JP2009543951A - 電気絶縁皮膜の堆積方法 - Google Patents
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- 238000000151 deposition Methods 0.000 title description 8
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 92
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 54
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 43
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 35
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 21
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 20
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 20
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 11
- UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N alumane;titanium Chemical compound [AlH3].[Ti] UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 7
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 4
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N B#[Ti]#B Chemical compound B#[Ti]#B QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001362 Ta alloys Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910033181 TiB2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000756 V alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001093 Zr alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ZGUQGPFMMTZGBQ-UHFFFAOYSA-N [Al].[Al].[Zr] Chemical compound [Al].[Al].[Zr] ZGUQGPFMMTZGBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QQHSIRTYSFLSRM-UHFFFAOYSA-N alumanylidynechromium Chemical compound [Al].[Cr] QQHSIRTYSFLSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LNGCCWNRTBPYAG-UHFFFAOYSA-N aluminum tantalum Chemical compound [Al].[Ta] LNGCCWNRTBPYAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HIMLGVIQSDVUJQ-UHFFFAOYSA-N aluminum vanadium Chemical compound [Al].[V] HIMLGVIQSDVUJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 claims description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 2
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims 3
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- OQPDWFJSZHWILH-UHFFFAOYSA-N [Al].[Al].[Al].[Ti] Chemical compound [Al].[Al].[Al].[Ti] OQPDWFJSZHWILH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021324 titanium aluminide Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 3
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RHBRWKIPYGZNMP-UHFFFAOYSA-N [O--].[O--].[O--].[Al+3].[Cr+3] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[Al+3].[Cr+3] RHBRWKIPYGZNMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 aluminum chrome nitride Chemical class 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 230000004807 localization Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000012958 reprocessing Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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Abstract
Description
・ 明細書、図、および特許請求の範囲から成る本願において、「小さい」磁界とは、3〜50ガウス(3および50も含まれる)の磁界であり、好適には5〜25ガウス(5および25も含まれる)の磁界である。
