JP2009540551A - 粉末層を基板上に配置する方法並びに少なくとも1つの粉末層を基板上に有する層構造体 - Google Patents
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Abstract
Description
a)前記基板表面を有する基板を準備する工程、
b)前記粉末及び接着促進剤(Haftvermittler)を有する混合物を前記基板表面上に施与する工程、
c)前記接着促進剤を除去する工程及び
d)前記粉末層を基板表面上に固定する工程。
・前記接着促進剤を用いて、前記粉末層はゆるく付着して、ひいては容易に再び除去可能で、前記基板の基板表面上に施与されることができる。このことは、特に変換LEDに関連して有利でありうる:選択的に、すなわち、前記LED表面のコンバータ層の除去は、前記コンバータ層の結合剤の熱による燃え尽きにより実施されなければならないだろう。このことは、しかし変換LEDの場合に不可能でありうる、それというのも、適した光学的性質、例えば電磁一次放射、放射に対する十分な安定性を有する使用される結合剤が、できれば極めて高い温度ではじめて燃え尽き、かつ前記LEDはそれに反して例えば最大400℃まで安定であるに過ぎないからである。
Claims (17)
- 粉末を有する粉末層(2)を基板(1)の基板表面(11)上に配置するにあたり、次の処理工程:
a)前記基板表面を有する基板を準備する工程、
b)前記粉末及び接着促進剤(Haftvermittler)を有する混合物を前記基板表面上に施与する工程、
c)前記接着促進剤を除去する工程及び
d)前記粉末層を前記基板表面上に固定する工程
を有する、粉末層(2)の配置方法。 - 接着促進剤を、水、有機溶剤、無機結合剤又は有機結合剤の群から選択する、請求項1記載の方法。
- 前記混合物を施与するために、印刷法を実施する、請求項1又は2記載の方法。
- 前記混合物を施与するために、電気泳動法を実施する、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- 前記混合物を施与するために、沈降法を実施する、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- 固定するために、別の結合剤を前記粉末層上へ施与する、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- 別の結合剤としてシリコーンを使用する、請求項6記載の方法。
- 前記混合物の施与、前記接着促進剤の除去及び/又は前記粉末層の固定を各領域ごとに実施する、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
- 粉末としてセラミック粉末を使用する、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。
- セラミック粉末として、セラミック蛍光体を含有する粉末を使用する、請求項9記載の方法。
- 処理工程b)及びc)を、異なる粉末を用いて、繰り返して実施するので、異なる粉末を有する複数の相互に重なり合って配置された粉末層を有する多層構造体が製造できる、請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。
- 処理工程b)及びc)に加えて、処理工程d)を繰り返し実施する、請求項11記載の方法。
- 基板として半導体基板を使用する、請求項1から12までのいずれか1項記載の方法。
- 半導体基板が多数の半導体構造素子を有する、請求項13記載の方法。
- 半導体基板の半導体構造素子を、固定前又は固定後に切り離す、請求項14記載の方法。
- 粉末を有する少なくとも1つの構造化された粉末層を基板の基板表面上に有する層構造体であって、請求項1から15までのいずれか1項記載の前記粉末層が前記基板表面上に配置されている、層構造体。
- 基板がLEDであり、かつ粉末層がコンバータ層である、請求項16記載の層構造体。
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JP2009540551A true JP2009540551A (ja) | 2009-11-19 |
JP2009540551A5 JP2009540551A5 (ja) | 2011-06-30 |
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ID=38663670
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JP2009513545A Pending JP2009540551A (ja) | 2006-06-07 | 2007-06-06 | 粉末層を基板上に配置する方法並びに少なくとも1つの粉末層を基板上に有する層構造体 |
Country Status (8)
Country | Link |
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US (1) | US8202747B2 (ja) |
EP (1) | EP2016208A2 (ja) |
JP (1) | JP2009540551A (ja) |
KR (1) | KR20090028611A (ja) |
CN (1) | CN101460661B (ja) |
DE (1) | DE102006026481A1 (ja) |
TW (1) | TWI385818B (ja) |
WO (1) | WO2007140766A2 (ja) |
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- 2007-06-06 EP EP07722519A patent/EP2016208A2/de not_active Withdrawn
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TW200810154A (en) | 2008-02-16 |
TWI385818B (zh) | 2013-02-11 |
WO2007140766A9 (de) | 2009-04-16 |
EP2016208A2 (de) | 2009-01-21 |
KR20090028611A (ko) | 2009-03-18 |
CN101460661A (zh) | 2009-06-17 |
US20100224893A1 (en) | 2010-09-09 |
DE102006026481A1 (de) | 2007-12-13 |
WO2007140766A2 (de) | 2007-12-13 |
US8202747B2 (en) | 2012-06-19 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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A521 | Written amendment |
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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A02 | Decision of refusal |
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