JPH0945602A - 電子線描画装置 - Google Patents

電子線描画装置

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JPH0945602A
JPH0945602A JP7191783A JP19178395A JPH0945602A JP H0945602 A JPH0945602 A JP H0945602A JP 7191783 A JP7191783 A JP 7191783A JP 19178395 A JP19178395 A JP 19178395A JP H0945602 A JPH0945602 A JP H0945602A
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JP
Japan
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electron beam
irradiation
irradiation amount
output signal
drawing apparatus
Prior art date
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Pending
Application number
JP7191783A
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English (en)
Inventor
Chikao Tomiyoshi
力生 冨吉
Hiroyuki Ito
博之 伊藤
Haruo Yoda
晴夫 依田
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Hitachi Instruments Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Instruments Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 描画動作中におけるビームドリフトをも補正
可能で、描画精度が向上された電子線描画装置を実現す
る。 【構成】 横寸法設定部11W及び縦寸法設定部11Hのデー
タを乗算器15で乗算し照射電子ビームの面積を求め乗算
器16に供給し照射時間設定部11Tの照射時間データと乗
算し試料8の電子ビーム照射量を求める。乗算器16の出
力信号をビームドリフト補正回路18に供給し描画中に加
算して補正計算を行う。補正回路18で算出された△ｘ
（ｔ）を示すデータを加算器19xに供給しデータ算出部1
1Xの出力データに加算しＤ／Ａコンバータ12x、アンプ1
3xを介し位置偏向器7に供給する。補正回路18で算出し
た△ｙ（ｔ）を示すデータを加算器19Yに供給しデータ
算出部11Yの出力データに加算しＤ／Ａコンバータ12Y、
アンプ13Yを介し位置偏向器7に供給する。位置偏向器7
は電子ビームの照射量に伴い電子ビームの照射位置を補
正する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビームを用いて半
導体素子あるいは半導体素子製造に用いるマスクプレー
トを製造する電子線描画装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子ビームを使用する電子線描画装置で
は、この装置本体内部の絶縁物質等へのチャージアッ
プ、あるいは電子線を発生するチップの経時変化等によ
り、ビームドリフトと呼ばれる現象が発生し、それが試
料上の描画位置変動となり精度劣化の要因となつてい
る。
【０００３】このビームドリフトによる影響を回避する
ための手法として、試料上、又は試料移動台上に、電子
ビーム走査では変形しない物質を用意し、電子ビーム走
査による反射電子、２次電子波形等を信号処理して、予
め絶対座標を求めておく。そして、定期的に、電子ビー
ム操作による上記物質の座標算出操作を繰返し、初期値
からのずれ量をビームドリフト量として電子ビーム偏向
データにフィードバックして描画位置ずれを防ぐ方法を
