JP3245201B2 - 電子ビーム露光装置 - Google Patents
電子ビーム露光装置Info
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- JP3245201B2 JP3245201B2 JP32025391A JP32025391A JP3245201B2 JP 3245201 B2 JP3245201 B2 JP 3245201B2 JP 32025391 A JP32025391 A JP 32025391A JP 32025391 A JP32025391 A JP 32025391A JP 3245201 B2 JP3245201 B2 JP 3245201B2
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- deflection
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビーム露光装置に
係り、特に、ステージを連続的に移動させながら高精度
にパターンを描画する電子ビーム露光装置に関する。
係り、特に、ステージを連続的に移動させながら高精度
にパターンを描画する電子ビーム露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子ビーム露光装置として従来から知ら
れているものとして、ステップアンドリピートによる装
置と、ステージ連続移動による装置がある。ステージを
連続移動させてパターンを描画する装置の公知例とし
て、特開平１−１９９４２８号公報がある。
れているものとして、ステップアンドリピートによる装
置と、ステージ連続移動による装置がある。ステージを
連続移動させてパターンを描画する装置の公知例とし
て、特開平１−１９９４２８号公報がある。
【０００３】ステージを連続移動して描画する装置は、
ステージの動きをレーザ干渉計で検出し、描画制御計算
機（以下ＣＰＵという）から設定された目標位置との誤
差データを求め、ステージフィードバック用ＤＡ変換器
（以下、ステージフィードバックＤＡＣという）でアナ
ログ信号に変換し、描画副偏向データ用のＤＡ変換器
（以下、副偏向ＤＡＣという）の出力と加算して副偏向
電極に与え、ステージの移動に合わせてビームを偏向す
る方法がとられている。
ステージの動きをレーザ干渉計で検出し、描画制御計算
機（以下ＣＰＵという）から設定された目標位置との誤
差データを求め、ステージフィードバック用ＤＡ変換器
（以下、ステージフィードバックＤＡＣという）でアナ
ログ信号に変換し、描画副偏向データ用のＤＡ変換器
（以下、副偏向ＤＡＣという）の出力と加算して副偏向
電極に与え、ステージの移動に合わせてビームを偏向す
る方法がとられている。
【０００４】また、副偏向データとステージ誤差データ
の出力には副偏向電極の偏向歪補正を行なうために、そ
れぞれ偏向歪補正回路が設けられている。この二つの偏
向歪補正回路は、別の校正手段例えばマーク検出などに
よって歪補正の係数が求められ、積和演算回路によって
偏向歪補正を行なう。
の出力には副偏向電極の偏向歪補正を行なうために、そ
れぞれ偏向歪補正回路が設けられている。この二つの偏
向歪補正回路は、別の校正手段例えばマーク検出などに
よって歪補正の係数が求められ、積和演算回路によって
偏向歪補正を行なう。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の電子ビ
ーム露光装置では、副偏向ＤＡＣとステージフィードバ
ックＤＡＣの二つの出力を加算して副偏向電極に印加し
ているため、副偏向ＤＡＣとその周辺アナログ回路と、
ステージフィドバックＤＡＣとその周辺アナログ回路に
おいて、この二つの回路の間でゲインやオフセットの誤
差が生じ、高精度にビームを偏向することができないと
