JP2009539741A - 顔料および該顔料で艶消しされた高分子材料 - Google Patents
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Abstract
Description
TiO2顔料;
アナターゼ変態で存在するTiO2顔料;
アナターゼ変態で存在し、吸光値で表わされる、顔料の比色的性質を調節するための特殊な粒子分布を示すTiO2顔料、この場合
吸光値は、0.9〜1.2の範囲内、有利に0.95〜1.1の範囲内、特に有利に1.0〜1.05の範囲内にあり;
上記したようなTiO2顔料、このTiO2顔料は、さらにアンチモンイオンを含有し、この場合
アンチモンイオンの含量は、0.05〜1質量%、有利に0.1〜0.5質量%、特に有利に0.25〜0.4質量%であり、
少なくとも50%、有利に70%を上廻る、特に有利に90%を上廻るアンチモンイオンは、5価の酸化段階で存在し、
上記したようなTiO2顔料、このTiO2顔料は、さらに無機的表面処理に掛けられ、この場合
TiO2粒子は、無機物質および/または有機物質の1つの層または複数の層で被覆され、この場合
無機物質としてアルミニウム(Al)、珪素(Si)、ジルコニウム(Zr)、マンガン(Mn)またはチタン(Ti)の化合物が使用され、この場合には、有利に
アルミニウム(Al)、珪素(Si)およびマンガン(Mn)の化合物からなる組合せ物が、好ましくはAl0.2〜1.0%、Si0〜1.0%およびMn0.05〜0.8%の量(使用されたTiO2基礎材料に対して陽イオンの質量%で記載された)で使用され、この場合
好ましくは、酸化段階+2で5%を上廻る、特に有利に酸化段階+2で10%を上廻るマンガンが存在し、有機物質としてポリグリコール(例えば、ポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコール、またはこれらからのコポリマー)、カルボン酸、カルボン酸のアルカリ金属塩、多価アルコール(例えば、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリトリットまたはネオペンチルグリコール)、シラン、シロキサンおよびシロキサン誘導体、シリコーン油、ポリ燐酸塩のアルカリ金属塩、アミノアルコール、ポリ(メタ)アクリル酸の塩またはポリ(メタ)アクリレートコポリマー(例えば、ナトリウムポリアクリレート、カリウムポリアクリレートまたはアンモニウムポリアクリレート)またはこれらの混合物が、有利に0.01〜8質量%、特に有利に0.05〜4質量%、殊に有利に0.1〜1.5質量%の量で使用される。
TiO2顔料の製造法;
TiO2顔料の使用;
高分子材料を製造するためのTiO2顔料の使用;
顔料で艶消しされた高分子材料;
顔料で艶消しされた高分子材料、この高分子材料は、次の群から選択された1つ以上の物質を含有する:ポリエステル、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリラクチド、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリアクリルニトリル、ビスコースまたはセルロースアセテート;
本発明によるTiO2顔料0.02〜10質量%を含有する、顔料で艶消しされた高分子材料;
合成繊維の使用分野で本発明によるTiO2顔料0.02〜10質量%、有利に0.1〜3質量%、特に有利に0.15〜0.4質量%または1.5〜2.7質量%を含有する、顔料で艶消しされた高分子材料;
フィルムまたはシートの使用分野で本発明によるTiO2顔料0.02〜10質量%、有利に0.1〜8質量%、特に有利に0.4〜5質量%を含有する、顔料で艶消しされた高分子材料;
顔料で艶消しされた高分子材料の製造法;
顔料で艶消しされた高分子材料の製造法、この場合本発明によるTiO2顔料は、重合反応前、重合反応中および/または重合反応後に添加することができ;
顔料で艶消しされた高分子材料の製造法、この場合本発明によるTiO2顔料は、マスターバッチとして添加することができる;
顔料で艶消しされた高分子材料の製造法、この場合本発明によるTiO2顔料は、それぞれの溶融液中で容易に分布しうる調製物として添加することができ;
合成繊維を製造するための、顔料で艶消しされた高分子材料の使用;
織物表面を形成させるための、顔料で艶消しされた高分子材料の使用;
フィルムおよび/またはシートを製造するための、顔料で艶消しされた高分子材料の使用;
成形部材を製造するための、顔料で艶消しされた高分子材料の使用。
Claims (32)
- TiO2顔料において、該TiO2顔料がアナターゼ変態で存在し、0.9〜1.2の範囲内の吸光値を有することを特徴とする、TiO2顔料。
- 吸光値が0.95〜1.1の範囲内、有利に1.0〜1.05の範囲内にある、請求項1記載のTiO2顔料。
- アンチモンイオンを含有する、請求項1または2記載のTiO2顔料。
- アンチモンイオンの含量が、0.05〜1質量%、有利に0.1〜0.5質量%、特に有利に0.25〜0.4質量%である、請求項1から3までのいずれか1項に記載のTiO2顔料。
- 少なくとも50%、有利に70%を上廻る、特に有利に90%を上廻るアンチモンイオンが、5価の酸化段階で存在する、請求項1から4までのいずれか1項に記載のTiO2顔料。
- 付加的に表面処理に掛けられる、請求項1から5までのいずれか1項に記載のTiO2顔料。
- 無機物質および/または有機物質の1つの層または複数の層で被覆されている、請求項1から6までのいずれか1項に記載のTiO2顔料。
- 無機物質としてアルミニウム(Al)、珪素(Si)、ジルコニウム(Zr)、マンガン(Mn)および/またはチタン(Ti)の化合物が使用されている、請求項1から7までのいずれか1項に記載のTiO2顔料。