使用している。
【０００４】上述したビームドリフトを補正する電子線
描画装置としては、例えば、特開平５−８２４２６号公
報に記載されたものがある。この公報記載の電子線描画
装置においては、試料台上の基準マーク検出による複数
の位置ドリフト値を用いて、電子ビーム位置のドリフト
特性値式を算出し、電子ビームの偏向信号を補正するよ
うに構成されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したビ
ームドリフトの原因である、絶縁物質等へのチャージア
ップの量は、電子ビームの照射量により変動すると考え
られる。つまり、電子ビーム面積を広げて描画する間に
は、絶縁物質等に次第にチャージアップして行き、電子
ビーム面積を狭めて描画する間には、あるいは試料の交
換等により電子ビームを一時カットしている描画準備期
間には、ディスチャージすると考えられる。このため、
描画中には、電子ビームの照射量の変動により、ビーム
ドリフト値も変動する。
【０００６】しかしながら、上述した公報記載の電子線
描画装置においては、電子ビームの照射量変動によるビ
ームドリフト値の変動を考慮していないため、長期的な
変動に対しては補正可能ではあっても、描画動作中のお
ける電子ビームの照射量変動に追従することはできず、
ビームドリフトを高精度に補正することができなかっ
た。
【０００７】本発明の目的は、描画動作中におけるビー
ムドリフトをも補正可能で、描画精度が向上された電子
線描画装置を実現することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、次のように構成される。電子銃から発生し
た電子ビームを、成形偏向器により所望の形状に成形
し、成形した電子ビームを 位置偏向指令手段からの信
号に基づき、位置偏向器により固体表面上の所望の位置
に、所望の時間、照射し、描画する電子線描画装置にお
いて、固体表面上に照射される電子ビームの照射量を所
定の照射単位毎に算出する照射量算出手段と、照射量算
出手段により算出された照射量を、一定時間毎に累積加
算し、この累積加算した照射量に応じた照射位置補正値
を算出する照射位置補正手段と、照射位置補正手段によ
り算出された補正値を、位置偏向指令手段からの信号に
加算する加算手段とを備える。
【０００９】好ましくは、上記電子線描画装置におい
て、照射位置補正手段は、照射量算出手段により算出さ
れた照射量を示す関数と、所定の遅延成分を示す関数と
の畳み込みであり、電子ビームの照射量と照射位置ずれ
との関係から予め算出された係数を有する畳み込み演算
により照射位置補正値を算出する。
【００１０】また、好ましくは、上記電子線描画装置に
おいて、照射量算出手段の出力信号と、照射位置補正手
段の出力信号と、位置偏向指令手段の出力信号とはディ
ジタル信号であり、加算手段は、照射位置補正手段から
のディジタル出力信号と、位置偏向指令手段からのディ
ジタル出力信号とを加算し、加算されたディジタル信号
が、ディジタル／アナログ変換器によりアナログ信号に
変換され、位置偏向器に供給される。
【００１１】また、好ましくは、上記電子線描画装置に
おいて、照射量算出手段の出力信号と、照射位置補正手
段の出力信号と、位置偏向指令手段の出力信号とはディ
ジタル信号であり、照射位置補正手段からのディジタル
出力信号と、位置偏向指令手段からのディジタル出力信
号とは、ディジタル／アナログ変換器によりアナログ信
号に変換され、アナログ信号に変換された照射位置補正
手段の出力信号と、位置偏向指令手段の出力信号とが、
加算手段により加算され、位置偏向器に供給される。
【００１２】また、電子銃から発生した電子ビームを、
成形偏向器により所望の形状に成形し、成形した電子ビ
ームを 位置偏向指令手段からの信号に基づき、位置偏
向器により固体表面上の所望の位置に、所望の時間、照
射し、描画する電子線描画装置において、固体表面上に
照射される電子ビームの照射量を所定の照射単位毎に算
出する照射量算出手段と、照射量算出手段により算出さ
れた照射量を、一定時間毎に累積加算し、この累積加算
した照射量に応じた照射位置補正値を算出する照射位置