いう問題がある。
ーム露光装置では、副偏向ＤＡＣとステージフィードバ
ックＤＡＣの二つの出力を加算して副偏向電極に印加し
ているため、副偏向ＤＡＣとその周辺アナログ回路と、
ステージフィドバックＤＡＣとその周辺アナログ回路に
おいて、この二つの回路の間でゲインやオフセットの誤
差が生じ、高精度にビームを偏向することができないと
いう問題がある。
【０００６】前記二つの偏向歪補正回路は、各々の出力
の加算結果で偏向電極の回転補正や糸巻歪、台形歪など
複雑な歪を補正するものであるため、各補正回路の計算
式は密接な関係をもって構成されている。さらに、この
計算式は非線形の多項式であるため、偏向歪補正回路で
二つのＤＡＣ間に生じたゲインやオフセットの誤差を補
正することは困難である。
の加算結果で偏向電極の回転補正や糸巻歪、台形歪など
複雑な歪を補正するものであるため、各補正回路の計算
式は密接な関係をもって構成されている。さらに、この
計算式は非線形の多項式であるため、偏向歪補正回路で
二つのＤＡＣ間に生じたゲインやオフセットの誤差を補
正することは困難である。
【０００７】また、副偏向ＤＡＣとステージフィードバ
ックＤＡＣのゲインとオフセットをアナログ回路系の調
整によって精密に一致させることは非常に難しい作業で
あり、多大な調整時間を必要とする。もし、多大な時間
を要してゲイン、オフセットの調整が可能であったとし
ても、経時変化などによってゲインやオフセットが変化
するため、頻繁に調整を行わなくてはならず実用的では
ない。
ックＤＡＣのゲインとオフセットをアナログ回路系の調
整によって精密に一致させることは非常に難しい作業で
あり、多大な調整時間を必要とする。もし、多大な時間
を要してゲイン、オフセットの調整が可能であったとし
ても、経時変化などによってゲインやオフセットが変化
するため、頻繁に調整を行わなくてはならず実用的では
ない。
【０００８】本発明の目的は、副偏向ＤＡＣとステージ
フィドバックＤＡＣの出力を加算して電子ビームを偏向
する電子ビーム露光装置において、それそれのＤＡＣと
その周辺アナログ回路によるゲインとオフセットの誤差
を解消するための手段を提供することにある。
フィドバックＤＡＣの出力を加算して電子ビームを偏向
する電子ビーム露光装置において、それそれのＤＡＣと
その周辺アナログ回路によるゲインとオフセットの誤差
を解消するための手段を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の電子ビーム露光
装置は、上記問題点である二つのＤＡＣ間に生じるゲイ
ンとオフセットの誤差を解消するために、副偏向ＤＡＣ
とステージフィードバックＤＡＣのそれぞれの入力段ま
たはどちらか一方の入力段に、ゲイン調整とオフセット
調整を行うための手段として、積算回路と加算回路とで
構成したディジタル演算回路を設け、それぞれまたは一
方のゲインとオフセットの補正を行なう。また、副偏向
ＤＡＣとステージフィードバックＤＡＣのそれぞれまた
は一方のゲインとオフセット補正用のパラメータは、描
画装置を制御するＣＰＵ（以下、ＣＰＵという）によっ
て個別に設定する方法とする。
装置は、上記問題点である二つのＤＡＣ間に生じるゲイ
ンとオフセットの誤差を解消するために、副偏向ＤＡＣ
とステージフィードバックＤＡＣのそれぞれの入力段ま
たはどちらか一方の入力段に、ゲイン調整とオフセット
調整を行うための手段として、積算回路と加算回路とで
構成したディジタル演算回路を設け、それぞれまたは一
方のゲインとオフセットの補正を行なう。また、副偏向
ＤＡＣとステージフィードバックＤＡＣのそれぞれまた
は一方のゲインとオフセット補正用のパラメータは、描
画装置を制御するＣＰＵ（以下、ＣＰＵという）によっ
て個別に設定する方法とする。
【００１０】
【作用】本発明は、副偏向ＤＡＣの入力段とステージフ