- アルミニウム(Al)、珪素(Si)およびマンガン(Mn)の化合物からなる組合せ物が使用されている、請求項1から8までのいずれか1項に記載のTiO2顔料。
- Al0.2〜1.0%、Si0〜1.0%およびMn0.05〜0.8%の量(使用されたTiO2基礎材料に対して陽イオンの質量%で記載された)が使用されている、請求項1から9までのいずれか1項に記載のTiO2顔料。
- 酸化段階+2で5%を上廻る、特に有利に酸化段階+2で10%を上廻るマンガンが存在している、請求項1から10までのいずれか1項に記載のTiO2顔料。
- 有機物質の1つの層または複数の層で被覆されている、請求項1から11までのいずれか1項に記載のTiO2顔料。
- 無機物質としてポリグリコール(例えば、ポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコール、またはこれらからのコポリマー)、カルボン酸、カルボン酸のアルカリ金属塩、多価アルコール(例えば、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリトリットまたはネオペンチルグリコール)、シラン、シロキサンおよびシロキサン誘導体、シリコーン油、ポリ燐酸塩のアルカリ金属塩、アミノアルコール、ポリ(メタ)アクリル酸の塩またはポリ(メタ)アクリレートコポリマー(例えば、ナトリウムポリアクリレート、カリウムポリアクリレートまたはアンモニウムポリアクリレート)またはこれらの混合物が使用されている、請求項1から12までのいずれか1項に記載のTiO2顔料。
- 有機物質が0.01〜8質量%、特に有利に0.05〜4質量%、殊に有利に0.1〜1.5質量%の量で使用されている、請求項1から13までのいずれか1項に記載のTiO2顔料。
- 請求項1から14までのいずれか1項に記載のTiO2顔料の製造法において、
a)TiO2をアナターゼ変性で望ましい吸光度に調節し、この場合には、結晶成長法(加水分解、灼熱塩処理および/またはか焼の処理工程)、粉砕(乾式粉砕または湿式粉砕)および/または分級(例えば、篩別または選別)に相応する方法で最適化し、
b)場合によってはアンチモンイオンを添加しおよび/または
c)場合によってはTiO2顔料を表面処理することを特徴とする、請求項1から14までのいずれか1項に記載のTiO2顔料の製造法。 - 工程c)で粉砕すべきTiO2材料の水性分散液を装入し、沈殿すべき化合物を最初に溶解された形で添加し、次に例えば苛性ソーダ液、硫酸または燐酸の添加によってpH値を意図的に変化させ、望ましい物質を沈殿させる、請求項15記載のTiO2顔料の製造法。
- TiO2粒子を、無機物質および/または有機物質の1つの層または複数の層で被覆する、請求項15または16に記載のTiO2顔料の製造法。
- 層を順次にかまたは同時に形成させる、請求項15から17までのいずれか1項に記載のTiO2顔料の製造法。
- 有機表面処理剤をか焼後に添加する、請求項15から18までのいずれか1項に記載のTiO2顔料の製造法。
- 有機表面処理剤を無機表面処理剤の施与後に添加する、請求項15から18までのいずれか1項に記載のTiO2顔料の製造法。
- 高分子材料を製造するための請求項1から14までのいずれか1項に記載のTiO2顔料の使用。
- 顔料で艶消しされた高分子材料において、ポリエステル、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリラクチド、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリアクリルニトリル、ビスコースおよび/またはセルロースアセテートの群から選択された1つ以上の物質、および請求項1から14までのいずれか1項に記載のTiO2顔料を含有することを特徴とする、顔料で艶消しされた高分子材料。
- TiO2顔料0.02〜10質量%を含有する、請求項22記載の顔料で艶消しされた高分子材料。
- 合成繊維の使用分野でTiO2顔料0.02〜10質量%、有利に0.1〜3質量%、特に有利に0.15〜0.4質量%を含有する、請求項22または23に記載の顔料で艶消しされた高分子材料。
- TiO2顔料1.5〜2.7質量%を含有する、請求項24記載の顔料で艶消しされた高分子材料。
- ポリマーフィルムまたはシートの使用分野でTiO2顔料0.02〜10質量%、有利に0.1〜8質量%、特に有利に0.4〜5質量%を含有する、請求項22または23に記載の顔料で艶消しされた高分子材料。
- 請求項22から26までのいずれか1項に記載の顔料で艶消しされた高分子材料の製造法において、顔料で艶消しされた高分子材料を製造するための自体公知の方法で請求項1から14までのいずれか1項に記載のTiO2顔料を重合反応前、重合反応中および/または重合反応後に添加することを特徴とする、請求項22から26までのいずれか1項に記載の顔料で艶消しされた高分子材料の製造法。
- TiO2顔料をマスターバッチとして添加する、請求項27記載の顔料で艶消しされた高分子材料の製造法。
- 合成繊維を製造するための請求項22から26までのいずれか1項に記載の顔料で艶消しされた高分子材料の使用。
- 織物表面を形成させるための請求項22から26までのいずれか1項に記載の顔料で艶消しされた高分子材料の使用。
- フィルムおよび/またはシートを製造するための請求項22から26までのいずれか1項に記載の顔料で艶消しされた高分子材料の使用。
- 成形部材を製造するための請求項22から26までのいずれか1項に記載の顔料で艶消しされた高分子材料の使用。
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