補正手段と、位置偏向器の近傍に配置され、照射位置補
正手段により算出された補正値に基づき、電子ビームの
照射位置を補正する位置偏向補正手段とを備える。
【００１３】好ましくは、上記電子線描画装置におい
て、照射位置補正手段は、照射量算出手段により算出さ
れた照射量を示す関数と、所定の遅延成分を示す関数と
の畳み込みであり、電子ビームの照射量と照射位置ずれ
との関係から予め算出された係数を有する畳み込み演算
により照射位置補正値を算出する。
【００１４】また、電子銃から発生した電子ビームを、
成形偏向器により所望の形状に成形し、成形した電子ビ
ームを 位置偏向指令手段からの信号に基づき、位置偏
向器により固体表面上の所望の位置に、所望の時間、照
射し、描画する電子線描画装置において、固体表面上に
照射される電子ビームの照射量を所定の照射単位毎に算
出する照射量算出手段と、電子ビームの照射位置毎に、
照射量に応じた照射位置補正データを記憶し、照射量算
出手段からの出力信号と、位置偏向指令手段からの信号
とに基づき、照射位置補正値を出力する照射量メモリ
と、照射量メモリから出力された補正値を、位置偏向指
令手段からの信号に加算する加算手段とを備える。
【００１５】
【作用】電子ビーム成形用の成形偏向器に設定するビー
ム寸法縦、横データを乗算して面積を求め、さらに照射
した時間のデータを乗算して電子ビーム照射量が、照射
量算出手段により算出される。算出された照射量は、照
射位置算出手段により、一定時間毎に、累積加算され、
累積加算された照射量から照射位置補正値が算出され
る。算出された補正値は、位置偏向指令手段からの信号
に加算され、照射位置の補正が実行される。
【００１６】また、位置偏向器の近傍に位置偏向補正手
段が配置される場合には、照射位置補正手段により算出
された補正値を示す信号が位置偏向補正手段に供給され
る。これにより、電子ビームの照射量に応じた照射位置
の補正が行われる。また、電子ビームの照射位置毎に、
照射量に応じた照射位置補正データを記憶する照射量メ
モリが配置される場合には、照射量メモリから出力され
た補正値が加算手段により、位置偏向指令手段からの信
号に加算される。これにより、電子ビームの照射量に応
じた照射位置の補正が行われる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。図１は、本発明の第１の実施例の全体概略構
成図である。図１において、高真空に保たれた真空容器
１内部の電子銃２から放射された電子ビーム３は、２個
の成形絞り４と、これら２個の成形絞り４の間に配置さ
れ、縦、横方向のビーム寸法を決める成形偏向器５とに
よって任意の矩形に成形される。
【００１８】成形された電子ビームは、縮小レンズ６に
より試料面上（固体表面上）で結像するように縮小さ
れ、位置偏向器７により試料８上の所望の位置に照射さ
れる。また、照射位置を更新する際、試料８上へ電子ビ
ームが当らないように電子ビームを一時切断するブラン
カ９を備える。
【００１９】一方、試料８上に描画するデータは、予め
電子線描画装置用のパターンデータに加工して制御用計
算機１０からデータ制御系１１に転送する。データ制御
系１１では、このパターンデータを基に、１回の電子ビ
ームで照射可能な図形に分解し、横寸法設定部１１W及
び縦寸法設定部１１HからＤ／Ａコンバータ１２W、１２
H、アンプリファイヤ１３W、１３Hを介して成形偏向器
５に制御信号が供給される。また、ｘ方向位置偏向デー
タ算出部（位置偏向指令手段）１１X及びｙ方向位置偏
向データ算出部（位置偏向指令手段）１１Yからのデー
タは、後述するデータが加算された後、Ｄ／Ａコンバー
タ１２X、１２ｙY、アンプリファイヤ１３X、１３Yを介
して位置偏向器７に制御信号が供給され、電子ビームが
制御される。
【００２０】また、照射時間算出部１１Tにより算出さ
れた照射時間データは、照射時間制御回路１７からアン
プリファイヤ１３Tを介してブランカ９に供給される。
そして、描画データから最適時間の電子ビームが試料８
に照射されるようにブランカ９のＯＮ／ＯＦＦ時間がコ
ントロールされる。この試料８への照射は、これら偏向