ィードバックＤＡＣの入力段のそれぞれまたはどちらか
一方に、ＣＰＵのパラメータ設定によって演算を行なう
ゲイン／オフセット補正回路を設け、副偏向ＤＡＣとス
テージフィドバックＤＡＣのゲイン誤差およびオフセッ
ト誤差を補正することによって、高精度の電子ビーム描
画を実現する。
ィードバックＤＡＣの入力段のそれぞれまたはどちらか
一方に、ＣＰＵのパラメータ設定によって演算を行なう
ゲイン／オフセット補正回路を設け、副偏向ＤＡＣとス
テージフィドバックＤＡＣのゲイン誤差およびオフセッ
ト誤差を補正することによって、高精度の電子ビーム描
画を実現する。
【００１１】ゲイン、オフセット補正回路は、別の手段
（たとえばマーク検出手段やＤＡ変換器の校正手段）に
よって求められた副偏向ＤＡＣのゲインとオフセット、
およびステージフィドバックＤＡＣのゲインとオフセッ
トとを比較演算してそれぞれのゲインとオフセットが一
致するようなパラメータをＣＰＵによって設定すること
によって動作する。
（たとえばマーク検出手段やＤＡ変換器の校正手段）に
よって求められた副偏向ＤＡＣのゲインとオフセット、
およびステージフィドバックＤＡＣのゲインとオフセッ
トとを比較演算してそれぞれのゲインとオフセットが一
致するようなパラメータをＣＰＵによって設定すること
によって動作する。
【００１２】本発明の動作を図１を用いて説明する。図
１は副偏向ＤＡＣ１６とステージフィードバックＤＡＣ
１７の両方についてゲイン、オフセット補正を行なう回
路である。副偏向電極に与えられる描画データは、偏向
歪補正回路５を通り掛け算回路と加算回路から構成され
たゲイン／オフセット補正回路６に入力する。このゲイ
ン／オフセット補正回路は、ＣＰＵで設定されたパラメ
ータに従い、掛け算回路によりゲイン補正を、加算回路
でオフセット補正を行ない副偏向ＤＡＣ１６のゲインと
オフセットを補正する。一方、ステージデータは誤差検
出回路１０によってステージ目標位置との減算を行な
い、電子ビームをステージの移動に追従させるためのフ
ィードバックデータを出力する。このフィドバックデー
タは偏向歪補正回路７を通り、ゲイン／オフセット補正
回路８によってステージフィドバックＤＡＣ１７のゲイ
ン補正とオフセット補正を行なう。
１は副偏向ＤＡＣ１６とステージフィードバックＤＡＣ
１７の両方についてゲイン、オフセット補正を行なう回
路である。副偏向電極に与えられる描画データは、偏向
歪補正回路５を通り掛け算回路と加算回路から構成され
たゲイン／オフセット補正回路６に入力する。このゲイ
ン／オフセット補正回路は、ＣＰＵで設定されたパラメ
ータに従い、掛け算回路によりゲイン補正を、加算回路
でオフセット補正を行ない副偏向ＤＡＣ１６のゲインと
オフセットを補正する。一方、ステージデータは誤差検
出回路１０によってステージ目標位置との減算を行な
い、電子ビームをステージの移動に追従させるためのフ
ィードバックデータを出力する。このフィドバックデー
タは偏向歪補正回路７を通り、ゲイン／オフセット補正
回路８によってステージフィドバックＤＡＣ１７のゲイ
ン補正とオフセット補正を行なう。
【００１３】ゲイン／オフセット補正回路６，８は、ゲ
イン補正係数およびオフセット補正量をそれぞれＣＰＵ
から設定して所定の補正演算を行なう。
イン補正係数およびオフセット補正量をそれぞれＣＰＵ
から設定して所定の補正演算を行なう。
【００１４】以上のように動作するゲイン／オフセット
補正回路を副偏向ＤＡＣとステージフィードバックＤＡ
Ｃの前段に設けることにより、それぞれのＤＡＣとその
周辺アナログ回路におけるゲイン誤差、オフセット誤差
を解消することができるため、電子ビームによる高精度
の描画が可能となる。
補正回路を副偏向ＤＡＣとステージフィードバックＤＡ
Ｃの前段に設けることにより、それぞれのＤＡＣとその
周辺アナログ回路におけるゲイン誤差、オフセット誤差