・ 明細書、図、および特許請求の範囲から成る本願において、伝導性の「低い」または「比較的低い」材料とは、導電性が金属もしくは金属合金の導電性よりも低い材料である。
・ 明細書、図、および特許請求の範囲から成る本願において、ターゲットの表面に対して概ね垂直な磁界とは、ターゲット表面に対して平行な、径方向の成分を有し、当該成分がターゲットに対して垂直な成分よりも小さい磁界である。結果として生じる磁界ベクトルは、ターゲットの表面法線と45°よりも小さい角度を成す。このとき、径方向の磁界成分を0とすることも可能である。その場合、磁界ベクトルと表面法線とが一致する。
・ 明細書、図、および特許請求の範囲から成る本願において、主に軸方向に分極したコイルとは、当該コイルの軸がその中心においてターゲットの表面法線と45°よりも小さい角度を成すコイルである。
・ コイルから成る、ターゲットの外周面に「似た」ジオメトリを有するマグネットシステムとは、ターゲット表面を上から見ると、ターゲット面の内側および/または外側、ならびに外縁部に沿って延在しており、側面から見ると、ターゲットの端縁よりも少なくとも部分的に下に、および/または少なくとも部分的に上に、および/または少なくとも部分的に同じ高さに配置されているマグネットシステムである。
ソース電流(Quellenstromarc):180A
酸素フロー:段階的に400sccmから1600sccmに増加させ、純粋な酸素から成る雰囲気下とする。
刻み幅:300sccm/10分
プロセス中の圧力:0.44〜4.9Pa
基材の電圧:双極非対称パルス:−100V/36μs、+100V/4μs
基材温度(Tsubstrat):550℃
放電電流NVB:250A
アルゴンフロー:50sccm
水素フロー:300sccm
プロセス中の圧力:1.4x10−2mbar
基材温度:約550℃
プロセス時間:45分
アルゴンフロー:60sccm
プロセス中の圧力:2.4x10−3mbar
放電電流NVB:150A
基材温度:約500℃
プロセス時間:45分
バイアス:200−250V
アルゴンフロー:0sccm(アルゴンは付加せず)
窒素フロー:圧力を3Paに定める
プロセス中の圧力:3x10−2mbar
直流ソース電流TiAlN:200A
ソース磁界の電流(MAG S):1A
直流基材バイアス:U=−40V
基材温度:約550℃
プロセス時間:25分
酸素フロー:1000sccm
プロセス中の圧力:2x10−2mbar
直流ソース電流Al:200A
ソース磁界の電流(MAG S):0.5A
基材バイアス:U=60V(双極、−36μs、+4μs)
基材温度:約550℃
プロセス時間:60〜120分
知られているチタンアルミナイトライド(TiAlN)皮膜よりも明らかに耐用年数が改善されたことがわかった。
2 表面
3 閉じ込めリング
4 冷却板
5 電流供給部
6 永久磁石リング
7 永久磁石リング
8 電磁コイル
Claims (21)
- 伝導性の低い、特に絶縁性を有する皮膜を、少なくとも1つの加工物に真空めっきによって製造するための方法であって、反応性ガスを含む雰囲気下で、アークソースの少なくとも1つの陽極と1つの陰極との間でアーク放電が行われる方法において、
電子によって前記陰極と接続されたターゲットの表面には、垂直成分Bzならびに前記垂直成分より小さい、径方向または表面に平行な成分Brを含んだ、小さな、前記ターゲット表面に対して概ね垂直な外部磁界のみが、蒸発プロセスを支援するために形成されており、前記外部磁界は、少なくとも1つの主に軸方向に分極したコイルから成る、ターゲットの外周面に似たジオメトリを有するマグネットシステムに励磁電流が印加されることによって形成されることを特徴とする方法。 - 前記ターゲット表面に接する垂直成分Bzは3〜50ガウスの範囲内、好適には5〜25ガウスの範囲内に設定されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記マグネットシステムは主にターゲット表面の平面に、または好適には前記ターゲット表面の背面に配置されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- スパーク放電もしくは少なくとも1つのアークソースに、同時に直流電流とパルス電流もしくは交流電流とが印加されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ターゲット表面に絶縁皮膜をコーティングすることによって、前記表面に前記コーティングを行わずに作動させる場合よりも、ソース電圧における直流の割合が少なくとも10%、好適には少なくとも20%増大することを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 第一の電極であるアークソースの陰極と、前記アークソースから離れて配置された第二の電極との間に、パルス電流が供給されることを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 前記第二の電極が、さらなるアークソースの陰極として作動させられ、前記電極は同様に直流電流供給部と接続されていることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 第二の電極として、スパッタリング陰極が接続されていることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 少なくとも2つのターゲットが互いに角を成す、あるいは向かい合った配置で作動しており、少なくとも1つの加工物が前記ターゲット間に配置されていることを特徴とする請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記励磁電流は直流電流および/またはパルス電流もしくは交流電流であり、前記電流は電流ソースからコイルを経由し陰極へ誘導されることを特徴とする請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記励磁電流のフローに際し、前記外部磁界が主にアーク電流に固有の磁界の値に調整されるように前記コイルが配置されることを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 巻数が1〜20、好適には1〜10、特に好適には1〜5であるコイルが使用されることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- アルミニウムを含有する合金から成るターゲットが使用され、前記ターゲット表面からはアルミニウムを含有する合金もしくはアルミニウムを含有する合金の化合物が蒸発させられることを特徴とする請求項1から12のいずれか一項に記載の方法。