器等により順次実行して行き、位置偏向器７によって位
置決めできない範囲は、試料移動台１４の位置を変えて
描画を続ける。
【００２１】試料移動台１４上には、予め形状、位置の
わかっている標準マークなどを備え、電子ビームの偏向
による偏向歪量の計測、電子ビーム成形寸法の測定、ビ
ームドリフト補正を目的として電子ビームの絶対位置測
定等に使用する。このうち、電子ビームの絶対位置測定
は、長時間の装置使用による電子銃２の状態変化等によ
り、偏向器５による偏向位置と電子ビームの照射位置に
ずれが発生してくる、いわゆるビームドリフトを補正す
るために実施される。つまり、定期的に標準マークの走
査による２次電子、反射電子、透過電子等の波形を信号
処理して位置ずれ量を求める。そして、求めた位置ずれ
量は、位置偏向器７のオフセットとして補正すること
で、描画に発生するずれを軽減する。
【００２２】成形偏向器５に設定するデータは、上述の
ように、制御用計算機１０から送られた描画データをも
とにデータ制御系１１が算出する。このとき、縦、横の
偏向器５への設定値、つまり、横寸法設定部１１Wから
の横寸法データと縦寸法設定部１１Hからの縦寸法デー
タとを乗算器１５で乗算し照射する電子ビームの面積を
求める。
【００２３】乗算器１５からの出力信号は、乗算器１６
に供給され、照射時間設定部１１Tからの照射時間デー
タと乗算される。そして、この乗算器１６において、１
回で試料８面に照射する電子ビーム照射量を求める。乗
算器１６からの出力信号は、ビームドリフト補正回路１
８に供給される。この補正回路１８は、マイクロ・コン
ピュータやデジタル・シグナル・プロセッサ等の演算機
能を持つ素子を有し、乗算器１６からの出力を、描画中
に順次加算する。そして、予め、実験、測定で得た照射
総量とビーム照射位置ずれの関係から求めた定数が、制
御用計算機１０から供給されており、これら定数を用い
た補正式（１）及び（２）にて補正計算を実施する。
【００２４】
【数１】
【００２５】
【数２】
【００２６】ただし、ｋ1、ｋ2、ａ1、ａ2、ｂ1、ｂ2、
Ｔ1、Ｔ2、Ｔ3、Ｔ4は上記定数であり、ｆ（ｔ）は、時
刻ｔにおける単位時間当りの照射量を示す式である。ま
た、上記補正式（１）及び（２）は、上記照射量ｆ
（ｔ）と、２つの遅延成分との畳み込み演算を示す。こ
れは、電子ビームによる絶縁物質等へのチャージアップ
は、遅延時間を伴うと考えられるからである。遅延成分
は、１つでもよいが、ここでは、２つの遅延成分がある
として補正式（１）及び（２）を設定してある。
【００２７】ビームドリフト補正回路１８により補正式
（１）で算出された△ｘ（ｔ）を示すデータは加算器１
９xに供給され、ｘ方向位置偏向データ算出部１１Xから
の出力データに加算される。そして、この加算されたデ
ータは、Ｄ／Ａコンバータ１２x及びアンプリファイヤ
１３xを介して位置偏向器７に供給される。
【００２８】また、ビームドリフト補正回路１８により
補正式（２）で算出された△ｙ（ｔ）を示すデータは加
算器１９Yに供給され、ｙ方向位置偏向データ算出部１
１Yからの出力データに加算される。そして、この加算
されたデータは、Ｄ／Ａコンバータ１２Y及びアンプリ
ファイヤ１３Yを介して位置偏向器７に供給される。そ
して、位置偏向器７により電子ビームの照射量に伴っ
て、電子ビームの照射位置が補正される。
【００２９】以上のように、本発明の第１の実施例によ
れば、電子ビームの照射量を算出し、算出した電子ビー
ムの照射量に応じて、電子ビームの照射位置補正を実施
するように構成したので、描画動作中におけるビームド
リフトをも補正可能で、描画精度が向上された電子線描
画装置を実現することができる。
【００３０】なお、本実施例はビームドリフト量をデジ
タル演算にて算出する手法を示したが、アナログ回路部
品の組合せにて上記補正式（１）及び（２）を実現する
こともできる。
【００３１】図２は、本発明の第２の実施例の全体概略
構成図であり、図１の例と同等な部分には、同一の符号
を付してある。この図２の例と図１の例との相違点は、
ビームドリフト補正回路１８、ｘ方向位置偏向データ算
出部１１X及びｙ方向位置偏向データ算出部１１Yからの