を解消することができるため、電子ビームによる高精度
の描画が可能となる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図を用いて
説明する。図１は本発明の一実施例のブロック図であ
る。ＣＰＵ１は描画のための制御および各種のパラメー
タデータを設定するための描画制御計算機であり、ＤＳ
Ｐ（Digital Signal Processor）に置き換えることも可
能である。また、パターンメモリ２は描画データが格納
されているメモリである。描画データ発生回路３はパタ
ーンメモリ２のデータを入力し、描画データの各座標を
発生する回路であり、ブランキング信号、可変成形デー
タＷ，Ｈ、主偏向データＸｍ，Ｙｍ、副偏向データＸ
ｓ，Ｙｓを演算して出力する。また、ブランキングアン
プ１２、成形ＤＡＣ１３、主偏向ＤＡＣ１４は、それぞ
れブランキング電極２０、可変成形電極２１、主偏向コ
イル２２を駆動する。電子銃１９より放出された電子ビ
ームはブランキング電極２０でＯＮ／ＯＦＦされ、可変
成形電極２１、主偏向コイル２２、副偏向電極２３によ
って偏向され、ステージ２５に装着されたウエーハ２４
に照射されパターンを描画する。
説明する。図１は本発明の一実施例のブロック図であ
る。ＣＰＵ１は描画のための制御および各種のパラメー
タデータを設定するための描画制御計算機であり、ＤＳ
Ｐ（Digital Signal Processor）に置き換えることも可
能である。また、パターンメモリ２は描画データが格納
されているメモリである。描画データ発生回路３はパタ
ーンメモリ２のデータを入力し、描画データの各座標を
発生する回路であり、ブランキング信号、可変成形デー
タＷ，Ｈ、主偏向データＸｍ，Ｙｍ、副偏向データＸ
ｓ，Ｙｓを演算して出力する。また、ブランキングアン
プ１２、成形ＤＡＣ１３、主偏向ＤＡＣ１４は、それぞ
れブランキング電極２０、可変成形電極２１、主偏向コ
イル２２を駆動する。電子銃１９より放出された電子ビ
ームはブランキング電極２０でＯＮ／ＯＦＦされ、可変
成形電極２１、主偏向コイル２２、副偏向電極２３によ
って偏向され、ステージ２５に装着されたウエーハ２４
に照射されパターンを描画する。
【００１６】本実施例は、ステージ２５を連続移動し
て、電子ビームをステージの動作に追従させ副偏向電極
２３にフィードバックしてパターンを描画する電子ビー
ム露光装置である。連続移動するステージに追従して電
子ビームを偏向する方法として、ステージ位置検出回路
１１のステージ位置データと目標位置設定回路９にＣＰ
Ｕ１から、逐次、設定される目標位置設定値との誤差を
誤差検出回路１０で検出し、ステージフィードバックＤ
ＡＣ１７でアナログ信号に変換し、加算回路１５で描画
位置データである副偏向信号と加算した後、副偏向電極
２３に印加し電子ビームを偏向する。
て、電子ビームをステージの動作に追従させ副偏向電極
２３にフィードバックしてパターンを描画する電子ビー
ム露光装置である。連続移動するステージに追従して電
子ビームを偏向する方法として、ステージ位置検出回路
１１のステージ位置データと目標位置設定回路９にＣＰ
Ｕ１から、逐次、設定される目標位置設定値との誤差を
誤差検出回路１０で検出し、ステージフィードバックＤ
ＡＣ１７でアナログ信号に変換し、加算回路１５で描画
位置データである副偏向信号と加算した後、副偏向電極
２３に印加し電子ビームを偏向する。
【００１７】描画データ発生回路３から出力される副偏
向データは、偏向歪補正回路５によって、補正係数演算
回路４で算出された補正係数により副偏向電極２３の偏
向歪の補正を行ない、ゲイン／オフセット補正回路６に
入力する。一方、ステージ移動にともなう追従データ
は、偏向歪補正演算回路７によって偏向歪補正演算回路
５と同様の歪補正演算を行ない、ゲイン／オフセット補
正回路８に入力する。