- 前記合金は、純粋なアルミニウムもしくはアルミニウムと1つまたは複数の第4〜第6族遷移元素ならびに鉄(Fe)、ケイ素(Si)、ホウ素(B)、炭素(C)との合金、好適にはアルミニウム‐チタン合金(AlTi)、アルミニウム‐タンタル合金(AlTa)、アルミニウム‐バナジウム合金(AlV)、アルミニウム‐クロム合金(AlCr)、もしくはアルミニウム‐ジルコニウム合金(AlZr)を含むことを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 前記反応性ガスを含有する雰囲気が酸素を含むか、もしくは酸素から構成されており、酸化物を含む皮膜、好適には酸化物が堆積することを特徴とする請求項1から14のいずれか一項に記載の方法。
- 酸化物を含む少なくとも1つの皮膜に加えて、少なくとも1つの異なる接着皮膜および/または硬質皮膜が前記加工物に塗布されるが、このとき好適にはコーティングの最終ステップとして、酸化物を含む皮膜が、好適には酸化物が塗布されることを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 2つの直接上下に重なり合う接着皮膜、硬質皮膜および/または酸化物皮膜の間に、2つの直接上下に重なり合う皮膜の要素を含む中間皮膜が塗布されることを特徴とする請求項16に記載の方法。
- 前記反応性ガスを含有する雰囲気はホウ素を含有する化合物を含むか、もしくはホウ素を含有する化合物から構成されており、ホウ素を含有する皮膜、好適にはホウ化物、特に好適には二ホウ化チタン(TiB2)が堆積することを特徴とする請求項1から15のいずれか一項に記載の方法。
- 伝導性の低い、特に絶縁性を有する皮膜を、少なくとも1つの加工物に真空めっきによって製造するための方法であって、反応性ガスを含む雰囲気下において、アークソースの少なくとも1つの陽極と1つの陰極との間でアーク放電が行われる方法において、
電子によって前記陰極と接続されたターゲットの表面には、蒸発プロセスを支援するための磁界は全く形成されないか、あるいは垂直成分Bzならびに実質的に前記成分より小さい、径方向または表面に平行な成分Brを含んだ、小さな、前記ターゲット表面に対して概ね垂直な外部磁界のみが形成されており、前記アークソースは真空コーティング装置内で単独で作動させられるか、または他のコーティングソースが装置内に配置され、それによって前記ターゲット表面の再コーティング率は、前記陰極から蒸発する金属の量よりも10%小さく、好適には5%小さく、特に好適には1%小さいことを特徴とする方法。 - 前記ターゲット表面に接する垂直成分Bzは50ガウスより小さく、好適には25ガウスより小さい値に設定されることを特徴とする請求項19に記載の方法。
- 伝導性の低い、特に絶縁性を有する皮膜を、少なくとも1つの加工物に真空めっきによって製造するための方法であって、反応性ガスを含む雰囲気下において、アークソースの少なくとも1つの陽極と1つの陰極との間でアーク放電が行われる方法において、
前記放電は直流電流および/またはパルス電流もしくは交流電流ジェネレータで行われ、電子によって前記陰極と接続されたターゲットの表面には、蒸発プロセスを支援するために、小さい、ターゲットの表面に対して概ね垂直な外部磁界のみが形成され、前記陰極と前記陽極との間には、両電極から電気的に絶縁された閉じ込めリングが配置されており、前記閉じ込めリングは、窒化ホウ素(BN)などの電気的絶縁体か、またはアルミニウム(Al)、銅(Cu)、銀(Ag)などの伝導性の非常に高い金属から構成されることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH01166/06 | 2006-07-19 | ||
CH11662006 | 2006-07-19 | ||
PCT/EP2007/057179 WO2008009619A1 (de) | 2006-07-19 | 2007-07-12 | Verfahren zum abscheiden elektrisch isolierender schichten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009543951A true JP2009543951A (ja) | 2009-12-10 |
JP5306198B2 JP5306198B2 (ja) | 2013-10-02 |
Family
ID=37174179
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009519945A Expired - Fee Related JP5306198B2 (ja) | 2006-07-19 | 2007-07-12 | 電気絶縁皮膜の堆積方法 |
Country Status (20)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8197648B2 (ja) |
EP (2) | EP2041331B1 (ja) |
JP (1) | JP5306198B2 (ja) |
KR (1) | KR101361234B1 (ja) |
CN (1) | CN101490305B (ja) |
AU (1) | AU2007276186B2 (ja) |
BR (1) | BRPI0714437B1 (ja) |
CA (1) | CA2657726C (ja) |
ES (1) | ES2527877T3 (ja) |
HK (1) | HK1129910A1 (ja) |
IL (1) | IL196488A (ja) |
MX (1) | MX2009000593A (ja) |
MY (1) | MY167043A (ja) |
NZ (1) | NZ573694A (ja) |
PT (1) | PT2041331E (ja) |
RU (1) | RU2461664C2 (ja) |
TW (1) | TWI411696B (ja) |
UA (1) | UA95809C2 (ja) |
WO (1) | WO2008009619A1 (ja) |
ZA (1) | ZA200900374B (ja) |
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-
2007
