JP2009525590A5

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Publication number: JP2009525590A5
Application number: JP2008539331A
Authority: JP
Filing date: 2006-11-09
Publication date: 2009-12-24
Anticipated expiration: 2026-11-09

Claims

少なくとも一つのＥＵＶ光源（３）と、
前記ＥＵＶ光源（３）の、又は前記ＥＵＶ光源（３）の中間像の一つの強度変動又は位置変化を測定する開口絞り及びセンサ装置（１）と、
を備えたＥＵＶ照明システムにおいて、
前記開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）とＥＵＶ位置センサ（２．３）とを有し、
前記開口絞り及びセンサ装置（１）は、前記開口絞り（２．１）が前記ＥＵＶ光源（３）から発せられる照射、又はその中間像（７）の一つからの照射の所定の立体角範囲が前記ＥＵＶ位置センサ（２．３）に当たるように配置され、前記開口絞り（２．１）は、前記ＥＵＶ光源（３）又は中間像（７）と前記ＥＵＶ位置センサ（２．３）との間に位置する、ＥＵＶ照明システム。
前記開口絞り及びセンサ装置（１）が、ピンホールカメラの原理に従って設計される、請求項１記載のＥＵＶ照明システム。
少なくとも二つの開口絞り及びセンサ装置（１．１、１．２）を備える、請求項１又は請求項２の何れかに記載の照明システム。
前記ＥＵＶ光源を観察する開口絞り及びセンサ装置（１）が光軸（１１）に沿って方向付けられている、請求項１から請求項３迄の何れかに記載のＥＵＶ照明システム。
前記ＥＵＶ光源を観察する少なくとも一つの開口絞り及びセンサ装置（１）が光軸に対して角度（β）を形成するように方向付けられている、請求項１から請求項３迄の何れかに記載のＥＵＶ照明システム。
前記開口絞り及びセンサ装置（１）が、前記光軸に沿って方向付けられた第１の開口絞り及びセンサ装置（１．１）と前記光軸に対して角度（β）を形成するように方向付けられた第１の開口絞り及びセンサ装置（１．２）とを有する、請求項５記載のＥＵＶ照明システム。
最小開口数を下回る立体角範囲では前記ＥＵＶ光源（３）から光を集光しない集光器（５）を備え、更に、
前記ＥＵＶ光源（３）を観察する少なくとも一つの開口絞り及びセンサ装置（１）が前記最小開口を下回る未使用の立体角範囲に位置する、請求項１から請求項６迄の何れかに記載のＥＵＶ照明システム。
少なくとも一つの開口絞り及びセンサ装置（１）が前記ＥＵＶ光源（３）からの光を集光器鏡の通過開口（５．２）によって受光する、請求項１から請求項７迄の何れかに記載のＥＵＶ照明システム。
集光器鏡の通過開口（５．２）は、前記開口絞り及びセンサ装置の開口絞り開口（２．１）として機能する、請求項８記載のＥＵＶ照明システム。
集光器（５）を備え、少なくとも一つの開口絞り及びセンサ装置（１）が前記ＥＵＶ光源（３）を観察し、更に、結像光の光束が前記集光器（５）の鏡面（３８）で少なくとも一回反射する、請求項１から請求項９迄の何れかに記載のＥＵＶ照明システム。
前記ＥＵＶ光源（３）の中間像（７）を観察する開口絞り及びセンサ装置（１）が光軸（１１）に沿って方向付けられている、請求項１から請求項３迄の何れかに記載のＥＵＶ照明システム。
前記ＥＵＶ光源（３）の中間像（７）を観察する少なくとも一つの開口絞り及びセンサ装置（１）が光軸（１１）に対して角度（β）を形成するように方向付けられている、請求項１から請求項４までの何れかに記載のＥＵＶ照明システム。