向データは、偏向歪補正回路５によって、補正係数演算
回路４で算出された補正係数により副偏向電極２３の偏
向歪の補正を行ない、ゲイン／オフセット補正回路６に
入力する。一方、ステージ移動にともなう追従データ
は、偏向歪補正演算回路７によって偏向歪補正演算回路
５と同様の歪補正演算を行ない、ゲイン／オフセット補
正回路８に入力する。
【００１８】副偏向ＤＡＣ１６とステージフィードバッ
クＤＡＣ１７のゲインとオフセットは必ずしも一致して
いないため、これを補正して一致させる必要がある。し
かし、偏向歪補正回路５，６は副偏向電極の偏向歪補正
を行なう回路であり、副偏向ＤＡＣ１６やステージフィ
ードバックＤＡＣ１７のゲインやオフセットの補正を行
なうことは不可能である。
クＤＡＣ１７のゲインとオフセットは必ずしも一致して
いないため、これを補正して一致させる必要がある。し
かし、偏向歪補正回路５，６は副偏向電極の偏向歪補正
を行なう回路であり、副偏向ＤＡＣ１６やステージフィ
ードバックＤＡＣ１７のゲインやオフセットの補正を行
なうことは不可能である。
【００１９】本発明は、副偏向ＤＡＣ１６およびステー
ジフィードバックＤＡＣ１７のゲインとオフセットを一
致させるために、ゲイン／オフセット補正回路６，８を
設け、マーク検出手段やＤＡＣの校正手段を用いて、副
偏向ＤＡＣ１６とステージフィードバックＤＡＣ１７の
ゲインとオフセットの誤差を検出し、ゲイン／オフセッ
ト補正回路６，８にＣＰＵから補正用のパラメータを設
定し、ゲインとオフセットを補正する。
ジフィードバックＤＡＣ１７のゲインとオフセットを一
致させるために、ゲイン／オフセット補正回路６，８を
設け、マーク検出手段やＤＡＣの校正手段を用いて、副
偏向ＤＡＣ１６とステージフィードバックＤＡＣ１７の
ゲインとオフセットの誤差を検出し、ゲイン／オフセッ
ト補正回路６，８にＣＰＵから補正用のパラメータを設
定し、ゲインとオフセットを補正する。
【００２０】図２は本発明のゲイン／オフセット補正回
路とその周辺回路のブロック図である。偏向歪補正演算
回路５から出力される副偏向データＸｓはゲイン／オフ
セット補正回路６１により、ゲイン補正係数ＸｓＧおよ
びオフセット補正量ＸｓＯを用いてゲインとオフセット
量の補正を行ない、Ｘ副偏向ＤＡＣ１６１でアナログ信
号に変換され加算回路１５１に入力する。一方、偏向歪
補正演算回路７から出力されるステージ位置追従データ
は、ゲイン／オフセット補正回路６２によりゲイン補正
係数ＸｓｔＧおよびオフセット補正量ＸｓｔＯによって
ゲインとオフセット量の補正を行ない加算回路１５１に
入力される。加算回路１５１の出力は、Ｘ偏向信号ＸＤ
ＥＦとなり、Ｘ方向の副偏向電極２３Ｘに印加される。
路とその周辺回路のブロック図である。偏向歪補正演算
回路５から出力される副偏向データＸｓはゲイン／オフ
セット補正回路６１により、ゲイン補正係数ＸｓＧおよ
びオフセット補正量ＸｓＯを用いてゲインとオフセット
量の補正を行ない、Ｘ副偏向ＤＡＣ１６１でアナログ信
号に変換され加算回路１５１に入力する。一方、偏向歪
補正演算回路７から出力されるステージ位置追従データ
は、ゲイン／オフセット補正回路６２によりゲイン補正
係数ＸｓｔＧおよびオフセット補正量ＸｓｔＯによって
ゲインとオフセット量の補正を行ない加算回路１５１に
入力される。加算回路１５１の出力は、Ｘ偏向信号ＸＤ
ＥＦとなり、Ｘ方向の副偏向電極２３Ｘに印加される。
【００２１】また、Ｙ方向の偏向についても同様に、副
偏向データＹｓとステージ位置追従データＹｓｔについ
て、ゲイン、オフセット補正データＹｓＧ，ＹｓＯおよ
びＹｓｔＧ，ＹｓｔＯを用いてゲイン／オフセット補正
回路８１，８２で補正した後、Ｙ偏向ＤＡＣ１７１とＹ
ステージフィドバックＤＡＣ１７２でアナログ信号に変
換され、加算回路１５２で加算された後、Ｙ方向の副偏
向電極２３Ｙに印加される。