- 2007-07-11 TW TW096125180A patent/TWI411696B/zh not_active IP Right Cessation
- 2007-07-12 ZA ZA200900374A patent/ZA200900374B/xx unknown
- 2007-07-12 MY MYPI20090219A patent/MY167043A/en unknown
- 2007-07-12 ES ES07787450.1T patent/ES2527877T3/es active Active
- 2007-07-12 MX MX2009000593A patent/MX2009000593A/es active IP Right Grant
- 2007-07-12 EP EP07787450.1A patent/EP2041331B1/de active Active
- 2007-07-12 US US12/374,319 patent/US8197648B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-07-12 EP EP13156872.7A patent/EP2599891A3/de not_active Withdrawn
- 2007-07-12 AU AU2007276186A patent/AU2007276186B2/en not_active Ceased
- 2007-07-12 CN CN200780027414.1A patent/CN101490305B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-07-12 PT PT77874501T patent/PT2041331E/pt unknown
- 2007-07-12 JP JP2009519945A patent/JP5306198B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-07-12 CA CA2657726A patent/CA2657726C/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-07-12 WO PCT/EP2007/057179 patent/WO2008009619A1/de active Application Filing
- 2007-07-12 KR KR1020097000856A patent/KR101361234B1/ko active IP Right Grant
- 2007-07-12 UA UAA200901382A patent/UA95809C2/ru unknown
- 2007-07-12 RU RU2009105668/02A patent/RU2461664C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2007-07-12 BR BRPI0714437-7A patent/BRPI0714437B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2007-07-12 NZ NZ573694A patent/NZ573694A/en not_active IP Right Cessation
-
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- 2009-01-13 IL IL196488A patent/IL196488A/en active IP Right Grant
- 2009-08-20 HK HK09107663A patent/HK1129910A1/xx not_active IP Right Cessation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU2007276186A1 (en) | 2008-01-24 |
CN101490305B (zh) | 2014-02-12 |
US20090166188A1 (en) | 2009-07-02 |
PT2041331E (pt) | 2015-01-14 |
IL196488A (en) | 2014-11-30 |
RU2009105668A (ru) | 2010-08-27 |
EP2041331A1 (de) | 2009-04-01 |
HK1129910A1 (en) | 2009-12-11 |
AU2007276186B2 (en) | 2012-03-01 |
RU2461664C2 (ru) | 2012-09-20 |
US8197648B2 (en) | 2012-06-12 |
TWI411696B (zh) | 2013-10-11 |
WO2008009619A1 (de) | 2008-01-24 |
EP2599891A3 (de) | 2013-08-07 |
MX2009000593A (es) | 2009-04-07 |
CA2657726A1 (en) | 2008-01-24 |
IL196488A0 (en) | 2009-09-22 |
CA2657726C (en) | 2015-05-26 |
UA95809C2 (ru) | 2011-09-12 |
EP2599891A2 (de) | 2013-06-05 |
ES2527877T3 (es) | 2015-02-02 |
BRPI0714437B1 (pt) | 2018-06-05 |
EP2041331B1 (de) | 2014-10-22 |
BRPI0714437A2 (pt) | 2013-03-12 |
KR20090031904A (ko) | 2009-03-30 |
KR101361234B1 (ko) | 2014-02-11 |
JP5306198B2 (ja) | 2013-10-02 |
MY167043A (en) | 2018-08-02 |
NZ573694A (en) | 2012-02-24 |
ZA200900374B (en) | 2010-04-28 |
WO2008009619A9 (de) | 2009-04-16 |
CN101490305A (zh) | 2009-07-22 |
TW200806803A (en) | 2008-02-01 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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