少なくとも二つの開口絞り及びセンサ装置（１．１、１．２）が前記ＥＵＶ光源（３）の中間像（７）を異なる方向から観察する、請求項３記載のＥＵＶ照明システム。
少なくとも一つの開口絞り及びセンサ装置（１．１）が前記ＥＵＶ光源（３）を観察し、少なくとも一つの更なる開口絞り及びセンサ装置が（１．２）が前記ＥＵＶ光源（３）の中間像（７）を観察する、請求項３記載のＥＵＶ照明システム。
前記ＥＵＶ照明システムは、前記ＥＵＶ光源（３）の第１の中間像（７．１）と第２の中間像（７．２）を生成し、
少なくとも一つの開口絞り及びセンサ装置（１．１）が前記第１の中間像（７．１）を観察し、
少なくとも一つの更なる開口絞り及びセンサ装置（１．２）が前記第２の中間像（７．２）を観察する、請求項３記載のＥＵＶ照明システム。
前記開口絞り及びセンサ装置（１）が、ＥＵＶ範囲の波長の外側の不要な波長を除去するように機能するスペクトルフィルタ要素（２．２）を有する、請求項１から請求項１５迄の何れかに記載のＥＵＶ照明システム。
前記スペクトルフィルタ要素（２．２）がホイル（ｆｏｉｌ）フィルタである、請求項１６記載のＥＵＶ照明システム。
前記ホイルフィルタがジルコニウムを含有する、請求項１７記載のＥＵＶ照明システム。
前記スペクトルフィルタ要素（２．２）がスペクトル格子フィルタ又は多層鏡を含む、請求項１６記載のＥＵＶ照明システム。
前記開口絞り及びセンサ装置が荷電粒子を偏向する装置を有する、請求項１から請求項１９迄の何れかに記載のＥＵＶ照明システム。
前記開口絞り及びセンサ装置（１）が、単一のセンサフィールド、又は、列又は行列の形状に配置された複数のセンサフィールドを有する、好ましくは四分円検出器として構成される、ＥＵＶ位置センサ（２．３）を含む、請求項１から請求項２０迄の何れかに記載のＥＵＶ照明システム。
前記ＥＵＶ位置センサ（２．３）のセンサフィールドが、ＥＵＶ感応ダイオード又は蛍光スクリーンとカメラの組み合わせ、又は多チャンネルプレートを含む、請求項２１記載のＥＵＶ照明システム。
前記ＥＵＶ位置センサ（２．３）が、放射される光電子又は光電流に基づいて入射するＥＵＶ照明の重心を決定するセンサフィールドを含む、請求項２１記載のＥＵＶ照明システム。
前記開口絞り及びセンサ装置が、開口絞り開口（２．１）とＥＵＶ位置センサ（２．３）の間の光束を偏光する反射光学部材を有する、請求項１、請求項１４から請求項１９迄の何れかに記載のＥＵＶ照明システム。
異なる視野方向から同一の光源（３）又は光源（３）の同一の中間像を観察する少なくとも二つの開口絞り及びセンサ装置（１）が一体の装置として構成され、開口絞り（２．１）とＥＵＶ位置センサ（２．３）が開口絞り及びセンサ装置（２．１）の各々に専用である、請求項１から請求項２４迄の何れかに記載のＥＵＶ照明システム。
前記一体の装置の個々の開口絞り及び位置センサ装置（１）のＥＵＶ位置センサが隣接する、請求項２５記載のＥＵＶ照明システム。
前記ＥＵＶ光源（３）がプラズマ光源である、請求項１から請求項２６迄の何れかに記載のＥＵＶ照明システム。
集光器（５）と、
集光器の光学素子、又は該集光器の光学素子に続く反射光学部材の動き又は変形を捕捉する測定システムを備えた、請求項１から請求項２７迄の何れかに記載のＥＵＶ照明システム。
請求項１から請求項２８迄の何れかに記載の照明システムと、マスクと、投影対物光学系（２６）と、担持システムに搭載した感光性物体、特にウェーハと、を備えたマイクロリソグラフィー用投影露光装置。
請求項２９記載の投影露光装置を用いて、マイクロ電子部品、特に、半導体チップを製造する方法。