出力信号を、先にＤ／Ａコンバータによりアナログ信号
に変換し、アナログ信号の状態で、加算するところであ
る。
【００３２】つまり、ビームドリフト補正回路１８から
の△ｘ（ｔ）を示す信号は、Ｄ／Ａコンバータ１２BXを
介して加算器２２xに供給される。また、ｘ方向位置偏
向データ算出部１１Xからの出力信号は、Ｄ／Ａコンバ
ータ１２Xを介して加算器２２xに供給され、上記△ｘ
（ｔ）を示す信号と加算される。
【００３３】そして、加算器２２xからの出力信号は、
アンプリファイヤ１３Xを介して位置偏向器７に供給さ
れる。
【００３４】ビームドリフト補正回路１８からの△ｙ
（ｔ）を示す信号は、Ｄ／Ａコンバータ１２BYを介して
加算器２２Yに供給される。また、ｙ方向位置偏向デー
タ算出部１１Yからの出力信号は、Ｄ／Ａコンバータ１
２Yを介して加算器２２Yに供給され、上記△ｙ（ｔ）を
示す信号と加算される。 そして、加算器２２Yからの
出力信号は、アンプリファイヤ１３Yを介して位置偏向
器７に供給される。この図２の例においても、電子ビー
ムの照射量を算出し、算出した電子ビームの照射量に応
じて、電子ビームの照射位置補正を実施するように構成
したので、図１の例と同様な効果を得ることができる。
【００３５】図３は、本発明の第３の実施例の全体概略
構成図であり、図１の例と同等な部分には、同一の符号
を付してある。この図３の例と図１の例との相違点は、
縮小レンズ６と位置偏向器７との間に補正偏向器２０を
Ｘ方向用及びＹ方向用にそれぞれ、独立して１組づつ配
置し、ビームドリフト補正回路１８で算出したデータに
基づいて、補正偏向器２０により電子ビームを補正する
ところである。
【００３６】つまり、ビームドリフト補正回路により算
出された△ｘ（ｔ）を示すデータは、Ｄ／Ａコンバータ
１２BX及びアンプリファイア１３BXを介して補正偏向器
２０の１組に供給される。また、ビームドリフト補正回
路により算出された△ｙ（ｔ）を示すデータは、Ｄ／Ａ
コンバータ１２BY及びアンプリファイア１３BYを介して
補正偏向器２０の他の組に供給される。
【００３７】また、ｘ方向位置偏向データ算出部１１X
からの出力信号は、Ｄ／Ａコンバータ１２X及びアンプ
リファイヤ１３Xを介して位置偏向器７に供給される。
【００３８】また、ｙ方向位置偏向データ算出部１１Y
からの出力信号は、Ｄ／Ａコンバータ１２Y及びアンプ
リファイヤ１３Yを介して位置偏向器７に供給される。
【００３９】この図３の例においても、電子ビームの照
射量を算出し、算出した電子ビームの照射量に応じて、
電子ビームの照射位置補正を実施するように構成したの
で、図１の例と同様な効果を得ることができる。
【００４０】図４は、本発明の第４の実施例の全体概略
構成図であり、図１の例と同等な部分には、同一の符号
を付してある。この図３の例と図１の例との相違点は、
ビームドリフト補正回路１８の代えて照射量メモリ２１
を配置したところである。
【００４１】つまり、乗算器１６からの出力信号と、ｘ
方向位置偏向データ算出部１１Xからの出力信号と、ｙ
方向位置偏向データ算出部１１Yからの出力信号とが供
給される。そして、照射量メモリ２１からのｘ方向補正
データが、加算器１９xに供給され、ｘ方向位置偏向デ
ータ算出部１１Xからの出力信号に加算される。この加
算されたデータは、Ｄ／Ａコンバータ１２x及びアンプ
リファイヤ１３xを介して位置偏向器７に供給される。
【００４２】また、照射量メモリ２１からのｙ方向補正
データが、加算器１９Yに供給され、ｙ方向位置偏向デ
ータ算出部１１Yからの出力信号に加算される。そし
て、この加算されたデータは、Ｄ／Ａコンバータ１２Y
及びアンプリファイヤ１３Yを介して位置偏向器７に供
給される。
【００４３】照射量メモリ２１には、描画に先立ち、一
定の範囲毎の電子ビーム照射量を求め、照射位置毎に、
照射量に応じた照射位置補正値を記憶させる。つまり、
描画するパターンを一定サイズのメッシュで分割し、照
射する電子線ビームの原点がどのエリアに含まれるかを
総て計算しておくことで、描画パターンの各描画位置で
の照射量が求められる。その計算をするために描画に先