偏向データＹｓとステージ位置追従データＹｓｔについ
て、ゲイン、オフセット補正データＹｓＧ，ＹｓＯおよ
びＹｓｔＧ，ＹｓｔＯを用いてゲイン／オフセット補正
回路８１，８２で補正した後、Ｙ偏向ＤＡＣ１７１とＹ
ステージフィドバックＤＡＣ１７２でアナログ信号に変
換され、加算回路１５２で加算された後、Ｙ方向の副偏
向電極２３Ｙに印加される。
【００２２】図３はゲイン／オフセット補正回路図の一
例である。ゲイン／オフセット補正回路は掛け算器２７
とビットシフタ２８、加算器２９および３０によって構
成し、偏向入力データＸｓＤＡＴＡに対して次式のよう
な演算を行ない補正後の偏向データＸｓＯＵＴを出力す
る。 ＸｓＯＵＴ＝ＸｓＤＡＴＡ＋｛（ＸｓＧ馬力Ｘ’ＤＡＴＡ）／２15｝＋ＸｓＯ 但し、Ｘ’ＤＡＴＡ＝ＸＤＡＴＡ／４とする。図３はゲ
イン／オフセット補正回路の一詳細図であるが、図２の
ゲイン／オフセット補正回路６１，６２，８１，８２は
全て同様な回路であり、図３の回路をゲートアレイ等に
よってＬＳＩ化することにより、本補正回路の小型化を
図ることができる。
例である。ゲイン／オフセット補正回路は掛け算器２７
とビットシフタ２８、加算器２９および３０によって構
成し、偏向入力データＸｓＤＡＴＡに対して次式のよう
な演算を行ない補正後の偏向データＸｓＯＵＴを出力す
る。 ＸｓＯＵＴ＝ＸｓＤＡＴＡ＋｛（ＸｓＧ馬力Ｘ’ＤＡＴＡ）／２15｝＋ＸｓＯ 但し、Ｘ’ＤＡＴＡ＝ＸＤＡＴＡ／４とする。図３はゲ
イン／オフセット補正回路の一詳細図であるが、図２の
ゲイン／オフセット補正回路６１，６２，８１，８２は
全て同様な回路であり、図３の回路をゲートアレイ等に
よってＬＳＩ化することにより、本補正回路の小型化を
図ることができる。
【００２３】図４は本発明の他の実施例である。図４は
図１の実施例について副偏向ＤＡＣ１６の入力にのみゲ
イン／オフセット補正回路６を設けたものであり、ステ
ージフィードバックＤＡＣ１７のゲインとオフセットを
基準として副偏向ＤＡＣ１６のゲインとオフセットをゲ
イン／オフセット補正回路６で補正する。このようなゲ
イン／オフセット補正回路を設けることにより、ステー
ジを連続移動させて描画を行なう電子ビーム露光装置に
おいて、描画データとステージフィードバックデータの
それぞれのＤＡＣの間で生じるゲイン誤差やオフセット
誤差をおさえることができる。
図１の実施例について副偏向ＤＡＣ１６の入力にのみゲ
イン／オフセット補正回路６を設けたものであり、ステ
ージフィードバックＤＡＣ１７のゲインとオフセットを
基準として副偏向ＤＡＣ１６のゲインとオフセットをゲ
イン／オフセット補正回路６で補正する。このようなゲ
イン／オフセット補正回路を設けることにより、ステー
ジを連続移動させて描画を行なう電子ビーム露光装置に
おいて、描画データとステージフィードバックデータの
それぞれのＤＡＣの間で生じるゲイン誤差やオフセット
誤差をおさえることができる。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、副偏向ＤＡＣ（周辺ア
ナログ回路を含む）とステージフィードバックＤＡＣ
（周辺アナログ回路を含む）で生じるゲインやオフセッ
トの誤差を補正できるため、ステージ連続移動による電
子ビーム露光装置において、高精度にパターンを描画す
ることが可能になる。
ナログ回路を含む）とステージフィードバックＤＡＣ
（周辺アナログ回路を含む）で生じるゲインやオフセッ
トの誤差を補正できるため、ステージ連続移動による電
子ビーム露光装置において、高精度にパターンを描画す
ることが可能になる。
【００２５】また、従来、副偏向ＤＡＣやステージフィ
ードバックＤＡＣのゲインやオフセットは高精度な調整
が必要であったが、本発明回路を使用することによりＤ
ＡＣとその周辺回路のゲインやオフセットの調整に高い
精度を必要としないため、調整時間が短縮できる。
