラモジュール用レンズである、請求項８に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013155695A JP2015025075A (ja) | 2013-07-26 | 2013-07-26 | 反応性シリコーン化合物を含む重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013155695A JP2015025075A (ja) | 2013-07-26 | 2013-07-26 | 反応性シリコーン化合物を含む重合性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015025075A true JP2015025075A (ja) | 2015-02-05 |
Family
ID=52490001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013155695A Pending JP2015025075A (ja) | 2013-07-26 | 2013-07-26 | 反応性シリコーン化合物を含む重合性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2015025075A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015159972A1 (ja) * | 2014-04-18 | 2015-10-22 | 日産化学工業株式会社 | 反応性シリコーン化合物を含む重合性樹脂組成物 |
| WO2016163561A1 (ja) * | 2015-04-10 | 2016-10-13 | 日産化学工業株式会社 | 反応性シルセスキオキサン化合物を含む重合性樹脂組成物 |
| WO2017208936A1 (ja) * | 2016-05-30 | 2017-12-07 | 日産化学工業株式会社 | 反応性ポリシロキサン及びそれを含む重合性組成物 |
| KR20180043378A (ko) * | 2015-10-21 | 2018-04-27 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 광도파로 형성용 조성물 |
| TWI719043B (zh) * | 2015-08-18 | 2021-02-21 | 日商日產化學工業股份有限公司 | 含反應性倍半矽氧烷化合物及芳香族乙烯基化合物之聚合性組成物 |
-
2013
- 2013-07-26 JP JP2013155695A patent/JP2015025075A/ja active Pending
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106232633A (zh) * | 2014-04-18 | 2016-12-14 | 日产化学工业株式会社 | 包含反应性有机硅化合物的聚合性树脂组合物 |
| WO2015159972A1 (ja) * | 2014-04-18 | 2015-10-22 | 日産化学工業株式会社 | 反応性シリコーン化合物を含む重合性樹脂組成物 |
| US10550217B2 (en) | 2015-04-10 | 2020-02-04 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Polymerizable resin composition comprising reactive silsesquioxane compound |
| WO2016163561A1 (ja) * | 2015-04-10 | 2016-10-13 | 日産化学工業株式会社 | 反応性シルセスキオキサン化合物を含む重合性樹脂組成物 |
| CN107531812A (zh) * | 2015-04-10 | 2018-01-02 | 日产化学工业株式会社 | 包含反应性倍半硅氧烷化合物的聚合性树脂组合物 |
| JPWO2016163561A1 (ja) * | 2015-04-10 | 2018-02-01 | 日産化学工業株式会社 | 反応性シルセスキオキサン化合物を含む重合性樹脂組成物 |
| EP3281959A4 (en) * | 2015-04-10 | 2018-04-11 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Polymerizable resin composition containing reactive silsesquioxane compound |
| TWI712651B (zh) * | 2015-04-10 | 2020-12-11 | 日商日產化學工業股份有限公司 | 含反應性倍半矽氧烷化合物之聚合性樹脂組成物 |
| TWI719043B (zh) * | 2015-08-18 | 2021-02-21 | 日商日產化學工業股份有限公司 | 含反應性倍半矽氧烷化合物及芳香族乙烯基化合物之聚合性組成物 |
| KR101890899B1 (ko) | 2015-10-21 | 2018-08-22 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 광도파로 형성용 조성물 |
| EP3373051A4 (en) * | 2015-10-21 | 2019-07-31 | Nissan Chemical Corporation | COMPOSITION FOR PRODUCING AN OPTICAL WAVEGUIDE |
| KR20180043378A (ko) * | 2015-10-21 | 2018-04-27 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 광도파로 형성용 조성물 |
| CN109196008A (zh) * | 2016-05-30 | 2019-01-11 | 日产化学株式会社 | 反应性聚硅氧烷及包含该反应性聚硅氧烷的聚合性组合物 |
| JPWO2017208936A1 (ja) * | 2016-05-30 | 2019-03-28 | 日産化学株式会社 | 反応性ポリシロキサン及びそれを含む重合性組成物 |
| WO2017208936A1 (ja) * | 2016-05-30 | 2017-12-07 | 日産化学工業株式会社 | 反応性ポリシロキサン及びそれを含む重合性組成物 |
| US10899891B2 (en) | 2016-05-30 | 2021-01-26 | Nissan Chemical Corporation | Reactive polysiloxane and polymerizable composition comprising same |
| CN109196008B (zh) * | 2016-05-30 | 2021-07-06 | 日产化学株式会社 | 反应性聚硅氧烷及包含该反应性聚硅氧烷的聚合性组合物 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6579335B2 (ja) | 反応性シルセスキオキサン化合物を含む重合性組成物 | |
| TWI374915B (en) | Silicone resin composition and molded product thereof | |
| JP6555485B2 (ja) | 反応性シリコーン化合物を含む重合性樹脂組成物 | |
| US8754181B2 (en) | Silicone resin, process for producing the same, and curable resin composition comprising the same | |
| WO2009119253A1 (ja) | シラノール基含有硬化性籠型シルセスキオキサン化合物、籠型構造含有硬化性シリコーン共重合体、及びこれらの製造方法、並びに硬化性樹脂組成物 | |
| JP2015025075A (ja) | 反応性シリコーン化合物を含む重合性組成物 | |
| TW201339247A (zh) | 玻璃纖維複合化樹脂基板 | |
| TWI712651B (zh) | 含反應性倍半矽氧烷化合物之聚合性樹脂組成物 | |
| WO2015022965A1 (ja) | 反応性シリコーン化合物を含む重合性組成物 | |
| JP6744576B2 (ja) | 反応性含フッ素シリコーン化合物を含む重合性組成物 | |
| CN103154053A (zh) | 感光性树脂组合物及其制造方法 | |
| JP2014118382A (ja) | 芳香族ビスハロメチル化合物、及びビス（メタ）アクリロイル末端ベンジルエーテル化合物 | |
| JP2012233118A (ja) | 硬化性組成物 | |
| JP6555499B2 (ja) | 高屈折率重合性化合物の低粘度化剤及びそれを含む重合性組成物 | |
| KR102649151B1 (ko) | 임프린트용 광경화성 조성물 | |
| JP2022157239A (ja) | 光造形用樹脂組成物及び光造形物 |