立ちダミーの描画を実施して、乗算器１６からの照射量
データと、ｘｙ方向位置偏向データとから、各描画位置
での照射量計算値を照射量メモリ２１に格納していく。
【００４４】照射量メモリ２１にデータが格納された
ら、描画順序を考慮して電子ビーム照射累積値を計算す
る。描画位置における必要な補正量を求めることができ
るので、実際の描画実施時に描画データに位置の補正と
してその補正データを加える。つまり、照射量メモリ２
１からの出力信号を加算器１９X及び１９Yに供給し、ｘ
方向位置偏向データ算出部１１Xからの出力信号及びｙ
方向位置偏向データ算出部１１Yからの出力信号に加算
される。
【００４５】通常、電子線描画装置には、位置偏向によ
り生じる歪を補正する機能が備えられている。その部分
に本補正を反映すれば、装置に新たに補正回路を備える
必要はない。
【００４６】この図４の例においても、電子ビームの照
射量を算出し、算出した電子ビームの照射量に応じて、
電子ビームの照射位置補正を実施するように構成したの
で、図１の例と同様な効果を得ることができる。
【００４７】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているため、次のような効果がある。電子線描画装置に
おいて、電子ビームの照射量を算出し、算出した電子ビ
ームの照射量に応じて、電子ビームの照射位置補正を実
施するように構成したので、描画動作中におけるビーム
ドリフトをも補正可能で、描画精度が向上された電子線
描画装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例であり、試料面への電子
ビーム照射量に応じて照射位置を補正する機能（補正量
デジタル加算方式）を有する電子線描画装置の概略構成
図である。
【図２】本発明の第２の実施例であり、試料面への電子
ビーム照射量に応じて照射位置を補正する機能（補正量
アナログ加算方式）を有する電子線描画装置の概略構成
図である。
【図３】本発明の第３の実施例であり、試料面への電子
ビーム照射量に応じて照射位置を補正する機能（補正量
偏向信号加算方式）を有する電子線描画装置の概略構成
図である。
【図４】本発明の第４の実施例であり、試料面への電子
ビーム照射量に応じて照射位置を補正する機能（照射量
メモリによる方式）を有する電子線描画装置の概略構成
図である。
【符号の説明】
１ 真空容器 ２ 電子銃 ３ 電子線 ４ 成形絞り ５ 成形偏向器 ６ 縮小レンズ ７ 位置偏向器 ８ 試料 ９ ブランカ １０ 制御用計算機 １１ データ制御系 １１H 縦寸法設定部 １１T 照射時間算出部 １１W 横方向寸法算出部 １１X ｘ方向位置偏向データ算出部 １１Y ｙ方向位置偏向データ算出部 １２BX、１２BY Ｄ／Ａコンバータ １２H、１２X Ｄ／Ａコンバータ １２Y、１２W Ｄ／Ａコンバータ １３BX、１３BY アンプリファイヤ １３H、１３T アンプリファイヤ １３X、１３Y アンプリファイヤ １３W アンプリファイヤ １４ 試料移動台 １５、１６ 乗算器 １７ 照射時間制御回路 １８ ビームドリフト補正回路 １９X、１９Y 加算器 ２０ 補正偏向器 ２１ 照射量メモリ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 博之 茨城県ひたちなか市市毛882番地 株式会 社日立製作所計測器事業部内 (72)発明者 依田 晴夫 茨城県ひたちなか市市毛882番地 株式会 社日立製作所計測器事業部内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 電子銃から発生した電子ビームを、成形
    偏向器により所望の形状に成形し、成形した電子ビーム
    を 位置偏向指令手段からの信号に基づき、位置偏向器
    により固体表面上の所望の位置に、所望の時間、照射
    し、描画する電子線描画装置において、 固体表面上に照射される電子ビームの照射量を所定の照
    射単位毎に算出する照射量算出手段と、 上記照射量算出手段により算出された照射量を、一定時
    間毎に累積加算し、この累積加算した照射量に応じた照