ードバックＤＡＣのゲインやオフセットは高精度な調整
が必要であったが、本発明回路を使用することによりＤ
ＡＣとその周辺回路のゲインやオフセットの調整に高い
精度を必要としないため、調整時間が短縮できる。
【図１】本発明の一実施例のブロック図。
【図２】本発明のゲイン／オフセット補正回路とその周
辺回路図。
辺回路図。
【図３】ゲイン／オフセット補正回路図。
【図４】本発明の他の実施例のブロック図。
１…描画制御用ＣＰＵ、２…パターンメモリ、３…描画
データ発生回路、４…補正係数演算回路、５、７…偏向
歪補正回路、６、８…ゲイン／オフセット補正回路、９
…目標位置設定回路、１０…誤差検出回路、１１…ステ
ージ位置検出回路、１５…加算回路、１６…副偏向ＤＡ
Ｃ、１７…ステージフィードバックＤＡＣ、２３…副偏
向電極、２４…試料、２５…ステージ。
データ発生回路、４…補正係数演算回路、５、７…偏向
歪補正回路、６、８…ゲイン／オフセット補正回路、９
…目標位置設定回路、１０…誤差検出回路、１１…ステ
ージ位置検出回路、１５…加算回路、１６…副偏向ＤＡ
Ｃ、１７…ステージフィードバックＤＡＣ、２３…副偏
向電極、２４…試料、２５…ステージ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−250614（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027
Claims (3)
- 【請求項１】試料を搭載したステージを連続移動し、描
画すべきパターンの位置データとステージの位置誤差デ
ータとを加算して、一つの副偏向電極に印加し、前記パ
ターンを前記試料上に描画する電子ビーム露光装置にお
いて、副偏向データ発生手段と副偏向ＤＡ変換手段との
間と、ステージ位置誤差検出手段とステージフィードバ
ックＤＡ変換手段との間の、両方またはどちらか一方
に、前記ＤＡ変換手段のゲイン調整手段とオフセット調
整手段を設け、前記ゲイン調整とオフセット調整を、描
画制御用計算機から行なうことを特徴とする電子ビーム
露光装置。 - 【請求項２】請求項１において、前記ゲイン調整手段と
前記オフセット調整手段にディジタル回路を用い、掛け
算回路と加算回路とで構成されたゲイン／オフセット補
正回路を設けた電子ビーム露光装置。 - 【請求項３】請求項２において、前記ゲイン／オフセッ
ト補正回路をＬＳＩ化した電子ビーム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32025391A JP3245201B2 (ja) | 1991-12-04 | 1991-12-04 | 電子ビーム露光装置 |
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| JP32025391A JP3245201B2 (ja) | 1991-12-04 | 1991-12-04 | 電子ビーム露光装置 |
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| JPH05160008A JPH05160008A (ja) | 1993-06-25 |
| JP3245201B2 true JP3245201B2 (ja) | 2002-01-07 |
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1991
- 1991-12-04 JP JP32025391A patent/JP3245201B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH05160008A (ja) | 1993-06-25 |
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