JP2009510781A - ラスターパターン生成器における配置効果補正 - Google Patents
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Abstract
【選択図】 図5
Description
[0001]本発明の実施形態は概して、基板上にパターンを形成するためのパターン生成システムおよびこのようなシステムによって使用される方法に関し、より具体的には電子ビームパターン生成システムに関する。
[0002]任意の隣接ポイントの暴露によりイメージされたパターン内のポイントの暴露に対する効果は近接効果と呼ばれることもある。例えば、電子光学暴露の制限解像度や固有レジスト解像度、レジスト層における電子散乱、およびレジスト層がある基板からの電子後方散乱は、特定のポイントに送出される暴露用量分布のぼやけ(blurring)をもたらすことがある。結果として、具体的なポイントに送出されるように設計されている暴露用量の一部は、実際は隣接ポイントに送出される。加えて、特定のポイントにおけるレジスト層の暴露は、隣接ポイントの外側に分散する恐れのあるレジストの局所的加熱をもたらすことがある。この結果は、隣接する近接ポイントでの修正レジスト感度になる。これらの効果は臨界寸法効果と称されることもある。
Claims (21)
- 前記変位ベクトルを使用して前記フラッシュの位置決めを修正するステップが、前記変位ベクトルと反対方向に前記フラッシュを変位させる工程を備える、請求項1に記載の方法。
- 変位ベクトルがランタイム時に算出される、請求項1に記載の方法。
- 前記Poissonカーネルが減衰定数を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記用量補正乗数が噴霧散乱効果、後方散乱効果および高速二次散乱効果を考慮している、請求項1に記載の方法。
- 前記用量補正乗数が、前記用量補正乗数の噴霧散乱部分をまず算出することによって算出される、請求項1に記載の方法。
- 前記噴霧散乱部分を算出するステップが、前記噴霧散乱効果を考慮するように構成されている第1のグリッドに対して、前記後方散乱効果を考慮するように構成されている第2のグリッドに対して、また前記高速二次散乱効果を考慮するように構成されている第3のグリッドに対してパターンをサンプリングする工程を備える、請求項6に記載の方法。
- 前記噴霧散乱部分を算出するステップがさらに、
(a)前記第1のグリッド、前記第2のグリッドおよび前記第3のグリッドに前記用量補正乗数を圧縮する工程と、
(b)前記第1のグリッドに圧縮された前記用量補正乗数に前記第1のグリッドにサンプリングされた前記パターンを乗算して、前記結果を、
(c)前記圧縮噴霧散乱部分を拡張して前記噴霧散乱部分を生成する工程と、
(d)前記第2のグリッドに圧縮された前記用量補正乗数に前記第2のグリッドにサンプリングされた前記パターンを乗算して、前記結果を
(e)前記圧縮後方散乱部分を拡張して前記後方散乱部分を生成する工程と、
(f)前記第3のグリッドに圧縮された前記用量補正乗数に前記第3のグリッドにサンプリングされた前記パターンを乗算して、前記結果を
(g)前記圧縮高速二次散乱部分を拡張して前記高速二次散乱部分を生成する工程と、
(h)
を備える、請求項7に記載の方法。 - 前記用量補正乗数の変化が所定の値に収束するまでステップ(a)〜(h)が反復される、請求項8に記載の方法。
- 最後の用量補正乗数を算出するのに使用される前記圧縮噴霧散乱部分が収束ポイントで保存される、請求項9に記載の方法。
- 前記圧縮噴霧散乱部分を拡張するステップが、前記圧縮噴霧散乱部分を共通のスケールグリッドに拡張する工程を備える、請求項8に記載の方法。
- 前記圧縮噴霧散乱部分が補間アルゴリズムを使用して拡張される、請求項8に記載の方法。
- 前記圧縮後方散乱部分を拡張するステップが、前記圧縮後方散乱部分を共通のスケールグリッドに拡張する工程を備える、請求項8に記載の方法。
- 前記圧縮後方散乱部分が補間アルゴリズムを使用して拡張される、請求項8に記載の方法。
- レジスト感度の前記補正が、レジスト加熱の補正、マップ型欠陥の補正、および時間依存欠陥に対する補正のうちの少なくとも1つを備える、請求項8に記載の方法。
- 前記用量補正乗数を算出するステップが、前記パターンを前記第2のグリッドおよび前記第3のグリッドに圧縮する工程を備える、請求項8に記載の方法。
- 前記用量補正乗数を算出するステップがさらに、
(i)前記用量補正乗数を前記第2のグリッドおよび前記第3のグリッドに圧縮する工程と、
(j)前記保存されている圧縮噴霧散乱部分を拡張して前記噴霧散乱部分を生成する工程と、
(k)前記第2のグリッドに圧縮された前記用量補正乗数に前記第2のグリッドに圧縮された前記パターンを乗算して、前記結果を
(l)圧縮後方散乱部分を拡張して前記後方散乱部分を生成する工程と、
(m)前記第3のグリッドに圧縮された前記用量補正乗数に前記第3のグリッドに圧縮された前記パターンを乗算して、前記結果を
(n)前記圧縮高速二次散乱部分を拡張して前記高速二次散乱部分を生成する工程と、
(o)
を備える、請求項8に記載の方法。 - 前記用量補正乗数の変化が所定の値に収束するまでステップ(i)〜(o)が反復される、請求項17に記載の方法。
- 最後の反復での前記用量補正乗数が前記フラッシュを生成するのに使用される、請求項18に記載の方法。
- 前記用量補正乗数を使用して前記フラッシュを生成するステップが、前記最後の反復での前記用量補正乗数をフラッシュ生成器に送る工程を備える、請求項18に記載の方法。
- 前記最後の反復での前記用量補正乗数が前記フラッシュ滞留時間を変調するのに使用される、請求項18に記載の方法。
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