    射位置補正値を算出する照射位置補正手段と、 上記照射位置補正手段により算出された補正値を、上記
    位置偏向指令手段からの信号に加算する加算手段と、 を備えることを特徴とする電子線描画装置。
  2. 【請求項２】 請求項１記載の電子線描画装置におい
    て、上記照射位置補正手段は、照射量算出手段により算
    出された照射量を示す関数と、所定の遅延成分を示す関
    数との畳み込みであり、電子ビームの照射量と照射位置
    ずれとの関係から予め算出された係数を有する畳み込み
    演算により照射位置補正値を算出することを特徴とする
    電子線描画装置。
  3. 【請求項３】 請求項１又は２記載の電子線描画装置に
    おいて、照射量算出手段の出力信号と、照射位置補正手
    段の出力信号と、位置偏向指令手段の出力信号とはディ
    ジタル信号であり、上記加算手段は、照射位置補正手段
    からのディジタル出力信号と、位置偏向指令手段からの
    ディジタル出力信号とを加算し、加算されたディジタル
    信号が、ディジタル／アナログ変換器によりアナログ信
    号に変換され、位置偏向器に供給されることを特徴とす
    る電子線描画装置。
  4. 【請求項４】 請求項１又は２記載の電子線描画装置に
    おいて、照射量算出手段の出力信号と、照射位置補正手
    段の出力信号と、位置偏向指令手段の出力信号とはディ
    ジタル信号であり、照射位置補正手段からのディジタル
    出力信号と、位置偏向指令手段からのディジタル出力信
    号とは、ディジタル／アナログ変換器によりアナログ信
    号に変換され、アナログ信号に変換された照射位置補正
    手段の出力信号と、位置偏向指令手段の出力信号とが、
    上記加算手段により加算され、位置偏向器に供給される
    ことを特徴とする電子線描画装置。
  5. 【請求項５】 電子銃から発生した電子ビームを、成形
    偏向器により所望の形状に成形し、成形した電子ビーム
    を 位置偏向指令手段からの信号に基づき、位置偏向器
    により固体表面上の所望の位置に、所望の時間、照射
    し、描画する電子線描画装置において、 固体表面上に照射される電子ビームの照射量を所定の照
    射単位毎に算出する照射量算出手段と、 上記照射量算出手段により算出された照射量を、一定時
    間毎に累積加算し、この累積加算した照射量に応じた照
    射位置補正値を算出する照射位置補正手段と、 上記位置偏向器の近傍に配置され、照射位置補正手段に
    より算出された補正値に基づき、電子ビームの照射位置
    を補正する位置偏向補正手段と、 を備えることを特徴とする電子線描画装置。
  6. 【請求項６】 請求項５記載の電子線描画装置におい
    て、上記照射位置補正手段は、照射量算出手段により算
    出された照射量を示す関数と、所定の遅延成分を示す関
    数との畳み込みであり、電子ビームの照射量と照射位置
    ずれとの関係から予め算出された係数を有する畳み込み
    演算により照射位置補正値を算出することを特徴とする
    電子線描画装置。
  7. 【請求項７】 電子銃から発生した電子ビームを、成形
    偏向器により所望の形状に成形し、成形した電子ビーム
    を 位置偏向指令手段からの信号に基づき、位置偏向器
    により固体表面上の所望の位置に、所望の時間、照射
    し、描画する電子線描画装置において、 固体表面上に照射される電子ビームの照射量を所定の照
    射単位毎に算出する照射量算出手段と、 電子ビームの照射位置毎に、照射量に応じた照射位置補
    正データを記憶し、上記照射量算出手段からの出力信号
    と、位置偏向指令手段からの信号とに基づき、照射位置
    補正値を出力する照射量メモリと、 上記照射量メモリから出力された補正値を、上記位置偏
    向指令手段からの信号に加算する加算手段と、 を備えることを特徴とする電子線描画装置。
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